「processing flow」を含む例文一覧(1774)
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隣接する一対の導電層間を分離するための凹部にシリコン酸化膜を隙間なく埋め込むことができるようにすると共に、このシリコン酸化膜のリフロー処理を省略できるようにする。 - 特許庁 - To provide a surface melting furnace capable of unifying and increasing a surface temperature by generating swirl flow of a combustion gas in a combustion chamber, increasing processing efficiency and preventing blockage of a slag port.
燃焼室内で燃焼ガスの旋回流を発生させて炉内温度の均一化および高温化を図り、処理効率を高め、併せてスラグポートの閉塞を防止できる表面溶融炉を提供する。 - 特許庁 - To provide a document management system capable of collecting information from all accessed logs of user operation flow in the past and preferentially displaying processing predicted to be performed next by a user on menu display.
過去のユーザ操作フローを全アクセスログより情報を収集して、次にユーザが行うと予想される処理をメニュー表示上で優先的に表示させることが可能な文書管理システムを提供する。 - 特許庁 - The injecting direction of air from the air injecting nozzle 7 is set such that the air flows across a laser beam irradiated from the laser processing head 3 while the air flow avoids direct contact with the laser irradiating point P on the workpiece.
空気噴射ノズル７からの空気の噴射方向はレーザ加工ヘッド３から照射されたレーザ光を横切り、かつレーザ照射点Ｐに噴射空気が直接当たらないようにする。 - 特許庁 - A processing unit constituting means 132 of the input buffer 13 outputs a packet flow 112 per process unit composed of free areas and a process result storing area added to one or a plurality of packet units.
入力バッファ部１３の処理単位構成手段１３２が、１つのまたは複数のパケット単位に空きエリアと処理結果格納エリアを追加した処理単位のパケットフロー１１２を出力する。 - 特許庁 - To provide a compact current-carrying heating device capable of processing a large flow object to be heated and making a passage resistance small, and suitable for preventing the object to be heated from holding and burning.
大流量の被加熱物の処理を可能とし、被加熱物の流路抵抗を小さくし、被加熱物の滞留および焦げ付きの防止に好適な、コンパクトな通電加熱装置を提供することにある。 - 特許庁 - A support menu display command is transmitted from a main control board 61 by processing at the step 101 in the main flow and a sub CPU 82 judges whether a support menu display demand exists or not (step 162).
サブＣＰＵ８２は、メインフローにおけるステップ１０１の処理でサポートメニュー表示指令がメイン制御基板６１から送信されて、サポートメニュー表示要求があるか否かを判別する（ステップ１６２）。 - 特許庁 - Substrates 9 and 15 are placed inside processing chambers 2 and 12 of antenna type plasma CVDs 1 and 11, and carbon nanotubes are formed on the substrates 9 and 15 when the inside of the processing chambers 2 and 12 is decompressed to a predetermined pressure under the flow of a material gas and plasma is produced from the end 6a of an antenna 6.
アンテナ型プラズマＣＶＤ１，１１の処理室２，１２内に基板９，１５を配置し、原料気体の流通下、処理室２，１２内を所定の圧力に減圧し、アンテナ６の先端６ａからプラズマを発生させて基板９，１５上にカーボンナノチューブを形成する。 - 特許庁 - The gas containing a solvent delivered to a reflow processing space S forms a unidirectional flow toward the solvent suction port 75 and when the solvent in the atmosphere of the reflow processing space is sucked to a resist on the surface of the substrate G, the resist is softened and fluidized, thus forming a deformation resist pattern.
リフロー処理空間Ｓへ吐出された溶剤を含む気体は、溶剤吸入口７５へ向かう一方向の流れを形成し、基板Ｇ表面のレジストにリフロー処理空間の雰囲気中の溶剤が吸収されることにより、レジストが軟化して流動化し、変形レジストパターンが形成される。 - 特許庁 - This system performs processing wherein a fluid field HF is found by simulating variations in flow speed vectors at respective grid intersections and a fluid field HF' after correction processing is found according to the HF and a correction field CF to move an object according to the HF' and generates the particles representing fluid.
