「shape pattern」を含む例文一覧(3752)
＜前へ 1 2 .... 5 6 7 8 9 10 11 12 13 .... 75 76 次へ＞- To provide a chemically amplified photoresist composition that forms a pattern having an excellent shape and good line edge roughness and shape, and to provide a method for forming a pattern using the composition.
優れた形状、良好なラインエッジラフネス及び形状を示すパターンを形成し得る化学増幅型フォトレジスト組成物及びそれを用いたパターンの形成方法等を提供することにある。 - 特許庁 - To provide a pattern shape evaluation method that can securely determine whether patterns are connected or disconnected and, further, evaluate a pattern shape quantitatively.
パターンが連結しているか分断しているかを確実に判断することができ、さらに、パターン形状を定量的に評価することが可能なパターン形状の評価方法を提供する。 - 特許庁 - On a surface of a printed board 1, a reverse L shape antenna pattern 5 comprising a conductor pattern 5b connected to a ground pattern 2 is formed so as to close the outside of a reverse F-shaped antenna pattern 4 comprising a conductor pattern 4b connected to a supply point 3 and a conductor pattern 4c connected to the ground pattern 2.
プリント基板１の表面に給電点３に接続された導体パターン４ｂとグランドパターン２に接続された導体パターン４ｃを備えた逆Ｆ形状アンテナパターン４の外側に近接するように、グランドパターン２に接続された導体パターン５ｂを備えた逆Ｌ形状アンテナパターン５を形成する。 - 特許庁 - Namely, a crest-like pattern shape having a vertex (starting point) 27a in its central part is adopted to the micro- mirror forming section of the mask pattern 27.
つまり、マスクパターン２７のマイクロミラー形成部には、中央部に頂点（起点）２７ａを有する山型のパターン形状が採用される。 - 特許庁 - To provide a wiring circuit board formed by adhering a wiring pattern to have a more fine wiring pattern shape.
配線パターンを貼り付けて形成される配線基板であって、より微細な配線パターン形状を有する配線基板を提供する。 - 特許庁 - To provide a device for forming stereoscopic pattern and a method for forming stereoscopic pattern, capable of forming a fine component having a stereoscopic shape such as microlens, without using a special photomask.
特殊なフォトマスクを使用することなく、マイクロレンズ等の立体形状を有する微小部品を形成できるようにする。 - 特許庁 - A high permeability material 32 patterned along the shape of the FG pattern is arranged between the circuit board and the FG pattern.
回路基板とＦＧパターンとの間には、ＦＧパターンの形状に沿ってパターニングされた高透磁率材料３２が配置されている。 - 特許庁 - To provide a pattern forming device capable of forming a pattern in an uneven shape on a substrate without using a template.
テンプレートを用いることなく基板に凹凸状のパターンを形成することができるパターン形成装置を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition capable of forming a resist pattern having small LWR (line width roughness) and excellent pattern shape.
ＬＷＲが小さく、かつ、パターン形状に優れたレジストパターンを形成可能である感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a multilayer thin-film pattern and a display device capable of easily obtaining a pattern into a desired shape.
間便に所望の形状のパターンを得ることのできる多層薄膜パターン及び表示装置の製造方法を提供すること - 特許庁 - A wiring layer 3 is formed by thickening the deposited metal layer 7, and pattern wiring 5 is formed to have a predetermined pattern shape.
配線層３は、析出した金属層７を厚膜化して形成し、所定のパターン形状となるようにパターン配線５を形成する。 - 特許庁 - To provide a hard mask pattern for defining a target pattern in a matrix shape arrayed finely below the resolution of exposure equipment.
露光装備の解像度以下に稠密に配列されたマトリックス状の目標パターンを定義するためのハードマスクパターンを形成すること。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition which is capable of forming a resist pattern that has low LWR and excellent pattern shape.
ＬＷＲが小さく、かつ、パターン形状に優れたレジストパターンを形成可能である感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for modifying the pattern shape of a photomask by properly correcting a deformation caused in the pattern by a photo-proximity effect.
光近接効果により生じたパターンの変形を適切に修正し、補正するフォトマスクのパターン形状補正方法を得ること。 - 特許庁 - To provide methods for manufacturing a multilayer thin film pattern and a display device which can easily obtain a pattern having a desired shape.
