「reduced pattern」を含む例文一覧(1008)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 20 21 次へ＞- A first mask pattern (14) is left by etching the first mask film using the reduced second mask pattern as an etching mask.
縮小された第２のマスクパターンをエッチングマスクとして、第１のマスク膜をエッチングすることにより、第１のマスクパターン(14)を残す。 - 特許庁 - Also, the load on the printer can be reduced, and a high quality hidden pattern can be generated by generating a hidden pattern in the driver 5.
また、ドライバ５内で隠しパターンを生成することにより、プリンタの負荷を軽減でき、高品質の隠しパターンを生成できる。 - 特許庁 - To provide a lost pattern for casting with which cast defect caused by defective gas vent is reduced in a lost pattern casting method.
消失模型鋳造法において、ガス抜き不良による鋳造欠陥を低減できる鋳造用消失模型を提供する。 - 特許庁 - As a result, by its soft etching operation, diffuse reflection is reduced when the pattern 2 is irradiated with light, and the luminance of the pattern 2 is increased.
このためソフトエッチングにより，パターン部２に光を照射したときの乱反射が減少し，パターン部２での輝度が高くなる。 - 特許庁 - To provide a plasma treatment method with which pattern falling hardly occurs when trimming a resist pattern and an etching amount in a longitudinal direction of the pattern can be reduced, and a resist pattern reforming method for reforming the resist pattern prior to trimming.
レジストパターンのトリミングの際にパターン倒れが発生し難く、パターンの縦方向のエッチング量を少なくすることができるプラズマ処理方法およびトリミングに先立ってレジストパターンを改質するレジストパターンの改質方法を提供する。 - 特許庁 - After the resist pattern 7A is formed, it can be reduced in pattern width W, so that it is not required to prepare an expensive exposure system for micronizing the resist pattern 7A.
レジストパターン７Ａを形成した後にそのパターン幅Ｗを縮小化できるので、レジストパターン７Ａを微細化するための高価な露光装置を用意する必要がない。 - 特許庁 - Since a part, wherein the wiring pattern 35 becomes dense, is eliminated so that the wiring pattern 35 can have a simple shape, the costs required for the formation of the wiring pattern 35 can be reduced.
配線パターン３５が密になる部分がなくなり、配線パターン３５が単純な形状となるため、配線パターン３５の形成に掛かるコストを削減させることができる。 - 特許庁 - The method of framing the resist pattern includes a step of forming the resist pattern on a material worked by discharging a composition containing a photosensitive agent to the material under reduced pressure, and a step of etching the material by using the resist pattern as a mask.
本発明は、減圧下で、被加工物上に、感光剤を含む組成物を吐出してレジストパターンを形成するステップを有することを特徴とする。 - 特許庁 - When the disconnection is generated in the wiring pattern 50, an area of the wiring pattern 50 is reduced, the detected capacitance is reduced, and a decision part 12 decides the disconnection.
配線パターン５０に断線が生じた場合、当該配線パターン５０の面積が小さくなると共に検出される静電容量も小さくなるから、判定部１２は断線と判定する。 - 特許庁 - To provide a transfer/exposure method, etc., by which automatic pattern division can be performed and the connecting error between two superimposed pattern layers can be reduced.
自動パターン分割ができ、重なり合う２つのパターン層間のつなぎ誤差を小さくできる転写露光方法等を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method and a method for producing a semiconductor device by which variation in line width of a pattern of a layer to be etched is reduced.
被エッチング層のパターンの線幅ばらつきを低減させるパターン形成方法および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a semiconductor device in which occurrence of a not-yet-opened hole pattern is reduced by reducing variation in hole pattern size.
ホールパターンの寸法のばらつきを抑え、ホールパターンの未開口の発生を抑制する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition capable of forming a resist pattern in which line edge roughness (LER) is reduced and a resist pattern forming method.
ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）の低減されたレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - Inverse Fourier transform is applied to a side lobe pattern to be reduced in the major antenna 3 and a complex weight reflecting the side lobe pattern is calculated.