各格子点での流速ベクトルの変化をシミュレーションすることで流体場ＨＦを求め、ＨＦと補正場ＣＦに基づき補正処理後の流体場ＨＦ’を求め、ＨＦ’に基づきオブジェクトを移動させる処理や流体表現パーティクルを発生する処理を行う。 - 特許庁 - To provide a silicon seed where the cross-section of a core material of an erecting part is processed in a polygonal shape to improve the current-carrying state and the flow of raw material gas in a furnace, regarding a rod-like core material such as a silicon seed used for producing a polycrystalline silicon rod, and to provide a processing method and processing apparatus of the silicon seed.
多結晶シリコンロッドの製造に用いるシリコンシード等の棒状芯材について、立設部分の芯材の断面を多角形に加工して通電状態および原料ガスの炉内での流れを良好にしたシリコンシードとその加工方法および加工装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a scroll compressor in which noise due to a back-flow of compressed fluid remaining in a central compression chamber including a discharge port can be reduced by changing the shape of the discharge port, and which facilitates processing thereof, and to provide a method for processing the discharge port.
吐出ポートの形状を変えることにより、吐出ポートを含む中央圧縮室に残留している圧縮流体の逆流による騒音を低減できるとともに、その加工を簡易化できるスクロール圧縮機およびその吐出ポート加工方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a material storage container, capable of supplying a processing fluid such as a gasifying material in a vaporized or sublimed state, reducing the capacity of an internal flow passage while securing mounting strength by mounting accumulation valves in an integrated state, and further preventing the processing fluid from being left inside.
ガス化用材料等の処理体を気化又は昇華させて供給でき、集積弁を集積化した状態で取付けて取付け強度を確保しつつ内部流路の容積を小さくし、かつ、内部への処理体の残留を防ぐことができる材料収納容器を提供する。 - 特許庁 - Via the calling of a pre-processing and a post-processing at the time of file creation request, the CSC mechanism creates file-associated data structures, overwrites information in these structures, calls back to a network redirectors, and inserts itself to a communication flow between the network redirector and a buffering service.
ファイル作成要求時の前処理および後処理の呼出しを介して、ＣＳＣ機構は、ファイル関連データ構造を作成しこれらの構造内の情報を上書きして、ネットワークリダイレクタにコールバックし、それ自体をネットワークリダイレクタとバッファリングサービスの間の通信フローに挿入する。 - 特許庁 - To provide a blood processing filter which hardly causes cohesiveness between a container and a filtering element even when the positive pressure on the inlet side and the negative pressure on the outlet side are generated on filtering, which can thereby hasten a blood processing speed by securing the uniform flow of blood, and further which excels in the sterilization in an autoclave.
濾過時に入口側の陽圧と出口側の陰圧とが生じても容器とフィルター要素との間で密着し難く、その結果、血液の均一な流れを確保して血液処理速度を速めることができ、更にオートクレーブでの滅菌性に優れた血液処理フィルターを提供することにある。 - 特許庁 - After the substrate 1 is rotated a prescribed number of times, since the substrate 1 is rotated in a direction opposite to a direction, until then; the direction where the treatment liquid flows is changed halfway, and processing advances to a part where processing has not advanced in the flow of the treatment liquid, until then; and the substrate 1 is treated uniformly.
基板１を所定時間回転した後、基板１をそれまでと逆方向へ回転するので、処理液の流れる方向が途中で変化し、それまでの処理液の流れでは処理が進んでいなかった部分で処理が進行して、基板１の処理が均一に行われる。 - 特許庁 - Since the foreign matters adhered or sucked to the exhaust port and the exhaust pipes are prevented from flowing back to the processing chamber by supplying the nitrogen gas while evacuating and exhausting the processing chamber in the standby step, harmful effects such as re-adhesion of the foreign matters which flow back to the wafer can be prevented.
