「reference line」を含む例文一覧(2555)
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参照信号生成部２７で生成された参照信号RAMPを受け、所定数の電圧比較部２５２の参照信号入力段に供給するバッファ回路２８０を複数設けることで、１つの参照信号線２５１を介して供給される参照信号RAMPを、各ブロックBK_k用の参照信号出力線_kを介して参照信号RAMP_kに分離して供給する。 - 特許庁 - An unspecified search line search program (12e) or a start point-specified connecting line search program (12f) sets, while searching a close label in a direction along a connecting line determination reference line, a connecting line within a searched label.
無指定探索線探索プログラム（１２ｅ）又は入口点指定接合線探索プログラム（１２ｆ）が、接合線決定基準線に沿った方向で近いラベルを探索しながら、探索したラベル内に接合線を設定する。 - 特許庁 - The bumper structure 21 is mounted on a front part of a vehicle body and extends along a reference line W.
バンパー構造２１は、車体の前部に取り付けられ、基準線Ｗに沿って延びる。 - 特許庁 - The upper face of the installation part 32 is formed with a reference line 32a and a step difference part 32b.
また、取付部３２の上面には、基準線３２ａと段差部３２ｂとを設ける。 - 特許庁 - An M1-2 is offset with respect to a reference line d to give a delay of δ time.
Ｍ１‐２は、基準線ｄに対してオフセットされδ時間だけ遅延を与える。 - 特許庁 - The MU2-2 is offset with respect to the reference line d to give a delay of Δ time.
ＭＵ２‐２は基準線ｄに対してオフセットされΔ時間だけ遅延を与える。 - 特許庁 - The transistor is connected between the corresponding bit line and reference voltage such as grounding, and the like.
該トランジスタは対応するビット線と接地等の基準電圧との間に結合されている。 - 特許庁 - Thus a worker can confirm reference positions indicating the bottom of a transformer, a communication line, and embedding depth.
これにより、変圧器底面、通信線及び埋設深さの基準位置を確認できる。 - 特許庁 - Following processing is carried out with reference to a counter indicating the position of a carriage in the same line.
同一ライン内でのキャリッジの位置を示すカウンタを参照して次の処理を行う。 - 特許庁 - The reference position of a sound shielding line L1 or the like is set at a prescribed position within a game space.
ゲーム空間内の所定位置に遮音ラインＬ１等の基準位置を設定する。 - 特許庁 - The second driving voltage is applied when a signal line has a threshold correction reference voltage.
第２の駆動電圧は、信号線が閾値補正基準電圧とされているときに与える。 - 特許庁 - To restrain a noise width and base line fluctuation in a reference cell within a measuring time.
測定時間内における参照セルのノイズ幅、及びベースライン変動を抑制すること。 - 特許庁 - CONTROL METHOD OF REFERENCE WAFER FOR MANUFACTURING LINE OF SEMICONDUCTOR DEVICE AND ITS SYSTEM AND RECORDING MEDIUM
半導体装置製造ラインのリファレンスウェハの管理方法及びシステム並びに記録媒体 - 特許庁 - The reference area of each of divided tiles 0 to 3 is expanded to a dotted line part (tile 1').
分割された各タイル０〜３の参照領域を点線部（タイル１’）に拡大する。 - 特許庁 - Therefore, the substrate 25 floats upward and is urged toward a reference line RL.
そのため、基板２５は浮上すると共に、基準ラインＲＬ側へ向けて付勢される。 - 特許庁 - The corresponding frames are connected to each other to set a plurality of 2nd reference line candidates.
対応枠同士を互いに繋いで複数本の第２基準線候補を設定する。 - 特許庁 - The reference line between the projection sections 31 and 32 is set in the diameter direction of the drum 9.
突起部３１，３２を結ぶ基準線を、ドラム９の直径方向に設定する。 - 特許庁 - The nonvolatile semiconductor memory device has a reference circuit 1 and a word line voltage generating circuit 2.
本発明は、リファレンス回路１と、ワード線電圧生成回路２と、を有するものである。 - 特許庁 - To stabilize replenishment for an internal liquid (potassium chloride solution) of a reference electrode in an in-line pH meter.