主アンテナ３の低減すべきサイドローブパターンを逆フーリエ変換し、当該サイドローブパターンを反映する複素ウェイトを算出する。 - 特許庁 - To improve a resolution in the width direction even if the stripe width of a stripe pattern is not reduced.
ストライプパターンのストライプ幅を小さくしなくてもその幅方向の解像度を改善させる。 - 特許庁 - Furthermore, since the number of stacking (pressing) is reduced, adjusting accuracy is improved on each pattern.
また、積層（プレス）の回数が低減されるため、それぞれのパターンの合わせ精度が向上する。 - 特許庁 - The line pattern structure has reduced defects and may be formed through simple steps.
前記ラインパターン構造物は不良が減少し、簡単な工程を通じて形成されてもよい。 - 特許庁 - To provide a circuit board whose area of circuit pattern of boundary scan test is reduced.
バウンダリスキャンテストの回路パターンの面積を縮小した回路基板を提供することである。 - 特許庁 - To provide a new pattern forming method by which the number of steps in a double patterning method can be reduced.
ダブルパターニング法における工程数を低減できる新規なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - By selecting the most suitable dither pattern corresponding to the designated screen pattern among the plurality of dither patterns, the interference between the screen pattern and the dither pattern can be reduced and an output with nearly ideal colors can be obtained.
指定された網掛けパターンに応じて、複数のディザパターンから最適なディザパターンを選択することにより、網掛けパターンとディザパターンとの干渉を軽減し、理想に近い色で出力することができる。 - 特許庁 - Then, the CPU adds one reduced special pattern to the second special pattern array data and repeats it until the number of the special patterns of the second special pattern array data becomes equal to the number of the special patterns of the first special pattern array data.
続いて、ＣＰＵは、第２の特図配列データに減少した特別図柄を１つ加えて、第２の特図配列データの特別図柄が第１の特図配列データの特別図柄の数とが等しくなるまで繰り返す。 - 特許庁 - In the boundary between the convex pattern part and the concave pattern part, the phase of the exposure light is reversed by 180°, and the intensity of the exposure light can be reduced in a corner part which is the boundary between the convex pattern part and the concave pattern part.
これにより、凸パターン部と凹パターン部の境界において、露光光は１８０°位相が反転し、凸パターン部と凹パターン部の境界であるコーナー部において露光光の強度を低下することが出来る。 - 特許庁 - By using a photomask with a pattern that has a line width being equal to or less than a resolution limit for the surface of the resist pattern 12, a groove (dummy pattern) with a depth that does not reach the substrate 11 is formed, and the volume of the resist pattern 12 is reduced.
レジストパターン１２の表面には、解像限界以下の線幅のパターンを有するフォトマスクを用いることにより、基板１１に達しない深さの溝（ダミーパターン）を形成し、レジストパターン１２の体積を小さくする。 - 特許庁 - In the game status having a low winning probability without reduced time or the game status having a high winning probability without reduced time, the Pachinko game machine uses a special variation pattern.
低確率非時短遊技状態または高確率非時短遊技状態において、ぱちんこ遊技機は、特殊変動パターンを用いる。 - 特許庁 - The sub CPU 33a makes the liquid crystal type pattern display device 18 put on a reduced performance on the basis of the reduced performance data changed.
サブＣＰＵ３３ａは、変更された短縮演出データに基づいて、短縮演出を液晶式図柄表示装置１８に実行させる。 - 特許庁 - Thereby, an operation within a predetermined range of a pattern automatic hit stop switch device 5 and a pattern stop switch device 2, i.e., the number of push is reduced.
よって、図柄自動当り停止スイッチ装置５と図柄停止スイッチ装置２との所定範囲での操作つまり目押し回数が減少する。 - 特許庁 - To restrain a geometric pattern appearance due to addition of a dither pattern, when a color image data is tone-reduced by dither processing.
カラー画像データをディザ処理にて減色する際、ディザパターンの付加による幾何学的な模様の見えを抑制するディザ処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a hand roller, with which coating speckles on coating surfaces or pattern speckles on pattern roll surfaces can be easily reduced.