待機ステップにおいて処理室を減圧排気しつつ窒素ガスを供給することで、排気口や排気管に付着ないし吸着した異物が処理室に逆流するのを防止できるため、逆流した異物のウエハへの再付着等の弊害を未然に防止できる。 - 特許庁 - An optimum frame rate calculation part 7 calculates an optimum frame rate to satisfy requested precision according to the result of the statistical processing by the processing part 6 and the requested precision inputted from a requested precision input part 3 if the optical flow does not reaches the requested precision.
最適フレームレート算出部７は、オプティカルフロー場統計処理部６による統計処理の結果と、要求精度入力部３から入力された要求精度と、に基づいて、オプティカルフローが要求精度に満たないときに、その要求精度を満たすために最適フレームレートを計算する。 - 特許庁 - To provide a burner which is free of problem to occurrence of particles, in both of the case where hydrogen gas/oxygen gas is at a usual mixture ratio and the case of steam oxidation processing utilizing low-flow hydrogen gas or steam oxidation processing utilizing the mixture ratio between low hydrogen gas/oxygen gas.
水素ガス／酸素ガスが通常の混合比の場合と低流量水素ガス利用水蒸気酸化処理や低水素ガス／酸素ガスの混合比利用水蒸気酸化処理の場合の両方において、パーティクル発生に対して問題の無い燃焼装置を提供することを目的とするものである。 - 特許庁 - The air, containing the mist of a processing liquid which is generated in the lower cup 30, is pressed by this downward oblique airflow to turn and hardly to the front and rear surfaces of the substrate 1, and further, not to flow from the clearance between the upper and lower cups 40, 30 to the outside of its processing chamber.
下カップ３０内で発生した処理液のミストを含む空気は、この斜め下向きの空気の流れに押されて、基板１の表面及び裏面へ回り込むことがほとんどなく、さらに上カップ４０と下カップ３０との隙間から処理室の外へ流れることもない。 - 特許庁 - This polishing method is characterized by guiding a jet so as to flow along the processing surface 10 of the workpiece, by sucking the jet, by generating the jet of the abrasive by injecting the abrasive into the processing surface 10 of the workpiece together with a compressed fluid.
被加工物の加工表面１０に対して圧縮流体と共に研磨材を噴射して研磨材の噴流を生じさせると共に、前記噴流を吸引して、該噴流が前記被加工物の加工表面１０に沿って流れるよう誘導することを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a processing system which can uniformalize flow of gas and the form of a plasma, provide a small processing system by the occupation area of the device, reduce the loss of high-frequency power put in a high-frequency plasma process, and generate and maintain the plasma efficiently.
ガスの流れやプラズマ形状を均一にすることが可能であり、かつ、装置の占有面積が小さなプロセス装置を提供すること、高周波プラズマプロセスで投入した高周波電力の損失を減らし、効率的にプラズマを発生、維持させることが可能なプロセス装置を提供すること。 - 特許庁 - The substrate 5 is processed with the drug solution by supplying a drug solution 6 deteriorated in performance owing to moisture absorption onto the substrate 5 from a supply nozzle 3 penetrating the side wall of the processing container 2 while rotating the substrate 5 utilizing a rotating stage 7 after producing the flow of the dry air in the processing container 2.
処理容器２に乾燥空気の流れを発生させた後、回転ステージ７により基板５を回転させながら、処理容器２側壁を貫通する供給ノズル３から基板５上に吸湿により性能が劣化する薬液６を供給することにより、基板５の薬液処理を行う。 - 特許庁 - When the exposure processing is performed by jetting air from a chuck 4 of an exposure machine and pushing up a flexible substrate 3, the exposure processing is performed by expelling air bubbles 5 generated between the photomask 1 and a photosensitive material 2 by using the chuck 4 of the exposure machine which is high in the air pressure or velocity of flow in the central part in exposure.
