「second step」を含む例文一覧(5372)

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  • The third step sequentially performs the nanocarbon film forming step, the fullerene applying step and the burning step on the mold subject to the second step.
    第３工程は、第２工程後の金型を、ナノカーボン炭素膜形成工程と、フラーレン類塗布工程と、焼成工程とをこの順序で行う工程である。 - 特許庁
  • After identifying the problem, they then move on to that second step
    問題が何か識別した後は 第2のステップです - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書
  • In the second comparing step, the fourth parameter is compared with a second threshold value.
    第二比較工程では、前記第四パラメータが、第二の閾値と比較される。 - 特許庁
  • A second distribution is obtained by processing the second test data statistically at a second statistic processing step.
    第２統計処理ステップにより上記第２試験データを統計処理して第２分布を求める。 - 特許庁
  • The fuel injection nozzle 35 is provided with a first nozzle step 43 facing the first hole step 41, and a second nozzle step 44 facing the second hole step 42.
    燃料添加ノズル３５は、第１孔段差４１に対向する第１ノズル段差４３と、第２孔段差４２に対向する第２ノズル段差４４とを備えている。 - 特許庁
  • After finishing the second step, the molten iron and the slag are deoxidized with the deoxidant (a third step).
    第二工程終了後、脱酸剤で溶鉄とスラグを脱酸する（第三工程）。 - 特許庁
  • The step (a) includes a step to start up the first fan and to stop simultaneously the second fan.
    （ａ）のステップは、第一ファンを始動させ、同時に第二ファンを止めることを含む。 - 特許庁
  • The step (b) includes a step to start up the second fan and to stop simultaneously the first fan.
    （ｂ）のステップは、第二ファンを始動させ、同時に第一ファンを止めることを含む。 - 特許庁
  • A second steam heating step S5 is executed immediately after the cooling step S4.
    冷却工程Ｓ４後に直ちに第２の蒸気加熱工程Ｓ５が実施される。 - 特許庁
  • The second fluctuation amount Δωn2 is calculated at step 106, and operation advances to step 107.
    ステップ１０６では第２の変動量Δω_n2を算出し、ステップ１０７へ進む。 - 特許庁
  • The exposures of the second irradiation step are compared and then defocused as the first irradiation step.
    第２の照射ステップの露光は、第１の照射ステップと比較して、デフォーカスする。 - 特許庁
  • A first step exposes boundary areas 11 and a second step exposes the larger, bulky areas 12.
    まず境界域１１を露光し、２番目に大面積のバルク域１２を露光する。 - 特許庁
  • The second liquid film is removed (step ST109).
    前記第２の液膜を除去する（ステップＳＴ１０９）。 - 特許庁
  • In the second step, the krill without phospholipids are cooked.
    第２の段階では、リン脂質のないオキアミを調理する。 - 特許庁
  • In the second flaw detection step, the hydrogen defects are detected.
    第２回探傷ステップは、水素性欠陥を検出する。 - 特許庁
  • The second heating step is a step of reheating the second end 10B by making the heating means 20 traverse above the second end 10B in the reverse direction when compared with the first heating step.
    第２の加熱工程は、加熱手段２０を第２の端部１０Ｂの上を、第１の加熱工程とは逆方向に横切らせることにより再度加熱する工程である。 - 特許庁
  • In the second step, light is applied through a lens 9a.
    ２回目はレンズ９ａを介して光を照射する。 - 特許庁
  • The reference value is made larger in the second step than that in the first step, a block size is made smaller in the second step than that in the first step, the isolated moving object block is integrated with a moving object cluster near thereto in the second step, alternatively only a brightness component is used in the first step and a color component is used in the second step.
    第２段階での該基準値を第１段階のそれより大きくし、第２段階での該ブロックのサイズを第１段階のそれより小さくし、第２段階で孤立移動物体ブロックのをその近くの移動物体クラスタと一体化し、又は、第１段階で輝度成分のみ用い第２段階で色成分を用いる。 - 特許庁
  • The preservation method of acetobacter includes a first dilution step, a centrifugation and second dilution step, a freezing step and a preservation step.
    本発明の酢酸菌の保管方法は、一次希釈工程、遠心分離及び二次希釈工程、凍結工程、保管工程を含む。 - 特許庁
  • A manufacturing method of a semiconductor device of one embodiment includes a first step, a second step, and a third step.
    実施形態の半導体装置の製造方法は、第１工程、第２工程および第３工程を含む。 - 特許庁
  • This performance evaluation method for the facility devices comprises a first step S1, a second step S2, and a third step S3.
    設備機器の性能劣化評価方法は、第１ステップＳ１と、第２ステップＳ２と、第３ステップＳ３とを備える。 - 特許庁
  • This method for producing the hydrated salt for heat storage includes a first step, a second step and a third step.
    本発明の蓄熱用水和塩の製造方法は、第１工程、第２工程および第３工程を含む。 - 特許庁
  • The method of manufacturing a studless tire includes a first step, a second step and a third step.
    本発明に係るスタッドレスタイヤの製造方法は、第一工程と、第二工程と、第三工程を有している。 - 特許庁
  • This memory cell programming method includes a first programming step, a second programming step and a stabilization step.
    本発明は、第１プログラミングステップ、第２プログラミングステップ、及び安定化ステップを含むメモリセルプログラミング方法に関する。 - 特許庁
  • The polishing method includes a first preliminary polishing step, a second preliminary polishing step, and a finishing polishing step.
