「resolution pattern」を含む例文一覧(1444)
＜前へ 1 2 .... 13 14 15 16 17 18 19 20 21 .... 28 29 次へ＞- To provide a photosensitive resin composition having a sufficient effect on improvement of resolution and resist removing property, a photosensitive element, a resist pattern forming method, and a method for manufacturing printed wiring board.
解像度及びレジスト剥離特性の向上に十分効果のある感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an absolute angle detection device which has a resolution of 1.5° or less and a common divisor of 360° with a good separation, forms a double-line cord pattern and has eight pieces of a detection element is eight.
コードパターン列の数が２列、検出素子の数が８個で、分解能が１．５度以下かつ区切りの良い３６０度の公約数である絶対角検出装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition for soft X rays which has high sensitivity, high resolution, and a rectangular pattern shape and also has a superior LER characteristic and superior dry etching resistance.
高感度、高解像性で矩形なパターン形状を有し、ＬＥＲ特性及びドライエッチング耐性に優れた特性を有する軟Ｘ線用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive polyimide resin composition which has excellent positive photosensitive characteristics and good resolution in pattern formation, is less liable to warp because of relieved thermal stress, and is easily worked.
ポジ型感光特性に優れてパターン形成時の解像性が良好であり、熱応力を緩和して反りの発生が少なく、加工性の容易な感光性ポリイミド樹脂組成物の提供。 - 特許庁 - A test pattern f and a test program g for skew detection suited for a measured LSI are created based on the minimum resolution, the maximum skew value, circuit connection information d and a test program c.
最小分解能および最大スキュー値と回路接続情報ｄとテストプログラムｃをもとに被測定ＬＳＩに合わせたスキュー検出用のテストパタンｆとテストプログラムｇを生成する。 - 特許庁 - To reduce the number of steps for forming a pattern having a dimension less than a lithographic exposure resolution limit, and to provide a method of manufacturing a semiconductor device capable of improving the yield.
リソグラフィの露光解像限界未満の寸法を有するパターンを形成するための工程数を削減し、また、歩留まりを向上させる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition sufficiently effective in improving resolution and resist removal characteristic, a photosensitive element, a method of forming a resist pattern, and a method of manufacturing a printed wiring board.
解像度及びレジスト剥離特性の向上に十分効果のある感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method excellent in sensitivity, limit resolution, roughness properties, exposure latitude (EL), post exposure bake (PEB) temperature dependency and depth of focus (DOF), and a resist composition.
感度、限界解像力、ラフネス特性、露光ラチチュード（ＥＬ）、露光後加熱（ＰＥＢ）温度依存性、及びフォーカス余裕度（ＤＯＦ）に優れたパターン形成方法並びにレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition, having high sensitivity, superior resolution and adhesion, a photosensitive element that uses the same, a method for producing a resist pattern and a method for producing a printed wiring board.
高感度で且つ解像度・密着性が優れる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造方法及びプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a color solid-state imaging device, by which well-balanced resolution in the horizontal direction and the vertical direction is obtained with satisfactory efficiency in one field image, even if a color filter reads using a Bayer pattern color filter array while conducting thinning-out readout operation.
カラーフィルタがベイヤー配列で間引き読み出しをしても、1フィールド画像において、水平方向および垂直方向にバランスの取れた解像度を効率良く得る。 - 特許庁 - To improve resolution by detecting a fine magnetic layer pattern, when detecting a medium to which magnetic powder is adhered and a medium to which a magnetic film is adhered, and to facilitate manufacture for reducing costs.
磁性粉付着媒体や磁性膜付着媒体を検出する場合に、微細な磁性層パターンの検出を可能として高分解能を実現し、かつ、製造容易として低コスト化を図る。 - 特許庁 - In addition, the formation of the tracking pattern p is effective not only in a secondary transfer system in fixing, but also in all fixing systems which are low in resolution and perform selective heating.
またそれだけでなく、このような追跡パターンｐの形成は、定着上二次転写方式だけでなく、解像度の低い選択的な加熱を行う定着方式全般に有効である。 - 特許庁 - To prevent drawing data from being very large in amount owing to a smaller beam diameter and higher resolution which are inevitable for a finer pattern to be exposed in a laser beam exposing method.
レーザビーム露光方法において、露光するパターンの微細化に対応するために不可避となる描画ビーム径や分解能の微細化による描画データの肥大化を防ぐことを課題とする。 - 特許庁 - To obtain a projection optical system in which the birefringence property of an optical element, included in the projection optical system, is corrected to obtain a pattern of high resolution, and a projection aligner using it.
投影光学系に含まれる光学エレメントが有する複屈折性を補正し、高解像度のパターンが得られる投影光学系及びそれを用いた投影露光装置を得ること。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition for h-line exposure having high sensitivity to an h-line and excellent in resolution of a resist pattern, and a photosensitive dry film using the same.