露光機のチャック４からエア−を噴射してフレキシブル基板３を押し上げて露光処理する場合、露光時に中央部のエア−圧又は流速が高い露光機のチャック４を用いてフォトマスク１と感光性材料２の間に発生する気泡５を追い出して露光処理する。 - 特許庁 - A down flow is formed in the carrying path 31 and wafer carrying mechanisms 32, 33 for making a wafer W horizontal, when the wafer W is carried into and out of the processing unit, and for carrying the wafer in a nearly vertical position at least temporarily, except when the wafer W is carried into and out of the processing unit.
搬送路３１内にはダウンフローが形成され、処理ユニットに対する搬入・搬出時にウエハＷを水平とし、各処理ユニットに対する搬入・搬出時以外は、少なくとも一時ウエハＷを略垂直として搬送するウエハ搬送機構３２、３３が設けられている。 - 特許庁 - In this blood processing apparatus, a connecting tube part 18 arranged in a blood inflow/outflow part of a blood processing apparatus main body and connected to the tube for forming the blood flow passage can be turned horizontally and the tilt angle in the vertical direction can be adjusted.
血液処理器本体の血液流入部または血液流出部に設けられて、血液流路形成用のチューブと接続される接続用管部１８が、水平方向へ旋回可能かつ鉛直方向の傾斜角度を調整可能とされていることを特徴とする血液処理器。 - 特許庁 - As a result, for example, even if an original blood flow part is removed or converted into an extremely small value by a clutter removal processing, the value is upward corrected by the correction processing to suppress the generation of blanking in a power Doppler image formed of sample data rows after the correction.
その結果、例えば、クラッタ除去処理により本来の血流部分が除去あるいは極端に小さな値に変換されてしまった場合でも、補正処理によりその値が上方に補正され、補正後のサンプルデータ列から形成されるパワードプラ画像上における黒抜けの発生などが抑えられる。 - 特許庁 - A view flow controller 21 receives event ID and an input parameter indicating the classification of processing from a browser 12, and converts the event ID into corresponding scenario ID on accepting a request for the processing of an application, and transfers it with an input parameter through a proxy 25 to a facade 31.
ビューフローコントローラ２１は、ブラウザ１２から処理の種別を示すイベントＩＤ及び入力パラメータを受信し、アプリケーションの処理の要求を受け付けると、イベントＩＤを対応するシナリオＩＤに変換し、入力パラメータとともに、プロキシ２５を介してファサード３１へ受け渡す。 - 特許庁 - To provide a substrate processing device and a substrate processing method, which prevents residual process liquid from falling from a process liquid discharge opening provided at a central axis member by air flow generated in a gap space formed between a shielding member and a substrate top face.
遮断部材と基板上面との間に形成される間隙空間に発生する気流によって中心軸部材に設けられた処理液吐出口から残留処理液が落下するのを防止することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁 - An ID identification section 122 and a processing flow control section 123 read a processing rule corresponding to a group of identification information comprising the same identification information as a plurality of pieces of identification information inputted by an input section 121 from a rule storage section 14 by referring to an ID combination definition section 15.
ＩＤ識別部１２２および処理フロー制御部１２３は、入力部１２１で入力された複数の識別情報と同一の識別情報からなる識別情報群に対応付けられた処理ルールを、ＩＤ組合せ定義部１５を参照しつつルール記憶部１４から読み出す。 - 特許庁 - In the common rail for diesel engine composed of a main pipe rail having a flow channel along its axis core with the branching hole formed so as to link with the flow channel, auto-frettage processing is implemented on the entire internal peripheral surface and the branching hope portion, after stress concentration near the branching hole is relaxed.
軸芯方向内部に流通路を有する本管レールに、前記流通路に連通する分岐孔を穿設したディーゼルエンジン用コモンレールにおいて、前記分岐孔付近の応力集中を緩和した上で、当該レールの内周面全体および分岐孔にオートフレッテージ加工を施したことを特徴とする。 - 特許庁 - A control part 4 controls the switching valves when a supply quantity of the oxidation gas supplied from the compressor 30 is a predetermined lower limit value or less, and supplies the oxidation off-gas from at least one supply flow passage, and performs gas supply control processing for supplying the oxidation gas from its other supply flow passage.