    本発明の研磨方法は、第１予備研磨工程、第２予備研磨工程及び仕上げ研磨工程を備える。 - 特許庁
  • This method for manufacturing the multiple time bending piping includes a first bending step, a twisting step and a second bending step.
    多回曲げ配管の製造方法は、第１曲げ工程、捩り工程及び第２曲げ工程を備える。 - 特許庁
  • Based on a predetermined condition, one of the first step count and the second step count is selected as the user's step count.
    そして、所定の条件に基づいて、第１歩数および第２歩数の一方をユーザの歩数として選択する。 - 特許庁
  • The polylactic acid is produced by performing a first decomposition step, a second decomposition step, and a polymerization step.
    第１分解工程と第２分解工程と重合工程とを行うことによりポリ乳酸を製造する。 - 特許庁
  • A manufacturing method of a coil with an insulation film comprises a first electrodeposition step, a second electrodeposition step, and a baking step.
    絶縁被膜付コイルの製造方法は、第１電着工程と、第２電着工程と、焼付け工程とを備える。 - 特許庁
  • In the second mark, a second level difference can be formed in the substrate processing step.
    第２のマークには、該基板処理工程により第２の段差が設けられ得る。 - 特許庁
  • This data communication method for the air conditioning control system comprises a first step and a second step.
    空調制御システムのデータ通信方法は、第１ステップおよび第２ステップを備える。 - 特許庁
  • The first electrode formation step is executed earlier than the second electrode formation step.
    そして、第１電極形成工程は、第２電極形成工程よりも先に実施される。 - 特許庁
  • A carrier vehicle is formed into a two-step type comprising first/second step carrier vehicles 1, 2.
    キャリアビークルを、第１段キャリアビークル１と第２段キャリアビークル２とからなる２段式とする。 - 特許庁
  • In the baking step, the coil 30 that has been electrodeposited in the second electrodeposition step, is baked.
    焼付き工程では、第２電着工程により電着されたコイル３０を焼付ける。 - 特許庁
  • An etching process comprises a first step and a second step at least repeated once.
    エッチング処理は、少なくとも１回繰り返す第１のステップと、第２のステップを含む。 - 特許庁
  • In a third step, the working device is set to an automatic restoring mode (second setting step).
    第３ステップでは、作業装置を自動復帰モードに設定する（第２設定工程）。 - 特許庁
  • A first step part 151 and a second step part 152 surround the positioning part 112.
    第１の段差部１５１及び第２の段差部１５２は、位置決め部１１２を包囲している。 - 特許庁
  • The second photolithographic step includes an etching step of two different stages of processing conditions.
    第２フォトリソグラフィ工程は、加工条件の異なる２段階のエッチング工程を含む。 - 特許庁
  • This method comprises the first step of continuous multi-step polymerization, the second step of continuous multi-step imide ring formation, and the third step of continuous evaporation of solvents.
    第一工程が連続多段重合、第二工程が連続多段イミド化反応、第三工程が連続脱揮工程よりなる連続的イミド化共重合体の製造方法。 - 特許庁
  • A carbonizing step for carbonizing a PAN-based flame-proofed fiber is constituted of the first carbonizing step, the second carbonizing step and the third carbonizing step.
    ＰＡＮ系耐炎化繊維を炭素化する炭素化工程を、第一炭素化工程と第二炭素化工程と第三炭素化工程とで構成する。 - 特許庁
  • Alternatively, the method includes a regulation step of lowering the substrate temperature, after the first film deposition step and the second film deposition step has been carried out, after the adjustment step.
    また、第１の成膜工程の後で基板温度を下げる調整工程を含み、この調整工程の後、第２の成膜工程を行う。 - 特許庁
  • Next, as a third step, the second grooves 7a are formed in the second layer 7.
    次に、第３の工程として、第２の層７に第２の溝７ａを形成する。 - 特許庁
  • The method also comprises a step of finally forming a second electrode on the dielectric layer.
    最後に、誘電層上に第２電極を形成する。 - 特許庁
  • In the second step, the rotor is accelerated to a normal actuating speed.
    ロータをほぼ通常の作動速度まで加速するステップ。 - 特許庁
  • Similarly, the method includes a step of forming a second winding part (steps S5, S6).
    同様に第２巻線部を形成する（ステップＳ５、Ｓ６）。 - 特許庁
  • The second step of the infrastructure needs to take care
    インフラの第二段階として取り組まなければならないのは - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書
  • A second opening 132 is formed by a fifth mask step.
    第２開口部１３２が第５マスク工程で形成される。 - 特許庁
  • Then, a step (S60) of removing the second mask layer is performed.
    第２のマスク層を除去する工程（Ｓ６０）を実施する。 - 特許庁
  • Then, a second projection dimension H2 of the second step part is made larger than the first projection dimension H1 of the first step part.
    そして、第１段部の第１突出寸法Ｈ１よりも第２段部の第２突出寸法Ｈ２を大きくした。 - 特許庁
  • The step transferring the second mask pattern includes a step transferring the second mask pattern to another part 47 of the pixel.
    第２のマスクパターンを転写する工程は、画素内の他の部分４７に第２のマスクパターン部分を転写する工程を含む。 - 特許庁
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