ｈ線に高い感度を有し、レジストパターンの解像性に優れたｈ線露光用感光性樹脂組成物、および、これを用いた感光性ドライフィルムを提供することを課題とする。 - 特許庁 - To provide a chemical amplification type cross linkage forming positive type photoresist composition having high resolution, excellent in etching resistance and capable of forming a resist pattern adaptable to a recent tendency to form a thinner film.
高解像性で耐エッチング性に優れ、しかも最近の薄膜化に対応しうるレジストパターンの形成が可能な化学増幅型の架橋形成ポジ型ホトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a resist composition which has a high level of resolution, a good pattern shape and a satisfactory depth of focus, and at the same time, has no significant defects after the development and has excellent plasma etching resistance.
高解像性、良好なパターン形状、充分な焦点深度を有し、同時に現像後の欠陥が少なく、かつプラズマエッチング耐性に優れたレジスト組成物の提供。 - 特許庁 - To provide a resist material that has high sensitivity, high resolution, small line edge roughness even when silicon content is high, generates no residue, and is well-suitable for pattern formation of a high aspect ratio.
高感度、高解像度を有し、高い珪素含有率においてもラインエッジラフネスが小さく、残渣等の発生がない、特に高アスペクト比のパターンを形成するのに適したレジスト材料。 - 特許庁 - To provide an imaging device the number of transistors of which per pixel is reduced and which can perform high-resolution and high-quality image detection by suppressing fixed pattern noise.
画素当りのトランジスタを削減するとともに、固定パターンノイズを抑制することにより高解像度および高画質な画像検出を実行することができる撮像装置を提供する。 - 特許庁 - To maintain a high residual film ratio in an unexposed portion of a chemical amplification type resist layer, and to provide high pattern contrast and high resolution in an exposed portion relative to the unexposed portion after image development.
化学増幅型レジスト層の未露光部について高い残膜率を維持し、露光部ついては現像後の未露光部に対して高いパターンコントラストと高い解像度の提供。 - 特許庁 - To provide a polymer giving a resist pattern, which has good line width roughness while exhibiting high resolution in a lithography process, and a positive photoresist composition containing the polymer.
リソグラフィプロセスにおいて解像度が高いながら、ライン幅ラフネスも良好なレジストパターンを与える重合体、及びこの重合体を含むポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide an alkali-developable resin composition having excellent sensitivity, resolution, adhesion, alkali resistance or the like, and forming a fine pattern in good accuracy; and to provide an alkali-developable photosensitive resin composition.
感度、解像度、密着性、耐アルカリ性等に優れ、微細パターンを精度良く形成できるアルカリ現像性樹脂組成物、及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition using electron beams or X rays having high resolution and capable of forming a rectangular and excellent pattern profile and improving development defects.
高解像力を有し、矩形状の優れたパターンプロファイルを与えることができ、しかも現像欠陥か改善されたポジ型電子線またはＸ線レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁 - Since the dither pattern with the low resolution is included in the pseudo dot processing, more stable color print is attained without the need for using a complicated process technology.
したがって、疑似網点化処理において、低解像度のディザパターンが含まれることから複雑なプロセス技術を使用することなく、より安定したカラー印刷を可能とするものである。 - 特許庁 - To provide a radio wave receiver whose antenna resolution is improved by utilizing a transfer function in an azimuth frequency region resulting from applying Fourier transformation to an antenna pattern with respect to an azimuth angle.
アンテナパターンを方位角に関してフーリエ変換した方位角周波数領域の伝達関数を利用して、アンテナ分解能を向上させるようにした電波受信装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a phosphor slurry for a color cathode-ray tube which is a phosphor slurry using a photosensitive resin having a rhodanine skeleton and affording a phosphor pattern of higher resolution.
ロダニン骨格を有する感光性樹脂を用いた蛍光体スラリーで、より高解像性の蛍光体パターンを得ることができるカラー陰極線管用蛍光体スラリーを提供する。 - 特許庁 - To provide an alkali-developable resin composition and an alkali-developable photosensitive resin composition excellent in sensitivity, resolution, transparency, adhesion, alkali resistance, etc., and capable of forming a fine pattern with high accuracy.
感度、解像度、透明性、密着性、耐アルカリ性等に優れ、微細パターンを精度良く形成できるアルカリ現像性樹脂組成物及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive polyamide ester composition useful for the production of electric/electronic materials, having a wide film thickness region in which i-line exposure is possible, and capable of giving a high resolution polyimide pattern.