制御部４は、コンプレッサ３０から供給される酸化ガスの供給量が所定の下限値以下である場合に、切換弁を制御して、少なくとも一の供給流路からは酸化オフガスを供給させ、その他の供給流路からは酸化ガスを供給させるガス供給制御処理を実行する。 - 特許庁 - The pseudo flow shop 3 comprises cells 3a, 3b each including a group of manufacturing apparatuses which is a required minimum unit in a manufacturing process flow; and each manufacturing apparatus is well-balanced for the productivity by taking into account factors such as the processing capability, frequency of maintenance, maintenance time, frequency of occurrence of failures, and a difference from repair times in each manufacturing apparatus.
擬似フローショップ３には、各製造装置の処理能力、保全頻度、保全時間、故障頻度、および修理時間の差などの要因が考慮されて生産性にバランスを取ることのできる製造装置が、製造工程フローにおける必要最小単位の製造装置群としてセル３ａ，３ｂに分割されている。 - 特許庁 - To provide a method for controlling a flow rate of a gas in a bottom-blow converter, which can surely prevent downtime from occurring due to the safe processing of urgently changing the gas or avoiding such a serious trouble that the bottom of the converter falls out because the bottom cannot maintain the back pressure of a tuyere, when controlling the flow rate during the gas blow by bottom-blowing.
底吹吹錬時の流量制御にあたって、緊急ガス変更という安全処理によるダウンタイムの発生、あるいは羽口の背圧が保てなくなり、転炉の底が抜けてしまうという重大トラブルを確実に避けることができる、底吹転炉のガス流量制御方法を提供することを課題とする。 - 特許庁 - To provide a semiconductor manufacturing apparatus and a semiconductor manufacturing method, capable of executing film deposition processing, while reducing the distance between a flow-straightening plate and a wafer without opening a reaction chamber and varying a space volume of the upper part of the flow straightening plate, thereby improving the productivity and uniformity of film thickness.
反応室を開放することなく、かつ、整流板上部の空間容積を変動させることなく、整流板とウェーハの距離を近づけて成膜処理を行うことができ、生産性、膜厚均一性を向上させることが可能な半導体製造装置および半導体製造方法を提供する。 - 特許庁 - In a susceptor 12 in which a heater unit 14, a refrigerant flow passage 15 and a refrigerant chamber 16 are incorporated and on which a wafer W to be subjected to plasma etching processing is mounted, a refrigerant flows in the refrigerant flow passage 15 and refrigerant chamber 16 and when the heater unit 14 generates heat, the refrigerant stops flowing in the refrigerant chamber 16.
ヒータユニット１４と、冷媒流路１５と、冷媒室１６とを内蔵し、プラズマエッチング処理が施されるウエハＷを載置するサセプタ１２において、冷媒流路１５及び冷媒室１６の内部を冷媒が流れ、ヒータユニット１４が発熱する際に冷媒室１６において冷媒の流れが停止する。 - 特許庁 - In a bake furnace used for PEB, through an exhaust path from a dispersed exhaust hole provided in the center of the top plate, a flow of dry air, entering a bake processing chamber, from a periphery of the wafer toward the center of the wafer and a flow of dry air from nearby the center of the wafer toward a peripheral part are formed, so that the dry air is exhausted to the outside.
ＰＥＢで使用するベーク炉では天板の中央に設けられた分散排気孔から排気通路を介して、ウエハの周辺からベーク処理室に入ったドライエアがウエハの中心方向に向かう流れ、およびウエハの中心近傍から周辺部へ向かう流れを形成して、外部に排出される。 - 特許庁 - At the time, a prescribed amount of bubbles is left in the air trap unit 11 due to the space 11g to be formed of a second lib 22 provided at the ceiling part of the air trap unit 11 crossing the direction of the ink flow and the ceiling part on a downstream side of the second lib 22, and also by the ink flow to be generated by a reset purge processing.
