「reaction processing」を含む例文一覧(605)
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反力処理機構 - 特許庁 - REACTION FORCE PROCESSING APPARATUS
反力処理装置 - 特許庁 - REACTION CHIP PROCESSING DEVICE
反応チップ処理装置 - 特許庁 - PHASE REACTION PROCESSING APPARATUS
気相反応処理装置 - 特許庁 - REACTION GAS PROCESSING APPARATUS
反応ガス使用処理装置 - 特許庁 - REACTION VESSEL PLATE AND REACTION PROCESSING METHOD
反応容器プレート及び反応処理方法 - 特許庁 - REACTION TUBE AND HEAT PROCESSING APPARATUS
反応管及び熱処理装置 - 特許庁 - CARTRIDGE FOR CHEMICAL REACTION AND CHEMICAL REACTION PROCESSING SYSTEM
化学反応用カートリッジおよび化学反応処理システム - 特許庁 - VAPOR PHASE REACTION PROCESSOR AND VAPOR PHASE REACTION PROCESSING METHOD
気相反応処理装置および気相反応処理方法 - 特許庁 - REACTION FORCE PROCESSING SYSTEM FOR STAGE APPARATUS
ステージ装置用の反力処理システム - 特許庁 - REACTION SUPPRESSING STRUCTURE AND PROCESSING DEVICE
反動抑制構造及び加工装置 - 特許庁 - PARALLEL PROCESSING APPARATUS FOR REACTION MIXTURE
反応混合物の並列処理装置 - 特許庁 - RAW MATERIAL VAPORIZER, AND REACTION PROCESSING APPARATUS
原料気化器及び反応処理装置 - 特許庁 - VACUUM REACTION CHAMBER AND ITS PROCESSING METHOD
真空反応室及びその処理方法 - 特許庁 - REACTOR PLATE AND REACTION PROCESSING METHOD
反応容器プレート及び反応処理方法 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR REACTION TYPE INFORMATION PROCESSING
反応型情報処理装置及び方法 - 特許庁 - THERMAL DECOMPOSITION REACTION FURNACE IN WASTE PROCESSING APPARATUS
廃棄物処理装置における熱分解反応炉 - 特許庁 - Reaction gas is introduced into the processing chamber 10.
処理チャンバー１０内に反応ガスを導入する。 - 特許庁 - REACTION VESSEL AND PLASMA PROCESSING APPARATUS EQUIPPED THEREWITH
反応容器及びそれを備えるプラズマ処理装置 - 特許庁 - SAMPLE PROCESSING APPARATUS, SAMPLE PROCESSING METHOD AND REACTION CONTAINER USED THEREFOR
試料処理装置、試料処理方法、およびこれらに使用する反応容器 - 特許庁 - A reaction gas for processing the substrate 14 flows through the processing space 50.
処理空間５０には、基板１４を処理する反応ガスが流通する。 - 特許庁 - To provide a cartridge for chemical reaction and a chemical reaction processing system enabling versatile and diversified processing.
汎用的で多様な処理を可能とした化学反応用カートリッジおよび化学反応処理システムを提供する。 - 特許庁 - The preliminary reaction plasma processing chamber is constituted so as to generate reaction radicals, by subjecting to chemical reaction based on the plasma of a reaction substance.
予備反応プラズマ処理チャンバは、反応物質のプラズマに基づく化学反応を行って反応基を生成するように構成されている。 - 特許庁 - To provide a reaction processor for automatically and accurately processing a reaction by using a reaction vessel plate.
反応容器プレートを用いて自動的にかつ正確に反応処理を行なうことができる反応処理装置を提供する。 - 特許庁 - Measurement processing is carried out even during the reaction time T1.
反応時間Ｔ１中も、測定処理は実行されている。 - 特許庁 - A system for processing large quantities of the reaction medium while maintaining the reaction medium in sheets.
反応媒体をシート状に維持しながら、大量の反応媒体を処理するためのシステム。 - 特許庁 - Surface of the glass substrate A is subjected to film deposition processing or etching processing in a reaction chamber 2.
反応室２でガラス基板Ａの表面に成膜処理あるいはエッチング処理をする。 - 特許庁 - SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND REACTION TUBE FOR PROCESSING SUBSTRATE
基板処理装置及び半導体装置の製造方法及び基板処理用反応管 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING APPARATUS, METHOD FOR MANUFACTURING REACTION VESSEL FOR PLASMA GENERATION, AND PLASMA PROCESSING METHOD
プラズマ処理装置、プラズマ生成用の反応器の製造方法、及びプラズマ処理方法 - 特許庁 - DISPENSING TIP DRIVE MECHANISM, AND REACTION KIT PROCESSING DEVICE EQUIPPED THEREWITH
分注チップ駆動機構及びそれを備えた反応キット処理装置 - 特許庁 - This substrate processing device is provided with a reaction vessel for processing a substrate and a heating device for heating the substrate in the reaction vessel.