インラインｐＨ計の比較電極内部液（塩化カリウム）の補給を安定化させる。 - 特許庁 - A modulator/demodulator 6 demodulates the reference clock from the signal for telephone line band thus separated.
変復調機６は分離された電話帯域用の信号から基準クロックを復調する。 - 特許庁 - Each port of the second microcomputer 7 is connected to a power supply reference line 11 by pull-down function.
第2マイコン７の各ポートは、プルダウン機能により電源基準線１１に接続する。 - 特許庁 - The lithography device includes a reference diffraction grating set 14 provided in the substrate, the reference diffraction grating set includes two reference diffraction gratings having a first directional line element and one reference diffraction grating having a second directional line element.
リソグラフィ装置は、基板中に設けられた基準回折格子セット１４を含み、この基準回折格子セットは、第１の方向のラインエレメントを有する２つの基準回折格子および第２の垂直な方向のラインエレメントを有する１つの基準回折格子を含む。 - 特許庁 - Thus, each of the line latent images LIy, LIm, LIc and LIk is inclined in a direction coincident with a reference line RL common in an image forming means or in the same direction as the reference line RL common in the image forming means, thereby color misregistration is corrected.
これによって、各ライン潜像ＬＩy，ＬＩm，ＬＩc，ＬＩkが画像形成手段に共通する基準線ＲＬに対して一致または同一方向に傾斜することとなり、色ずれを補正することができる。 - 特許庁 - Each of the index parts 32A or 32B includes: a reference edge side R1 extending in a Y direction from a reference point PREFa on a reference line REF toward one index part 32; a reference edge side R2 extending in the X direction from the reference point PREFa; and a limit edge side Q1 located on a boundary LIM1 within a region A1 on one side of the reference line REF.
指標部３２Aおよび指標部３２Bの各々は、基準線ＲEF上の基準点ＰREFaから他方の指標部３２に向けてＹ方向に延在する基準縁辺Ｒ1と、基準点ＰREFaからＸ方向に延在する基準縁辺Ｒ2と、基準線ＲEFの一方の領域Ａ1内の限界線ＬIM1の線上に位置する限界縁辺Ｑ1とを含む。 - 特許庁 - On one surface of a disk substrate 20 having a center hole (h), a reference line 22 roughly concentric to the center hole (h) is formed, and one original mark 1 is disposed which approaches the inner peripheral side of the reference line 22 to be used as a reference position on the reference line 22, and they are used for eccentric alignment.
中心孔ｈを有する円盤状基板２０の一の面に、前記中心孔ｈと略同心円のリファレンスライン２２を形成すると共にこのリファレンスライン２２の内周側に近接して前記リファレンスライン２２上の基準位置とする原点マークを１点設けて、偏芯アライメントに使用するようにしたものである。 - 特許庁 - A correction factor of the CMOS camera 2 is determined by reading a test chart with a reference line drawn on the read line 21a.
各ＣＭＯＳカメラ２の補正係数は、読み取りライン２１ａ上に基準線が描かれたテストチャートを読み取って決定する。 - 特許庁 - A signal line 54 for transmitting the RF signal and a signal line 55 for transmitting the above reference voltage are wired close to each other.
ＲＦ信号を伝送する信号線５４と前記リファレンス電圧を伝送する信号線５５が接近して配線される。 - 特許庁 - The first generating line L1 for generating the first sliding surface 371A crosses the reference straight line C at an angle θ1.
第１摺動面３７１Ａを創生する第１母線Ｌ１は、基準直線Ｃに対して角度θ１で交差している。 - 特許庁 - A charge line CL is driven to the "L" line (reference potential) from a "H" level (power source potential VDD) when a verify writing operation is started.
ベリファイライト動作が開始されると、チャージ線ＣＬが「Ｈ」レベル（電源電位ＶＤＤ）から「Ｌ」レベル（基準電位）に駆動される。 - 特許庁 - A sense amplifier 24 amplifies the potential difference between the bit line BL and the reference bit line RB, in reading out data.