この際、エアトラップ１１の天井部にインクの流れ方向と交差するように設けられた第２リブ２２と、その第２リブ２２の下流側の天井部とで形成された空間１１ｇによって、リセットパージ処理により生じたインクの流れによっても所定量の気泡はエアトラップユニット１１内に残留する。 - 特許庁 - To provide a technology for surely raising the temperature of a front end part vicinal part of a PM filter up to the PM regeneration temperature, by restraining switching failure and a fixation of a flow passage switching valve for switching a flow passage of exhaust gas, in PM forced regeneration processing for forcibly oxidizing and removing PM collected to the PM filter.
ＰＭフィルタに捕集されたＰＭを強制的に酸化除去するＰＭ強制再生処理に際して、排気ガスの流路を切り換える流路切換弁の切り換え不良や固着等を抑制し、且つＰＭフィルタの前端部近傍部位を確実にＰＭ再生温度まで昇温することの可能な技術を提供する。 - 特許庁 - To obtain an image flow correcting device enabled to improve visibility after correction and accurately extract a target object from image information embedded in noise by making the quantity of random noise generated in image flow correction processing nearly constant irrelevantly to the rotational angular velocity of an infrared imaging device.
赤外線撮像装置において、像流れ補正処理によって発生するランダムノイズ量を撮像装置の回転角速度にかかわらず一定とすることにより、補正後の視認性を高め、かつノイズに埋もれた画像情報のなかから目標物体を正確に抽出できるようにした像流れ補正装置を得る。 - 特許庁 - A partial control data flow graph(CDFG) including in a CDFG is preliminarily subjected to a logical synthesis and a circuit obtained by performing logical synthesis is dealt with as one node in the case of converting an operation description where only a processing operation is described is described into the CDFG consisting of a node showing an operation and input- output branches showing data flow.
処理の動作のみを記述した動作記述を、演算を示す節点とデータの流れを示す入出力枝とによって構成されるコントロールデータフローグラフ（ＣＤＦＧ）に変換する際に、ＣＤＦＧに含まれる部分ＣＤＦＧを、予め論理合成し、論理合成して得られる回路を１つの節点として扱う。 - 特許庁 - On the basis of the input information, a presumed time needed for processing the acquired cooperation flow is calculated and, when the presumed time is longer than the designated time limit, function setting of the tasks in the cooperation flow is altered so that the presumed time to be calculated is within the time limit.
この入力情報に基づいて、前記取得された連携フローの処理に要する推定時間を算出し、指定された制限時間よりも算出された推定時間が大きい場合、算出される推定時間が制限時間以下となるように連携フローにおけるタスクの機能設定を変更する。 - 特許庁 - To provide a novel filler for a filled bed capable of performing column operation for the filled bed at a high flow speed, reconciling high adsorbing capacity properties and high flow speed processing properties, increasing the amount of protein capable of being once purified for the purpose of the high adsorption capacity properties and capable of markedly increasing the refining speed.
高吸着容量性と高流速処理性を両立した、高流速で充填床用のカラム操作ができ、かつ、高吸着容量のため一度に精製できるタンパク質の量が多く、著しく精製速度を向上することが可能な充填床用の新規充填剤を提供すること。 - 特許庁 - In the traffic flow measurement system by which the traffic flow is measured by recognizing the image of the camera, two or more pairs of land marks making a pair are arranged on the both sides of a road in a camera photographing area, the land mark devices in pair are connected by a line on the image of the camera and the line is used for defining a measurement area in an image processing.
