AIRTIGHT SAMPLE HOLDER FOR X-RAY DIFFRACTION MEASUREMENT X線回折測定用気密試料ホルダー - 特許庁
To provide an X-ray diffraction measuring method facilitating X-ray diffraction measurement in a transmission method. 透過法のX線回折測定を容易としうるX線回折測定方法の提供。 - 特許庁
STRESS HOLDING DEVICE AND X-RAY DIFFRACTION DEVICE 応力保持装置およびX線回折装置 - 特許庁
CALIBRATION METHOD OF ULTRA-PRECISE X-RAY DIFFRACTION APPARATUS 超精密X線回折装置の校正法 - 特許庁
SAMPLE PRETREATMENT METHOD IN X-RAY DIFFRACTION X線回折における試料前処理方法 - 特許庁
DEVICE FOR OBSERVING BACK-REFLECTION X-RAY DIFFRACTION IMAGE 背面反射X線回折像観察装置 - 特許庁
X-RAY ANALYZER FOR HAVING FLUORESCENCE AND DIFFRACTION FOR COMMON USE 蛍光・回折共用X線分析装置 - 特許庁
TRANSMISSION TYPE DIFFRACTION GRATING FOR X-RAY, X-RAY TALBOT INTERFEROMETER AND X-RAY IMAGING APPARATUS X線用透過型回折格子、X線タルボ干渉計およびX線撮像装置 - 特許庁
SUPERCONDUCTING MAGNET UNIT FOR X-RAY DIFFRACTION APPARATUS X線回折装置用超電導磁石装置 - 特許庁
The gallium phthalocyanine compound has a diffraction peak at a Bragg angle of 26.4° to X-ray diffraction. X線回折に対するブラッグ角26.4度に回折ピークを有する。 - 特許庁
X-RAY DIFFRACTION DEVICE, DATA ANALYSIS METHOD OF X-RAY DIFFRACTION DEVICE, CONTROL METHOD OF X-RAY DIFFRACTION DEVICE AND PROGRAM FOR IMPLEMENTING THE METHOD X線回折装置、X線回折装置のデータ解析方法、X線回折装置の制御方法およびその方法を実現するためのプログラム - 特許庁
X-RAY DIFFRACTION MEASURING CONTAINER FOR THIN-FILM SAMPLE 薄膜状試料用X線回折測定容器 - 特許庁
A diffraction X-ray 5 diffraction at the sample 3 is measured in its intensity by an X-ray detector 6. 試料3で回折した回折X線5は、X線検出器6でその強度が測定される。 - 特許庁
X-RAY DIFFRACTION MICROSCOPE APPARATUS AND X-RAY DIFFRACTION MEASURING METHOD BY THE SAME X線回折顕微鏡装置およびX線回折顕微鏡装置によるX線回折測定方法 - 特許庁
X-RAY DIFFRACTION MEASURING INSTRUMENT EQUIPPED WITH DEBYE-SCHERRER OPTICAL SYSTEM AND X-RAY DIFFRACTION MEASURING METHOD THEREFOR デバイシェラー光学系を備えたX線回折測定装置とそのためのX線回折測定方法 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD FOR X-RAY PHASE TYPE DIFFRACTION GRATING AND AMPLITUDE TYPE DIFFRACTION GRATING USED FOR X-RAY TALBOT INTERFEROMETER X線タルボ干渉計に用いられる位相型回折格子と振幅型回折格子の製造方法 - 特許庁
METHOD AND PROGRAM FOR MEASURING/ANALYZING X-RAY DIFFRACTION X線回折測定解析方法及びプログラム - 特許庁
METHOD FOR CONTROLLING SCATTERING ANGLE OF INCIDENCE X RAY IN X-RAY DIFFRACTION DEVICE X線回折装置における入射X線の発散角制御方法 - 特許庁
MICRO X-RAY DIFFRACTION MEASURING METHOD AND MICRO X- RAY DIFFRACTOMETER 微小部X線回折測定方法及び微小部X線回折装置 - 特許庁
The positive electrode active material has a diffraction peak at 8.4-10.4° of a diffraction angle 2θ in X-ray diffraction by a CuKα ray. 該正極活物質は、CuKα線によるX線回折において、回折角2θの8.4〜10.4度の位置に回折ピークを有する。 - 特許庁
CALIBRATION METHOD FOR TEMPERATURE IN X-RAY DIFFRACTION MEASUREMENT APPARATUS X線回折測定装置の温度較正方法 - 特許庁
MICRO-PORTION X-RAY IRRADIATION DEVICE AND MICRO-PORTION X-RAY IRRADIATION METHOD OF X-RAY DIFFRACTION DEVICE X線回折装置の微小部X線照射装置及び微小部X線照射方法 - 特許庁
The sample for X-ray diffraction measurement is analyzed by an X-ray diffraction device, to thereby measure the asbestos content. このX線回折測定用試料をX線回折装置で分析しアスベスト含有量を測定する。 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR CONTROLLING X-RAY DIFFRACTION INSTRUMENT X線回折装置の制御方法及び制御装置 - 特許庁
METHOD OF DYNAMICALLY DISPLAYING SCATTERING VECTOR OF X-RAY DIFFRACTION X線回折の散乱ベクトルの動的表示方法 - 特許庁
SAMPLE STAND-EXCHANGING DEVICE IN X-RAY DIFFRACTION APPARATUS X線回折装置における試料台交換装置 - 特許庁
PARALLEL X-RAY BEAM EXTRACTING METHOD AND APPARATUS, AND X-RAY DIFFRACTION SYSTEM 平行X線ビームの取り出し方法及び装置並びにX線回折装置 - 特許庁