センスアンプ２４は、データの読み出しに際して、ビット線ＢＬとリファレンスビット線ＲＢとの間に生じた電位差を増幅する。 - 特許庁 - A power supply line 15 or a ground line 16 of a reference cell is used as a shield line and the clock signal line 12 and shield lines 11 between which the clock signal line 12 is held are wired in a wiring layer just under the power supply line 15 or the like on a position just under the power supply line 15 or the like.
標準セルの電源線１５または接地線１６をシールド線として利用するとともに、この電源線等のすぐ下の配線層で、電源線等の真下に、クロック信号線１２と、クロック信号線１２を両側から挟むシールド線１１を配線する。 - 特許庁 - The reference flat surface or a reference linear line is calculated from height information obtained at a plurality of points in the reference surface for adjustment BFP by radiating the beam thereto, and the adjustment disabling region is determined when a difference between the reference flat surface or reference linear line and the height information has exceeded a predetermined value.
調整用基準面ＢＦＰにビームを照射して調整用基準面ＢＦＰ内の複数点で得られる高さ情報から参照平面又は参照直線を算出し、参照平面又は参照直線と高さ情報との差異が所定値を超えた場合に調整不可領域と判断する。 - 特許庁 - When the atmospheric pressure varies, a volume of a reference plate 6 used in measuring the base line quantity changes, and as a result, an interval between reference marks (an interval between reference marks 7A and 7B and a reference mark 8, for example) formed on the reference plate 6 changes by the change in volume, causing a difference in the base line quantity.
気圧の変動が生ずるとベースライン量を測定する際に用いられる基準板６の体積変化が生じ、この体積変化により基準板６に形成された基準マークの間隔（例えば、基準マーク７Ａ，７Ｂと基準マーク８との間隔）が変化してベースライン量の誤差が生ずる。 - 特許庁 - A reference potential V_ref is input to the reference terminal 23, and a resistor R and a capacitor C are added to the wiring line 24.
参照端子２３には参照電位Ｖ_ｒｅｆが入力され、配線２４には抵抗Ｒ及び容量Ｃが付加されている。 - 特許庁 - A reference displacement straight line (A), indicating the displacement relation between the level of urea solution and an electrostatic capacity is calculated beforehand, by using a reference sensor portion.
基準センサ部を用い、尿素水溶液のレベルと静電容量との変位関係である基準変位直線Ａを算出しておく。 - 特許庁 - The reference potential setting circuit block 150 sets a potential externally specified as a potential of a reference signal on the bit line.
参照電位設定回路ブロック１５０は、装置外部から指定された電位をビット線上の参照信号の電位として設定する。 - 特許庁 - This image reader has a memory which stores the SH data to serve as a reference, and a line memory which is used at SH sampling, and this compares the reference SH data.
リファレンスとなるＳＨデータを格納するメモリ、ＳＨサンプル時に使用するラインメモリを持ち、リファレンスデータＳＨデータを比較する。 - 特許庁 - A reference hole 3 for positioning is bored in the pallet part 2, and positioning is done in a conveying line using the reference hole 3.
パレット部２には、位置決めを行うための基準穴３があけてあり、搬送ラインでは、この基準穴３を用いて位置決めを行う。 - 特許庁 - When illuminance difference between two adjacent lines data (control lines) which are used for forming interpolation line data is larger than a previously set reference value, corrected line data in which the illuminance difference is reduced are formed about one line data, and the corrected line data (pseudo-control line) and the other line data (true control line) are used, thereby forming interpolation line data.
補間ラインデータの作成に用いる前後の２本のラインデータ（制御ライン）間で輝度差が予め設定した基準値より大きい場合には、一方のラインデータについて、その輝度差を減少した補正ラインデータを作成し、この補正ラインデータ（偽制御ライン）と他方のラインデータ（真制御ライン）を用いて補間ラインデータを作成する。 - 特許庁 - In a reference voltage generating circuit 3, reference voltage generating reference memory cells (1-1 to 1-n) which are constituted of ferroelectric capacitors (2-1 to 2-n) and transistors (1-1 to 1-n) are connected to the same reference bit line 8.