カメラの画像を認識して交通流を測定する交通流測定システムにおいて、カメラの撮影域の道路両側に、対を成すランドマーク装置を２対以上設置し、カメラの画像上で、対を成すランドマーク装置を線で結び、この線を、画像処理上の測定領域を規定する線として使用している。 - 特許庁 - The nucleation layer can be deposited by using a first process gas which contains tungsten hexafluoride, silane, molecular hydrogen and argon and has a flow ratio of molecular hydrogen to argon of about 1.5:1 and also a partial pressure of tungsten hexafluoride of 0.5 Torr or below and allowing the first process gas to flow into the substrate processing chamber.
核生成層は、六フッ化タングステン、シラン、分子水素およびアルゴンを含みアルゴンに対する分子水素の流量比が約１．５：１であり、また六フッ化タングステンの分圧が０．５トルに等しいかまったはそれ以下である第１の処理ガスを、前記基板処理チャンバ中へ流すことによって堆積される。 - 特許庁 - In the plasma processing apparatus having a plurality of gas blowoff ports 18 with respect to the side opposite to the processed material 8 for processing it, a uniform plasma processing can be performed onto the processed material, by exhausting a mixture gas comprising more than two kinds of gases with mutually different flow ratio from the mutually different exhaustion ports.
被処理体８に対する対向面に複数のガス噴出口１８を備えるガス噴出手段を備え、前記被処理体８に処理を施すプラズマ処理装置において、２種類以上の互いに異なる流量比からなる混合ガスを、互いに異なる前記ガス噴出口から噴出させることで、被処理体に均一なプラズマ処理を施すことが可能となる。 - 特許庁 - To obtain a processed surface of high quality while the surface to be processed of a workpiece is worked at a more uniform processing rate by limiting the flow of ion current passing through each part in a contact member, and, e.g., allowing one processing electrode and/or one feeding electrode to act as if a plurality of processing electrodes and/or feeding electrodes are present.
接触部材の各部位を通過するイオン電流の流れを制限し、例えば一つの加工電極及び／または給電電極にあたかも複数の加工電極及び／または給電電極が存在するように作用させることで、被加工物の被加工表面をより均一な加工速度で加工し、品質の高い加工表面を得ることができるようにする。 - 特許庁 - A sedimentation tank 5 separating an excrement into a solid component and sewage water, a flow aeration device 11 for performing biological processing while performing aeration by a number of floating contact filter materials, a membrane separation device 21 filtering by a hollow thread membrane filter, a deodorizing and discoloring device 31 deodorizing and discoloring from processed water, and a processing water storing tank 41 storing excessive processing water are provided in a casing 4.
ケーシング４内には排泄物を固形分と汚水に分離する沈分槽５、多数の浮遊接触濾材により曝気しながら生物的処理を行なう流動曝気装置１１、中空糸膜フィルタにより濾過する膜分離装置２１、処理水から異臭及び色素を除去する脱臭脱色装置３１及び過剰処理水を貯える処理水貯留槽４１が設けてある。 - 特許庁 - A workflow execution support system has a workflow storage part M1 for storing in advance a plurality of workflows and a flow of slip processing in each workflow, a slip storage part M2 for storing data entered in each slip and a processing step of each slip, and an authority storage part M3 for storing each person's authority for each kind of work and each kind of slip processing.
ワークフロー実行支援装置は、複数のワークフローと各ワークフローについての伝票処理の流れとを予め記憶させておくワークフロー記憶部Ｍ１と、各伝票に記入されるデータと各伝票の処理段階とが記憶される伝票記憶部Ｍ２と、各業務と各伝票処理とに対する各人の権限が記憶される権限記憶部Ｍ３とを有している。 - 特許庁 - A storage medium with approval flow data written is attached to a paper document, and progress information stored in an electronic approval processing apparatus, progress information on the paper document, and progress information stored in the storage medium are synchronized.
紙文書に決裁フローデータを書き込んだ記憶媒体を装着し、電子決裁処理装置が記憶する進捗情報と、紙文書上の進捗情報と、記憶媒体に記憶される進捗情報の同期をとる。 - 特許庁
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