間便に所望の形状のパターンを得ることのできる多層薄膜パターン及び表示装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - The second pattern 142 has a taper pattern of a trench or hole in which a planar shape reduces as a thickness of the polishing layer 14 decreases.
第２パターン１４２は、研磨層１４の厚さの減少に応じて平面形状が小さくなる溝または穴のテーパーパターンを有する。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition for forming a resist pattern of good shape with high resolution and a resist pattern forming method.
高い解像性で、良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition exhibiting excellent resolution with which a resist pattern having a good shape is formed, and to provide a method for forming a resist pattern.
解像性に優れ、良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - To provide a pattern inspection device for enabling the verification based on an image containing the data related to the shape in the thickness direction of a wiring pattern.
配線パターンの厚さ方向の形状に関する情報を含む画像に基づくベリファイを可能にするパターン検査装置の提供。 - 特許庁 - The pattern projection apparatus is provided with a plurality of light sources 1 and 2, and a pattern board 3 where a light transmission section in a specific shape is provided.
本パターン投影装置は、複数の光源１、２と、所定の形状の光透過部を設けたパターン板３とを具備している。 - 特許庁 - To solve a problem that it is difficult to obtain a mold having a cavity surface of desired hardness, in the case that a pattern of a pattern plate has a complicated shape.
模型板の模型が複雑な形状を成す場合には、キャビティ面が所望の硬度を有する鋳型を得るのが難しい。 - 特許庁 - To provide a transfer method of the servo pattern which can transfer a magnetic pattern of an arbitrary shape having a clear edge boundary.
鮮明な縁部境界を有する任意の形状の磁気パターンを転写することができる、サーボパターンの形成方法が必要である。 - 特許庁 - The first pattern 141 has a pattern of a trench or hole which holds an equivalent planar shape even if a thickness of the polishing layer 14 changes.
第１パターン１４１は、研磨層１４の厚さが変わっても同等の平面形状を保つ溝または穴のパターンを有する。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition capable of forming a resist pattern excellent in shape and etching resistance, and a resist pattern forming method.
形状およびエッチング耐性に優れたレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The method for restoring the shape of the pattern of the substrate having an imperfect pattern comprises; (a) a step of detecting the imperfect pattern by inspecting the substrate; and (b) a step of restoring the shape of the pattern by etching or depositing the detected imperfect pattern with radiation.
不完全なパターンを有する基材のパターンの形状を修復する方法であって、（ａ）基材を検査して不完全なパターンを検出するステップと、（ｂ）前記検出された不完全なパターンを放射線によりエッチング又は堆積してパターンの形状を修復するステップ、を含むことを特徴とする、形状修復方法を用いる。 - 特許庁 - To solve a problem that, although there has been a method of evaluating pattern shapes of electronic devices by using design data or a non-defective pattern as a reference pattern, the pattern shape cannot be evaluated with high accuracy because of difficulty in defining an exact shape suitable for manufacturing conditions of the electronic devices by the design data or the non-defective pattern.
設計データや良品パターンを参照パターンとして、電子デバイスのパターン形状を評価する方法があるが、設計データや良品パターンでは、電子デバイスの製造条件に適合した形状を正確に定義することが困難であり、パターンの形状を高精度に評価することができない。 - 特許庁 - To provide a pattern forming material capable of obtaining high sensitivity and a satisfactory resist pattern shape, superior in insulation reliability, and capable forming a high-definition pattern, and to provide a pattern forming method employing the same and a printed board on which a permanent pattern is formed by the pattern forming method.
感度が高く、良好なレジストパターン形状が得られ、かつ、絶縁信頼性に優れ、高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法、及び前記パターン形成方法により永久パターンが形成されるプリント基板の提供。 - 特許庁 - In this exposure device for transferring the pattern to the material to be exposed through exposure in the pattern shape by using the pattern imparting member for giving the pattern which is to be transferred, the edge roughness of the pattern formed by the exposure is evaluated and the pattern imparting member replacement is performed based on the evaluation.
転写すべきパターンを与えるパターン付与部材を用いてパターン状に露光することにより被露光材にパターン転写を行う露光装置において、露光により形成されるパターンのエッジラフフネスの評価を行い、該評価に基づいて、上記パターン付与部材の交換を行う。 - 特許庁 - A main controller 17 operates, when a paste pattern is drawn by a paste coater, so that a shape-awarding data may be obtained by awarding the shape of a paste pattern drawn by a pictorial awarding camera 15, and a section shape data is obtained by measuring the height of the paste pattern by a range meter 16.
