「shape pattern」を含む例文一覧(3752)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 75 76 次へ＞- To prevent pattern defects from occurring in extreme ultraviolet light exposure and to form a fine pattern having a good shape.
極紫外線露光におけるパターン不良を防止して、良好な形状を有する微細パターンを形成できるようにする。 - 特許庁 - At such a time, a terminal part 4b of the circuit pattern 4 is simultaneously formed into discontinuous shape inside the coil pattern 4c.
このとき同時に回路パターン４の終端部４ｂをコイルパターン４ｃの内側に不連続の形態で形成する。 - 特許庁 - A deflection pattern 37 dented in triangular prism shape and a diffusion pattern 38 are formed on a back face of a light guide plate.
導光板の裏面には、三角プリズム状に窪んだ偏向パターン３７と、拡散パターン３８とが形成されている。 - 特許庁 - The hologram substrate 3 has a prescribed pattern shape and transmits and scatters the irradiated laser beam with the prescribed pattern.
ホログラム基板３は所定のパターン形状を有しており、照射されたレーザー光を所定のパターンで透過、散乱する。 - 特許庁 - To provide a pattern formation method with which a detailed reverse pattern is formed in the good shape with the small number of processes.
微細な反転パターンを、少ない工程数で、良好な形状で形成できるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a resist composition and a method for forming a resist pattern, by which a resist pattern in a good shape with high sensitivity can be formed.
高感度で、良好な形状のパターンを形成できるレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - To provide marks which have the same shape and the same pattern but have different colors each other and which is efficiently obtained at a low cost without using a pattern.
型を用いることなく低コストで効率よく得られる、形状・模様が同じで色が異なるマークの提供。 - 特許庁 - To provide a process for producing a resist pattern, by which a pattern having an excellent shape can be formed.
優れた形状を有するパターンを形成することができるレジストパターンの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To obtain a radiation sensitive composition excellent in sensitivity, resolution and pattern shape and to provide a pattern forming method using the composition.
感度、解像度、パタン形状に優れた感放射線組成物およびこれを用いたパタン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a novel resist pattern forming method capable of forming a resist pattern in a good shape with high resolution.
良好な形状で、かつ高解像性のレジストパターンを形成できる新規なレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The pattern of arrangement of the abrasive grains 2 on the surface of the base 6 consists in a repetition of a fundamental pattern having a rectangular shape.
台金６の表面における超砥粒２の配置パターンは、長方形の基本パターンを繰り返したものである。 - 特許庁 - To generate an appropriate pattern by simpler processing in a case where the shape or the size of a pattern area can be changed.
パターン領域の形状や大きさを変更できる場合において、より簡単な処理で適切なパターンを生成する。 - 特許庁 - To provide a negative resist composition capable of forming a resist pattern of a good shape and a resist pattern forming method.
良好な形状のレジストパターンを形成できるネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - Shape information of the inspection aspheric surface 8a is acquired by a shape analyzer 41 based on a shape deviation from the reference pattern, of a deformed pattern image acquired by projecting the pattern image onto the inspection aspheric surface 8a and imaging it by an imaging system 3.
このパターン像が被検非球面８ａに投影されて撮像系３により撮像された変形パターン像の、基準パターンからの形状偏差に基づき、形状解析装置４１において被検非球面８ａの形状情報が求められる。 - 特許庁 - Then, a fundamental shape disposing pattern of a rule for disposing the fundamental shape on an image to be formed is formed (S2).
次に、作成する画像上に基本形状を配置する規則である基本形状配置パターンを作成する（Ｓ２）。 - 特許庁 - To eliminate the necessity of developing a different resist for each mask by using the photoresist of the same kind for both a photomask having a punched pattern and another photomask having a solid pattern, and by obtaining a resist pattern having a rectangular shape even when the photomask having any pattern, either a punched pattern or a solid pattern, is used when the resist pattern is formed.
レジストパターンの形成において、フォトマスクが抜きパターンの場合と残しパターンの場合に同一種類のフォトレジストを使い、かつ両方のパターンで矩形形状が得られるようにすることで、マスク毎に異なったレジストを開発する必要性を無くすことを目的とする。 - 特許庁 - To improve a contrast and a DOF when a pattern in an arbitrary shape is formed.
任意形状のパターンの形成においてコントラスト及びＤＯＦを向上させる。 - 特許庁 - The shape of the sensitive material pattern is transferred to a light shielding film by etching.
その後、エッチングによって感光性材料パターン形状を遮光膜に転写する。 - 特許庁 - In this way, a display pattern of a shape corresponding to the through hole 41 is formed.