高い技量を有さずとも、容易に塗装面の塗り斑あるいはパターンロール面のパターン斑を低減することのできるハンドローラを提供する。 - 特許庁 - To provide a photomask in which errors in a pattern form produced by drawing and developing the pattern or dimensional changes caused in an etching process are reduced.
パターン描画、現像の際に生じるパターン形状の誤差や、エッチングの過程で生じる寸法変動を小さくしたフォトマスクを提供する。 - 特許庁 - The operation amount, when the substrate pattern for operation and the prediction pattern for operation are computed and compared, is reduced to make the comparison operation fast.
演算用基板パターンと演算用予想パターンとを演算して比較する際の演算量を低減して、比較演算を高速化できる。 - 特許庁 - To form a pattern to be measured with only one exposure and to make good accuracy measurement, even if the fully occupying area of the pattern for measurement is reduced.
１度の露光で被測定用パターンを形成し、且つ測定用パターンの占有面積を小さくしても精度良い測定を行い得る。 - 特許庁 - To provide a resist composition with which a resist pattern having excellent CD uniformity can be produced and a frequency of occurrence of defects in obtained resist pattern is reduced.
優れたＣＤ均一性のレジストパターンを製造でき、得られたレジストパターンの欠陥の発生数も少ないレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - The enlarged pattern column of "-, 7, -" is moved in a lower direction, the reduced pattern column of "6, -, 7" is moved in an upper direction and they are displayed.
拡大された「−，７，−」の図柄列は下方向に移動し、縮小された「６，−、７」の図柄列は上方向に移動して表示される。 - 特許庁 - Therefore, an increase in the cost of plant investment with the scaling down of the resist pattern 7A can be reduced, so that the resist pattern 7A can be scaled down at a low cost.
従って、レジストパターン７Ａの微細化に伴う設備投資コストを低減でき、該レジストパターン７Ａの微細化を安価に行うことができる。 - 特許庁 - To provide a method for detecting pattern defect in which the processing quantity in the detection of defect by the comparison of a pattern to be inspected with a non-defective pattern is reduced to improve the inspection speed.
検査対象パターンを良品パターンと比較して欠陥を検出するときの処理量を削減して検査速度の向上を図ったパターン欠陥検出方法を提供する。 - 特許庁 - Manufacturing time and cost of the pattern film 100 is drastically reduced, since the first pattern array and the second pattern array can be electrically connected mutually by a simple press-bonding method.
第１及び第２パターンアレイを簡単な圧着方式を通じて互いに電気的に接続することができるので、パターンフィルム１００の製造時間及び費用が大幅減少される。 - 特許庁 - The maskless exposure method of generating an exposure pattern and exposing a substrate with a reduced exposure pattern thereof is such that in subjecting an edge of the exposure pattern to emphasis processing during the exposure.
露光パターンを生成し縮小させた該露光パターンで基板を露光するマスクレス露光方法であって、前記露光時に、前記露光パターンのエッジを強調処理することを特徴とする。 - 特許庁 - When the circuit pattern 11 is reduced in thickness by removing a part of the predetermined portion of the circuit pattern 11, the thinner portion of the circuit pattern 11 becomes the second part 13, while the other thick portion becomes the first part 12.
回路パターン１１の所定部位の一部分を除去し薄くすると、回路パターン１１の薄い部位が第二部分１３、その他の厚い部位が第一部分１２となる。 - 特許庁 - Since the pattern is made to disappear once from the display area and then the projecting pattern is stopped and displayed, poor appearance of the pattern and unusual variation display control are reduced during variation display.
しかも、一旦表示エリアから図柄を消滅させて、その後、出目図柄を停止表示させるので、変動表示中の図柄の見苦しさや変動表示制御の不自然さが低減される。 - 特許庁 - Thus, calculation is required only for the pattern changed by correction, the processing time can be reduced significantly, even when a plurality of number of times of simulations are required on the substrate pattern, and the data amount of the processing can be reduced.