基板を処理する反応容器と、この反応容器内の基板を加熱する加熱装置とを備えた基板処理装置に関する。 - 特許庁 - SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND REACTION TUBE
基板処理装置、半導体装置の製造方法、および反応管 - 特許庁 - REACTION/PROCESSING APPARATUS FOR CIRCULATION TYPE LIQUID OR SUPERCRITICAL CARBON DIOXIDE
循環型液体又は超臨界二酸化炭素反応／処理装置 - 特許庁 - In the wafer surface processing method involving chemical processing, the chemical processing is characterized by including a reaction controlling processing step, and a diffusion controlling processing step following the reaction controlling processing step.
化学処理を伴うウェーハ表面処理方法であって、前記化学処理が、反応律速型処理工程と、該反応律速型処理工程に続く拡散律速型処理工程とを含むことを特徴とする、ウェーハ表面処理方法。 - 特許庁 - A substrate processing apparatus comprises a heater 206 provided outside a reaction container for processing substrates.
基板処理装置は、基板を処理する反応容器の外側に設けられたヒータ２０６を有する。 - 特許庁 - A processing system, based on previously loaded plasma, is provided with a preliminary reaction plasma processing chamber, a power source connected to the preliminary reaction plasma processing chamber so as to drive the chamber and a wafer plasma processing chamber connected to the preliminary reaction plasma processing chamber through fluid.
事前ロードしたプラズマに基づく処理システムは、予備反応プラズマ処理チャンバと、この予備反応プラズマ処理チャンバと動作可能に連通して配置された電力源と、予備反応プラズマ処理チャンバと流体連通して配置されたウエハプラズマ処理チャンバとを具備する。 - 特許庁 - Arithmetic processing system 2 determines which reaction of the oxidation reaction and the reduction reaction occurs preferentially in accordance with the result of the computation.
演算処理手段２は、演算結果に基づき、該酸化反応と該還元反応のうち、どちらの反応が優先的に起こるかを決定する。 - 特許庁 - As the result of the oxygen plasma processing, the reaction product 14 is removed.
この酸素プラズマ処理の結果、反応生成物１４が除去される。 - 特許庁 - SUPPLY STRUCTURE FOR VAPORIZED RAW MATERIAL, RAW MATERIAL VAPORIZER AND REACTION PROCESSING APPARATUS
気化原料の供給構造、原料気化器及び反応処理装置 - 特許庁 - A Sabatier reaction chamber 20 is stored inside a processing chamber 3.
処理室３の内部にはサバティエ反応室２０が収容されている。 - 特許庁 - In the crystallization reaction device, raw water is introduced from the lower part of the reaction column 2 and a part of processing water is taken out from the upper part of the reaction column 2 and is circulated to the lower part of the reaction column 2.
原水を反応塔２の下部から導入し、処理水の一部を反応塔２の上部より取り出して反応塔２の下部に循環させる晶析反応装置。 - 特許庁 - The reaction force processor 1 is equipped with a reaction force processing actuator 2 which applies a counter thrust that reduces the reaction force f_r on the table 11.
この反力処理装置１は、反力ｆｒを低減する力であるカウンタ推力を定盤１１に印加するための反力処理アクチュエータ２を備えている。 - 特許庁 - To provide a biological sample reaction method for enabling a reaction process with the minute quantity of a reaction liquid, and for efficiently processing a plurality of specimens at once.
微量な反応液での反応処理が可能であり、また一度に多くの検体の処理を効率よく行うことが可能な、生体試料反応方法を得る。 - 特許庁 - Hereby, an enzyme reaction and an electrode reaction in the reaction layer 9 are proceeded smoothly, to thereby quicken the analysis processing and to improve an analysis efficiency.
従って、反応層９による酵素反応と電極反応とが円滑に進み、分析処理の迅速化と分析効率の向上を図ることができる。 - 特許庁 - To provide a semiconductor processing apparatus which eliminates a defect caused from a reaction product produced in a reaction pipe, and controls deterioration of processing performance; and to provide a semiconductor processing method.
処理性能の低下を抑制しつつ、反応管内に生じた反応生成物による不具合を解消する半導体処理装置および半導体処理方法を提供する。 - 特許庁 - The warming-up processing section 4 consists of a second reaction chamber water quality data setting section 41, a variable model parameter setting section 42, a water quality stabilization processing section 43 and a reaction chamber water quality data saving processing section 44.
このウォーミングアップ処理部４は、反応槽水質データ第２設定部41と、可変モデルパラメータ設定部42と、水質安定化処理部43と、反応槽水質データ保存処理部44とからなる。 - 特許庁 - To change a processing range in which objects are recognized according to a reaction time.
反応時間に従って、対象物が認識される処理範囲を変更する。 - 特許庁 - BIO-CHIP, FLUORESCENT SIGNAL PROCESSING METHOD AND HYBRIDIZATION REACTION RESULT DISPLAY METHOD
バイオチップ、蛍光シグナル処理方法及びハイブリダイゼーション反応結果表示方法 - 特許庁 - To provide a water-soluble silicone processing liquid that can suppress generation of hydrogen by reaction of silicone and a processing liquid during processing of silicone.
シリコンの加工において、シリコンと加工液との反応による水素の発生を抑制できる水溶性シリコン加工液を提供すること。 - 特許庁 - The substrate processing system comprises a reaction tube 23 for processing a wafer W, and a boat 20 for holding the wafer W.
基板処理装置は、ウェーハＷを処理する反応管２３と、ウェーハＷを保持するボート２０を備える。 - 特許庁
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