The X-ray diffraction intensity of the composite material by CuKα is represented by expression (1): I_1/I_2≤2 (1), wherein I_1 is the peak diffraction intensity at 2θ=5.5-6.5°; and I_2 is the peak diffraction intensity at 2θ=5.5-6.5°. ここで、I_1:2θ=5.5〜6.5°間のヒ゜ーク回折強度、I_2:2θ=5.5〜6.5°間のヒ゜ーク回折強度である。 - 特許庁
PROCESSING METHOD OF TWO-DIMENSIONAL X-RAY DETECTION DATA, TWO-DIMENSIONAL X-RAY DETECTION DEVICE, AND X-RAY DIFFRACTION DEVICE 二次元X線検出データの処理方法、二次元X線検出装置、およびX線回折装置 - 特許庁
When calculating them, vector compensation is applied on X-ray diffraction intensity of each diffraction peak. 算出に際しては、各回折ピークのX線回折強度についてベクトル補正を行う。 - 特許庁
To provide manufacturing methods for an X-ray phase type diffraction grating and an X-ray amplitude type diffraction grating used for an X-ray Talbot interferometer. X線タルボ干渉計に用いられるX線位相型回折格子及びX線振幅型回折格子の製造方法を提案する。 - 特許庁
REFLECTION TYPE DIFFRACTION GRATING HOLOGRAM AND X-RAY CONVERGING SYSTEM 反射型回折格子ホログラム及びX線集光システム - 特許庁
To provide an X-ray diffraction device excellent in angle resolving power, reduced in the lowering of X-ray intensity and simplified in its structure in an X-ray diffraction method using a parallel beam method, and the X-ray diffraction method. 平行ビーム法を用いたX線回折法において、角度分解能が優れていて、X線強度の低下が少なく、構造が簡素化されたX線回折装置およびX線回折方法を提供する。 - 特許庁
When the surface layer is subjected to X-ray diffraction, a diffraction peak corresponding to a (111) crystal plane is observed. 表層のX線回折により、(111)結晶面に対応した回折ピークが観察される。 - 特許庁
INSTRUMENT AND METHOD FOR MEASURING X-RAY DIFFRACTION X線回折測定装置およびX線回折測定方法 - 特許庁
X-RAY DIFFRACTION MEASURING INSTRUMENT AND METHOD THEREFOR X線回折測定装置およびX線回折測定方法 - 特許庁
MEASUREMENT OF CRITICAL DIMENSIONS USING X-RAY DIFFRACTION IN REFLECTION MODE 反射モードのX線回折を用いた限界寸法の測定 - 特許庁
DIFFRACTION GRATING FOR X-RAY INTERFEROMETER AND MANUFACTURING METHOD THEREOF X線干渉計用の回折格子及びその製造方法 - 特許庁
SAMPLE HOLDING DEVICE AND X-RAY DIFFRACTION APPARATUS USING DEVICE 試料保持装置および同装置を用いたX線回折装置 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR X-RAY DIFFRACTION IMAGE CONTRAST BY MICROBALLOONS マイクロバルーンによるX線回折造影方法および同装置 - 特許庁
In X-ray diffraction, the Ewald sphere is drawn with a small radius.
X線回折においては、エワルド球は小さな半径で描かれる。 - 科学技術論文動詞集
The crystal of compound A is one in which the characteristic diffraction peak at a diffraction angle 2θ(°) as measured by powder X-ray diffraction has a specified powder X-ray pattern. 化合物Aの結晶であって、粉末X線回折で測定した回折角2θ(°)の特徴的回折ピークが特定の粉末X線回折パターンを有する結晶。 - 特許庁
COMPACT MULTI-FOCUS X-RAY SOURCE, X-RAY DIFFRACTION IMAGING SYSTEM, AND METHOD FOR FABRICATING COMPACT MULTI-FOCUS X-RAY SOURCE 小型多焦点x線源、x線回折イメージングシステム、及び小型多焦点X線源を製作するための方法 - 特許庁
DIFFRACTION GRATING FOR X-RAY TALBOT INTERFEROMETER, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, AND X-RAY TALBOT INTERFEROMETER X線タルボ干渉計用回折格子及びその製造方法、並びにX線タルボ干渉計 - 特許庁
INTENSITY CORRECTION AT OBLIQUE INCIDENCE TO DETECTOR OF DIFFRACTION X-RAY IN X-RAY STRUCTURE ANALYSIS X線構造解析における回折X線の検出器への斜め入射時の強度補正 - 特許庁
The protective film has the X-ray diffraction peak intensity of (110) plane of chromium higher than the X-ray diffraction peak intensity of (200) plane. 保護膜は、X線回折によるクロムの(110)面の回折ピーク強度が、クロムの(200)面の回折ピーク強度よりも大きい。 - 特許庁
X-RAY DIFFRACTION DEVICE AND MEASURING METHOD OF SAMPLE USING THIS DEVICE X線回折装置及び該装置を用いた試料の測定方法 - 特許庁