ペースト塗布機がペーストパターンを描画すると、主制御部１７が動作し、画像認識カメラ１５によって描画形成されたペーストパターンの形状を認識して形状認識データを得、距離計１６でペーストパターンの高さを計測して断面形状データを得る。 - 特許庁 - The membrane heat-sensing member 46 mounted on the holding member constituted of the insulating film is formed into a zigzag pattern shape, having curved folding-back parts D, and the cross section of the pattern width (w) of the pattern shape is formed into a trapezoidal shape having inclined surfaces 46d formed to both ends.
絶縁膜で構成する保持部材上に搭載する薄膜熱感知体４６を、湾曲した折り返し部Ｄを有する九十九折りのパターン形状に形成し、そのパターン幅ｗの断面を、両端に傾斜面４６ｄをもたせた台形形状に形成する。 - 特許庁 - In the proximity of the outside of an outer periphery edge of a display region 12a having a pixel pattern formed in a grid shape, a dummy pattern 11a having the same structure as that of the pixel pattern formed in the grid shape is formed as alignment marks.
絵素のパターンが格子状の形成される表示領域１２ａの外周の辺の外側の直近に、格子状に形成される絵素のパターンと同じ構造を有するダミーパターン１１ａをアライメントマークとして形成する。 - 特許庁 - A pattern shape of a transverse rectilinear form covering the extraction pattern 17Aa and a pattern shape indicating a character 'OFF' are formed within the display area (on the inner side of an alternate long and two short dashes line f) of the liquid crystal display device by the sealing material S'.
このシール材Ｓ’により、液晶表示装置の表示エリア内（二点鎖線ｆの内側）に引き出しパターン１７Ａａを覆う横一直線状のパターン形状と「ＯＦＦ」の文字を表すパターン形状とが形成される。 - 特許庁 - A control section 63 conveys a piece of paper, on which a line pattern is projected in a width direction by a pattern projector 62, to a fixing nip; measures the shape of the line pattern on paper by means of an area sensor 61; and detects the shape of deformation outside the surface of paper.
制御部６３は、パタン投影機６２で幅方向にラインパタンが投影された用紙を定着ニップへ搬送し、エリアセンサ６１で、用紙上のラインパタンの形状を測定して、用紙の面外変形形状を検知する。 - 特許庁 - To provide a pattern forming technique capable of preventing a rectangular minute pattern having a size approximate to the limit resolution from easily becoming round, and forming minute pattern matching a target shape without causing shape collapse.
本発明は、限界解像度に近いサイズの矩形状の微細パターンであっても円形になり難く、目的の形状に合致した微細パターンを型くずれすることなく形成できるパターン形成技術の提供を目的とする。 - 特許庁 - The pattern for leveling management has the first hole pattern for level difference inspection consisting of an approximate circle in the diameter (a) of a plane shape and the second hole pattern for level difference inspection consisting of an approximate circle in the diameter (a) of a plane shape.
このレベリング管理用パターンは、平面形状が直径ａの略円形からなる第１の段差検査用ホールパターンと、平面形状が直径ａの略円形からなる第２の段差検査用ホールパターンと、を有する。 - 特許庁 - Furthermore, a shape storage binary image generating means 11 stores the shape of the linear pattern and generates a binary image, including the background noise.
また、形状保存二値画像生成手段１１が線状パターンの形状を保存するが背景ノイズを含む二値画像を生成する。 - 特許庁 - A shape for repeatedly expressing specks or the like for constituting a pattern as seen on the surface of an animal is formed as a fundamental shape (S1).
動物の表面に見られる模様を構成する班点等の繰り返し表れる形状を基本形状として作成する（Ｓ１）。 - 特許庁 - Cross-sectionally V-shape grooves 2 are formed on a substrate layer 1 using a transparent material and dot-pattern printing 3 is formed between the rows of V-shape grooves.
透明材料を使った基板層１に断面Ｖ字溝２とＶ字溝の配列の間にドットパターン印刷３を形成する。 - 特許庁 - To shorten time required for drawing while almost matching a shape of a resolving pattern with a shape of a figure contained in drawing data.