これにより、貫通孔４１に対応した形状の表示パターンが形成される。 - 特許庁 - Both side surfaces of each signal wiring pattern 2 are formed in the shape including concave and convex areas.
各信号配線パターン２の両側面が凹凸形状に形成されている。 - 特許庁 - To improve detection accuracy in a position of a recognition mark having a minute pattern shape.
微細なパターン状を有する認識マークの位置の検出精度を向上する。 - 特許庁 - Thereafter, the punched die sheet is taken off and the shape of the pattern X is drawn on the upper surface 2.
その後、打抜型シートを外して上面２に図柄Ｘの形状を描く。 - 特許庁 - To provide a resist composition from which a resist pattern of an excellent shape can be obtained.
優れた形状のレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a patterning method for an aluminum shape having a pattern with a sense of natural texture or a three-dimensional and geometric pattern, and an aluminum shape obtained thereby.
自然の風合い感のある模様や立体感のある幾何学的模様を備えたアルミニウム形材の模様付け方法と、それにより得られたアルミニウム形材を提供する。 - 特許庁 - To realize good forming of the shape of a resist pattern obtained by an immersion lithography.
浸漬リソグラフィにより得られるレジストパターンの形状を良好にできるようにする。 - 特許庁 - Plotting is started from one part outside of a seal pattern in a closed loop shape and the plotting is ended at a part outside of the seal pattern in the closed loop shape different from the part where the plotting is started.
閉ループ状シールパターンの外のいずれかから描画し始め、かつ描画し始めた箇所と異なる閉ループ状シールパターンの外の箇所で描画し終わる。 - 特許庁 - The first light source shape is such a light source shape that optimizes processing tolerance for forming an on-substrate pattern adapted to the at least two pattern layouts.
また、第１の光源形状は、前記少なくとも２つのパターンレイアウトに応じた基板上パターンを形成する際のプロセス裕度が最適化される光源形状である。 - 特許庁 - A shape pattern 21, which is similar to a shape pattern provided in the bargeboard, is provided on an outer peripheral part along the two long sides 11 and 12 among outer peripheral parts of the building board 1.
建築板１の外周部のうち，２辺の長辺１１，１２に沿う外周部には，破風板に設けた形状模様と同様の形状模様２１を設けてある。 - 特許庁 - The pattern is corrected in consideration of the container shape, the label position, and shrinkage.
このとき容器形状やラベル位置や収縮度を考慮して絵柄が補正される。 - 特許庁 - To excellently form a shape of a resist pattern obtained by immersion lithography.
液浸リソグラフィにより得られるレジストパターンの形状を良好にできるようにする。 - 特許庁 - PATTERN SHAPE OF PRINTED CIRCUIT BOARD, AND INSULATION DETERIORATION TEST METHOD OF PRINTED CIRCUIT BOARD
プリント配線板のパターン形状及びプリント配線板の絶縁劣化試験方法 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING THIN FILM ON MASK FOR PRESCRIBING MAGNETIZATION PATTERN SHAPE AND MASK FOR PRESCRIBING MAGNETIZATION PATTERN SHAPE, AS WELL AS METHOD FOR REMOVING SURPLUS THIN FILM OF THE MASK
磁化パターン形状規定用マスクに対する薄膜形成方法及び磁化パターン形状規定用マスク、並びに磁化パターン形状規定用マスクの余剰薄膜除去方法 - 特許庁 - To provide a resist composition capable of manufacturing a resist pattern with an excellent shape.
形状の優れたレジストパターンを製造することができるレジスト組成物の提供。 - 特許庁 - The plastic sheet 12 is subjected to drawing around the pattern 13 to be a box shape.
プラスチックシート12を放射導体パターン13のまわりで絞り成形して箱形にする。 - 特許庁 - To form a coil into a vertical shape while preventing coil pattern error and penetration.
「コイルパターン飛び」や「しみこみ」を防止しつつ、コイルを垂直な形状に形成する。 - 特許庁 - A wiring board 2 includes: a wiring pattern 21 having a desired shape of a recognition mark 21a in a planar shape; and a solder resist layer 30 covering the wiring pattern 21.
配線基板２は、平面形状が認識マーク２１ａの所望の形状となる配線パターン２１と、この配線パターン２１を覆うソルダレジスト層３０を含む。 - 特許庁 - APPARATUS AND METHOD FOR MEASURING MASK PATTERN SHAPE, AND RECORDING MEDIUM
マスクパターン形状計測装置及びマスクパターン形状計測方法並びに記録媒体 - 特許庁 - To make the shape of a resist pattern, obtained by immersion lithography, excellent.