電気・電子材料の製造に有用な、ｉ線露光可能な膜厚領域が広く、かつ高い解像度のポリイミドパターンを与え得る感光性ポリアミド酸エステル組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a photoresist composition suitable for short wavelength lithography such as electron beam lithography or EUV lithography, capable of giving a pattern having good sensitivity, resolution and shape.
電子線リソグラフィー又はＥＵＶリソグラフィー等の短波長リソグラフィーに適しており、感度、解像度及び形状が良好なパターンを形成し得るフォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition having high transparency particularly to ArF excimer laser light and excellent in basic solid state properties as a resist such as sensitivity, resolution and pattern shape.
特にＡｒＦエキシマレーザーに対する透明性が高く、感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れた感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive polyamic acid ester composition capable of shortening processing time in a development step in the production of a relief pattern and having high resolution and storage stability.
レリーフパターン製造時の現像工程における処理時間を短縮可能で、かつ高い解像度と保存安定性を有する感光性ポリアミド酸エステル組成物を提供すること。 - 特許庁 - To output a high-resolution image at high speed in a condition that texture due to a mask pattern used in multipulse recording is not noticeable even employing a multipulse recording method and a column thinning recording method.
マルチパス記録方法とカラム間引き記録方法を採用しつつも、マルチパス記録で用いるマスクパターンによるテクスチャが目立たない状態で、高解像度な画像を高速に出力する。 - 特許庁 - To form a pattern of arbitrary size including a size less than resolution in an arbitrary shape through exposure using one mask realizing phase shift effect.
位相シフト効果を実現する１枚のマスクを用いた露光によって、解像度程度以下の寸法を含む任意の寸法のパターンを任意の形状について形成できるようにする。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a semiconductor device capable of forming the CD value of a pattern in a groove (trench) and a recessed part (hole or via hole) at a resolution limit or below of a dual-damascene method with high precision.
デュアルダマシン法による解像限界以下の溝（トレンチ）及び凹部（孔又はビア）のパターンをＣＤ値を高精度に形成することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - When the drawing instruction does not consider the resolution (S225: NO), the printer driver executes a drawing processing by increasing the width of a line used as a drawing object or the size of a unit pattern used for fill at magnification equivalent to a ratio of the resolution of a drawing area for display to that of a drawing area for print (S235).
解像度を考慮していない場合は（Ｓ２２５：ＮＯ）、表示用描画領域と印刷用描画領域との解像度比に相当する倍率で、描画対象となる線の太さないし塗りつぶしに使う単位パターンの大きさを拡大して、描画処理を実行する（Ｓ２３５）。 - 特許庁 - To provide a photosensitive element which is made higher in the density and higher in the resolution of printed wiring by not only improving resolution and pattern accuracy but suppressing the deformation in the resist shape of a photoset portion after photoirradiation and a method of manufacturing a printed wiring board using the same.
解像度及びパターン精度を向上させるだけでなく、光照射後における光硬化部のレジスト形状の変形を抑制し、プリント配線の高密度化および高解像度化を図った感光性エレメントおよびこれを用いたプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - The resolution of an imaging unit to draw an image on an object is preliminarily determined; drawing pattern data are rasterized with the resolution of the drawing unit to generate raster data; and an image is drawn on the object by using the raster data.
予め、前記画像を被描画体に描画する描画ユニットの解像度を求め、前記描画パターンデータを前記描画ユニットの解像度でラスタライズしてラスターデータを生成し、このラスターデータを用いて被描画体上に画像を描画することにより、前記課題を解決する。 - 特許庁 - To provide an exposure method, and exposure apparatus, a method of manufacturing a device, and a device, where a pattern having a line width larger than resolution limit is transferred in desired contrast to secure desired resolution when a projection optical system clearing in midsection and a phase shift mask are used.
本発明は、中抜けのある投影光学系と位相シフトマスクを使用した場合に、限界解像よりも大きな線幅のパターンを所望のコントラストで転写して所望の解像度を確保する露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法及びデバイスを提供する。 - 特許庁 - The control for maintaining image quality in the initial operation when power is turned on is adapted to be performed at a lower resolution than that used for usual imaging processing by using a pattern in which the control for maintaining an image quality can be performed at a lower resolution than that used for usual imaging processing.
通常の画像形成処理に用いる解像度よりも低い解像度で画質維持制御を実行可能なパターンを用いて、電源投入時のイニシャル動作における画質維持制御を通常の画像形成処理に用いる解像度よりも低い解像度で実行するようにしたものである。 - 特許庁 - To provide an apparatus and a method for ink jet recording whereby recording pixels to be recorded are determined by applying a mask pattern for recording images by a higher resolution than a predetermined resolution to a pixel region, with respect to at least one of a horizontal scanning direction and a vertical scanning direction.