解像パターンの形状と描画データに含まれている図形の形状とをほぼ合致させつつ、描画所要時間を短くする。 - 特許庁 - Directions of the notch parts 210-215 are aligned in the prescribed direction, and the shape of the conductor pattern is the approximate C-shape.
この切り欠き部２１０〜２１５の方向は所定方向に揃えられており、導体パターンの形状は、略Ｃ字形状とされている。 - 特許庁 - The concavo-convex shape on an exposure surface 14a of a drawing object 14 where a drawing pattern is to be formed is measured with a shape measuring device 28.
描画パターンが形成される被描画体１４の露光面１４ａの凹凸形状を形状測定器２８で測定する。 - 特許庁 - A shape feature extraction part 30 extracts a candidate of the detecting target based on a shape formed by the dot pattern.
形状特徴抽出部３０は、前記ドットパターンにより形成された形状をもとに前記検出対象の候補を抽出する。 - 特許庁 - Pattern distribution calculating means 4 generates the three-dimensional distribution of the patterns of the shape of the lip and the time change of the shape.
次に、パターン分布算出手段４は該唇の形状、及び該形状の時間的変化のパターンの３次元的な分布を生成する。 - 特許庁 - Then, the shape of the cam 40 has a shape capable of charging a burden load in a predetermined bodily motion pattern to the pressurization section.
また、このとき、カム４０の形状が所定の身体動作パターンにおける負荷荷重を加圧部に付与可能な形状をなしている。 - 特許庁 - To provide a method for obtaining a desired cross-sectional shape as a cross-sectional shape of a fine groove pattern composed of a photosensitive resin material.
感光性樹脂材料からなる、微細溝パターンの断面形状を、希望とする断面形状に得るための方法を提供する。 - 特許庁 - When a rugged pattern is formed by dry etching corresponding to the shape of a mask formed on a substrate, the mask is controlled so that the mask is made to retreat as the etching proceeds and the shape of the side wall of the rugged pattern is formed in an inclined face shape.
基板上に形成されたマスクの形状に対応してドライエッチングにより凹凸パターンを形成するに際し、マスクがエッチングに伴って後退し、凹凸パターンの側壁形状が傾斜面に制御されるようにする。 - 特許庁 - The alignment controlling protrusion of the color filter is the alignment controlling protrusion 39 formed by grinding a pattern 37 with a nearly rectangular planar shape and a nearly rectangular sectional shape or a pattern with a circular planar shape and a nearly rectangular sectional shape formed by using a photoresist so as to form a protrusion with the circular arc shaped sectional shape.
配向制御用突起が、フォトレジストを用いて形成した平面形状及び断面形状が略矩形状のパターン３７、或いは平面形状が円形状で断面形状が略矩形状のパターンを研磨して、その断面形状を円弧状の突起に形成した配向制御用突起３９であることを。 - 特許庁 - A second coil portion 60 is in similar shape as the first coil portion 40 and has a third coil pattern portion 61 corresponding to the first coil pattern portion 41 and a fourth coil pattern portion 62 corresponding to the second coil pattern portion 42.
第２コイル部６０は、第１コイル部４０と同形状をなし、第１コイルパターン部４１に相当する第３コイルパターン部６１と、第２コイルパターン部４２に相当する第４コイルパターン部６２とを有している。 - 特許庁 - To enter into consideration of an influence of pattern density/position near a pattern to be measured, in a process of estimating a cross-sectional shape of the pattern by matching a SEM signal waveform of the pattern, with a library correlating a cross-sectional shape calculated by a simulation and a signal waveform.
計測対象パターンのＳＥＭ信号波形と，シミュレーションにて算出した断面形状と信号波形を関連づけるライブラリとのマッチングにより計測対象パターン断面形状を推定する手法において、対象パターンの近傍のパターン密度／配置の影響が考慮されるようにする。 - 特許庁 - To provide an alkali developing solution giving a stable pattern shape because of a long allowed time of development time, capable of forming a resist pattern with little residue on development, a good pattern shape and good resolution and having high developing capacity in a colored pattern forming step using a photosensitive composition.
感光性組成物を用いた着色パターン形成工程において、現像処理時間の許容時間が長く安定したパターン形状が得られ、現像残りが少なく、パターン形状、解像度が良好なレジストパターンを得ることができ、現像処理能が大きい現像液を提供すること。 - 特許庁
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