液浸リソグラフィにより得られるレジストパターンの形状を良好にできるようにする。 - 特許庁 - In step (a), it is preferable that the background pattern 2 be formed into a mesh shape.
（ａ）の工程において、下地パターン２は網目状に形成されるのが好ましい。 - 特許庁 - To improve contrast and DOF (depth of focus), in forming a pattern of arbitrary shape.
任意形状のパターンの形成においてコントラスト及びＤＯＦを向上させる。 - 特許庁 - Moreover, the MOSFET is formed into a constitution such that the shape of a planar layout is formed into a mesh shape, a non-trench etching region is left within a trench etching region on a mesh pattern of island shape or into a shape of pleats, and trench etching region is formed within the non-trench etching region on the mesh pattern insularly or into a shape of pleats.
また、平面的なレイアウト形状をメッシュ形状とし、メッシュパターンのトレンチエッチング領域の中に非トレンチエッチング領域を島状や襞形状に残したり、メッシュパターンの非トレンチエッチング領域の中にトレンチエッチング領域を島状や襞形状に形成した構成とする。 - 特許庁 - To provide a marking pattern suppressing impairment of a predetermined shape of the marking pattern due to wear of a part caused by the direct contact of the part formed in the predetermined shape with other members in the marking pattern, and to provide a method for forming the marking pattern.
マーキングパターンにおける所定の形状をした部分の他の部材などが直接接触することで、部分が磨耗し、所定の形状が損なわれることを抑制することができるマーキングパターン、及びマーキングパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a technique for easily improving the pattern shape of a resist film without changing a resist film itself and improving a manufacturing apparatus, when the pattern shape of the resist film becomes faulty including a T-top shape and a round shape.
レジスト膜のパターン形状が、例えばＴトップ形状やラウンド形状といった形状不良になる場合に、レジスト膜自体の変更や製造装置の改良をすることなく、容易にレジスト膜のパターン形状を改良できる技術を提供する。 - 特許庁 - At that time, a shape in plan view of the conductive pattern is a rectangular wiring shape in which the angular part is chamfered, and the shape in sectional view is a substantially flat shape as a whole which has little protuberance at the angular part, and in which the angular part is contiguous to a pattern central part smoothly.
その際、導電パターンの平面視形状は角部に面取りが施された矩形の配線形状とし、その断面視形状は該角部の盛り上がりが少なく、パターン中央部となだらかに連なり全体が略平坦な形状とする。 - 特許庁 - The second light source shape is such a light source shape that optimizes processing tolerance for forming an on-substrate pattern adapted to a pattern layout formed on the semiconductor device and adapted to at least the two pattern layouts.
第２の光源形状は、前記半導体装置に形成するパターンレイアウトおよび前記少なくとも２つのパターンレイアウトに応じた基板上パターンを形成する際のプロセス裕度が最適化される光源形状である。 - 特許庁 - If the light-absorbing layer is in a partially provided desired pattern shape, a film-forming pattern reflecting the pattern shape of the light-absorbing layer on which light is irradiated is deposited on the substrate later to be a part of the display panel.
光吸収層が部分的に設けた所望のパターン形状であれば、光が照射された光吸収層のパターン形状を反映した成膜パターンが後に表示パネルの一部となる基板に成膜される。 - 特許庁 - The checkered steel plate 1 includes a stripe pattern in which a plurality of stripes 1a is continued in a lattice shape, the pattern being protrusively provided on one surface (main surface) 11 thereof.
縞鋼板１は、複数の縞１ａが格子状に連続する縞模様を一方の面（オモテ面）１１に突設する。 - 特許庁 - The inner via-land 14 has the shape of a pattern for connection different from that of a normal wiring pattern in order to perform inter-layer connection.
内層バイアランド１４は層間接続を行うために、通常の配線パターンと異なる接続用パターン形状としてある。 - 特許庁 - Hereby, a plane shape in the region with different sheet resistance is formed in such a pattern as a stripe pattern arranged alternately.
ここで、上記シート抵抗の異なる領域の平面形状は、交互に配置されたストライプ状パターンの形状に形成される。 - 特許庁 - The method also comprises the steps of then disposing the pattern information on the layout information (S17), and elongating or contracting the pattern information to match the shape of the layout information (S18).
次に、パターン情報を、レイアウト情報に配置し（Ｓ１７）、レイアウト情報の形状に合わせて伸縮する（Ｓ１８）。 - 特許庁
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