この基準電圧発生回路３は、強誘電体キャパシタ(２-１〜２-ｎ)とトランジスタ(１-１〜１-ｎ)からなる基準電圧発生用リファレンスメモリセル(１-１〜１-ｎ)が、同一の基準ビット線８に接続されている。 - 特許庁 - A face reference information detection unit 54 applies the head model stored in the memory 53 to the image by use of the coordinates of the specific portion, and detects face reference information at that time, i.e., the reference point or a reference line of the face.
顔基準情報検出部５４は、特定部位の座標を用いて、記憶部５３に記憶された頭部モデルを画像にあてはめ、そのときの顔基準情報、即ち、顔の基準線または基準点を検出する。 - 特許庁 - In the case where the reflection light image RI is inclined to the reference line RL by the angle of θ1, the light image I2 in the incident surface 17A is inclined by -θ1 to the reference line R.
反射光像ＲＩが基準線ＲＬに対して角度θ１傾いている場合には、入射面１７Ａにおける光像Ｉ２が基準線ＲＬに対して−θ１傾いている。 - 特許庁 - The corresponding block search part 102 searches for the corresponding block more accurately on a position near to a straight line connecting a previously found reference point to the reference block as compared with a position far from the straight line.
対応ブロック探索部１０２は、予め求められた基準点と、基準ブロックとを結ぶ直線に近い位置で、直線から遠い位置に比べ、より細かく対応ブロックを探索する。 - 特許庁 - Next, a movement amount calculation unit 109 calculates a movement amount from the present viewpoint position to a reference viewpoint position on the basis of a position of the characteristic line and a position of a reference characteristic line.
次に、移動量算出部１０９は、当該特徴線の位置と基準特徴線の位置とに基づいて、現在の視点位置から基準視点位置までの移動量を算出する。 - 特許庁 - A line width difference between the optical image and the reference image provides an inspection value by measuring a difference between the optical image and the reference image or a line width between the edges which are detected in the optical image.
光学画像と参照画像との差または光学画像で検出したエッジ間の線幅を測定することにより、光学画像と参照画像との線幅の差から検査値を求める。 - 特許庁 - The region 58 showing the residual fuel and the region 60 showing the residual electricity are continuously and integrally displayed via the reference line 56 on the basis of the reference line 56.
燃料残量を示す領域５８と蓄電残量を示す領域６０とは、基準線５６を共通の基点として基準線５６を介して連続かつ一体的に表示される。 - 特許庁 - Then the virtual structures is established by compositing the information regarding the reference line defined in the field office in the virtual space, and by constructing and moving the perpendicular virtual surface to the reference line.
次いで、当該仮想空間内に作業所内で定義される通り芯に関する情報を合成し、それに鉛直な仮想面を構築して移動し、仮想躯体面を設定する。 - 特許庁 - A plurality of auxiliary adjustment lines 54, 56, 58, 60, 62, 64 extending in parallel to the reference adjustment line 52 are formed at the upstream side and the downstream side of the reference adjustment line 52 in the sub-scanning direction.
さらに、この基準調整線５２よりも副走査方向上流側及び下流側で基準調整線５２に平行に延びる複数本の補助調整線５４，５６，５８，６０，６２，６４を形成する。 - 特許庁 - If the maximum value of the distortion line amount, when black is set as the reference color is not equal to or under the predetermined number of lines, the color whose maximum value of the distortion line amount becomes a minimum is set as the reference color.
また、ブラックを基準色とする場合の歪みライン量の最大値が所定のライン数以下でない場合には、歪みライン量の最大値が最小となる色を基準色とする。 - 特許庁 - A luminance profile 32a and a reference line 32b are displayed on the luminance profile window 32 of a display section 300 and the reference line 32b is displayed at a position of the maximum value of the luminance profile 32a.
表示部３００の輝度プロファイルウィンドウ３２には、輝度プロファイル３２ａと基準ライン３２ｂが表示され、基準ライン３２ｂは、輝度プロファイル３２ａの最大値の位置に表示される。 - 特許庁
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