主走査方向及び副走査方向の少なくとも一方に関して、所定解像度よりも高い解像度で画像を記録するためのマスクパターンを画素領域に適用して、記録される記録画素を決定するインクジェット記録装置及び方法を提供する。 - 特許庁 - To obtain a small-sized, inexpensive and high resolution color image pickup by preventing the occurrence of a color Moire pattern caused by a periodic color coding arrangement and, at the same time, to substantially prevent the occurrence of resolution deterioration even when an isolated pixel defect exists.
周期的色コーディング配列に伴う色モアレの発生等の問題を本質的に解決し、小型低コストで高解像度を確保すると共に、孤立的画素欠陥が存在しても解像度の劣化が実質的に生じさせないカラー撮像の可能なカラー撮像素子及びカラー撮像装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition that gives a cured relief pattern with high resolution on copper or a copper alloy, as a useful coating film for manufacturing electric and electronic materials, and to provide a pattern forming method, a semiconductor device and a method for manufacturing the device using the above composition.
電気・電子材料の製造に有用な塗膜として、銅又は銅合金上で高い解像度の硬化レリーフパターンを与えうる感光性樹脂組成物、並びにこれを用いたパターン形成方法並びに半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a chemically amplified negative resist material which satisfies high sensitivity, high resolution and aging stability required by lithography in which fine pattern formation is required, particularly electron beam lithography and has excellent process adaptability and a good pattern shape.
微細なパターン形成が要求されるリソグラフィー、特に電子線リソグラフィーで求められる高感度、高解像度、経時安定性をより高いレベルで満たし、優れたプロセス適応性と良好なパターン形状を有する化学増幅型ネガ型レジスト材料を提供する。 - 特許庁 - To obtain a resin composition suitable for use as the resin component of a chemical amplification type positive type photoresist which exhibits superior sensitivity and resolution and gives a pattern having a good cross-sectional shape when a fine resist pattern is formed using radiation, e.g. KrF excimer laser light.
放射線、例えばＫｒＦエキシマレーザーを用いて微細なレジストパターンを形成する際に、優れた感度、解像度を示し、かつ断面形状の良好なパターンを与える化学増幅型ポジ型ホトレジストの樹脂成分として好適な樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a positive photosensitive resin composition developable with an aqueous alkali solution, having excellent mechanical properties (mechanical strength), sensitivity, resolution and heat resistance and giving a pattern of a good profile, and to provide a method for producing a pattern using the positive photosensitive resin composition.
アルカリ水溶液で現像可能であり、機械物性（機械強度）、感度、解像度および耐熱性に優れ、良好な形状のパターンが得られるポジ型感光性樹脂組成物および該ポジ型感光性樹脂組成物を用いたパターンの製造法を提供する。 - 特許庁 - To provide a curable composition having good pattern forming property and excellent in adhesion to a hard surface as a base, even when a colorant is contained at a high concentration, a color filter obtained by forming a high-resolution colored pattern, and a method for producing the same.
着色剤を高濃度に含有する場合であっても、良好なパターン形成性を有し、基材である硬質表面との密着性に優れた硬化性組成物、解像力の着色パターンを形成してなるカラーフィルタ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of patterning a lower layer film by which the film reduction of a resist pattern in the upper layer is suppressed and a pattern having sidewalls perpendicular to the film and a good square cross-sectional form can be formed with high resolution and high dimensional accuracy.
下層膜をパターニングする方法において、その上層のレジストパターンの膜減りを抑制するとともに、垂直な側壁を有し、断面が矩形の良好な形状を有するパターンを高い解像度、かつ高い寸法精度で形成する方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive composition which has high removability of development residue, allows formation of a fine pattern and is excellent in heat resistance, toughness, resolution and insulation; a forming method of a photosensitive film, a photosensitive laminate and a permanent pattern, using the photosensitive composition; and a printed board.
現像残渣除去性が高く、微細パターンが形成でき、耐熱性、強靭性、解像性、及び絶縁性に優れている感光性組成物、該感光性組成物を用いた感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板の提供。 - 特許庁 - To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that simultaneously satisfies high sensitivity, high resolution, good pattern profile and good line edge roughness, to provide a pattern forming method using the composition and a resin purifying method used for the composition.
高感度、高解像性、良好なパターン形状及び良好なラインエッジラフネスを同時に満足させる、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いたパターン形成方法及び該組成物に用いられる樹脂の精製方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for forming a resist pattern, with which the reciprocal problem between the resolution and the depth of focus can be solved and a microresist pattern be accurately formed at a sufficiently practical depth of focus than a line width which is sufficient to obtain the depth of focus.
解像度と焦点深度の相反する問題を解決し、充分に焦点深度が得られる線幅よりも微細なレジストパターンを十分な実用焦点深度をもって高精度に形成することができるレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
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