修正により変更したパターンだけの演算で済み、基板パターンの複数回のシミュレーションを要する場合でも処理時間を大幅に短縮できるとともに、処理のデータ量を低減できる。 - 特許庁 - Pattern cloth put in a cutting area 1 on CAM is taken in a reduced personal computer screen on CAN side by a video camera and a pattern provided with a pattern matching point reduced at the same ratio is subjected to matching by a mouse and apparel is cut by CAM.
ＣＡＭ上の、カッティングエリア内に置いた柄生地を、ビデオカメラにより、ＣＡＭ側の縮小したパソコン画面に取り込み、同比率で縮小した柄合わせポイントの付いたパターンをマウスにより柄に合わせて、ＣＡＭに裁断させるシステムにした。 - 特許庁 - To provide a mask pattern forming method and a fine pattern forming method wherein a process for slimming a resist pattern is eliminated in forming a fine pattern by forming a silicon oxide film on a pattern organic film, and the cost of the process is reduced.
パターン有機膜にシリコン酸化膜を成膜して微細パターンを形成する際に、レジストパターンをスリミング処理する工程を削減することができ、プロセスのコストを低減することができるマスクパターンの形成方法及び微細パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a mask pattern forming method and a fine pattern forming method wherein a process for slimming a resist pattern is eliminated in forming a fine pattern by forming a silicon oxide film on a pattern organic film, and the cost of the process is reduced.
パターン有機膜にシリコン酸化膜を成膜して微細パターンを形成する際に、レジストパターンをスリミング処理する工程を削減することができ、プロセスのコストを低減することができるマスクパターンの形成方法及び微細パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁 - Also, the CPU compares first special pattern array data and the decided second special pattern array data, reports reduced special patterns, also executes the variable display of the special pattern by using the decided second special pattern array data and temporarily stops it at a temporary stop pattern.
また、ＣＰＵは、第１の特図配列データと決定した第２の特図配列データとを比較して減少した特別図柄を報知するとともに、決定した第２の特図配列データを用いて特別図柄の可変表示を実行し、仮停止図柄で仮停止させる。 - 特許庁 - Consequently, the flow of in the liquid crystal display inside a pattern display area is reduced and sharp change of flow states at the display boundary part is also reduced.
この結果、パターン表示領域内部での液晶中の流動が低減して、表示境界部での流動状態の急激な変化も低減される。 - 特許庁 - Thus, a wiring pattern region inside the image pickup element chip 32 is reduced and the height dimension of the image pickup element chip is reduced by an arrow (a).
このことにより、撮像素子チップ３２内の配線パターン領域が減少して撮像素子チップの高さ寸法が矢印ａだけ減少する。 - 特許庁 - To provide a semiconductor device of which the length of signal wiring is shortened for reduced signal delay, and the occupied area of a pattern in an external connection region is reduced.
信号配線長を短くして信号遅延を低減でき、外部接続領域のパターン占有面積を削減できる半導体装置を提供する。 - 特許庁 - After an ArF resist pattern is formed, the space and opening size of the pattern are reduced by temporarily reducing T_g of the resist pattern by the irradiation of a VUV excimer laser or of the E beam irradiation during the thermal treatment of the resist pattern.
ＡｒＦレジストパターンを形成した後、レジストパターンを熱処理する間にＶＵＶエキシマレーザーからの照射またはＥビーム照射により露光してレジストパターンのＴ_ｇを一時的に低めてパターンのスペース及び開口サイズを縮める。 - 特許庁 - Though the winding route of the many turn-side coil pattern 3L is almost fixed and the degree of freedom for design of the pattern 3L is low, the degree of freedom for setting the winding route of the less-turn side coil pattern 3L becomes higher accordingly to the reduced number of turns of the pattern 3S.
多ターン側コイルパターン３Ｌの巻回経路はほぼ定まってしまい、その設計の自由度は低いのに対して、少ターン側コイルパターン３Ｓは、巻回数が少ない分、その巻回経路の設定の自由度は高くなる。 - 特許庁 - Therefore, the defects such as the lead part C being broken and thinned are reduced, and the electrode pattern can be improved.
リード部Ｃの断線や細りなどの欠陥が減少し、電極パターンを改善することができる。 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
