「sparse」を含む例文一覧(223)

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  • In this way, when the auger 33 is rotated, the state of the resin conveyed in a channel 39 is changed from a dense state to a sparse state from the upstream side to the downstream side.
    オーガ３３の本体部分において、成形材料の搬送方向における上流側から下流側にかけて径が小さくされるので、前記オーガ３３を回転させたときに、溝３９内を搬送される樹脂は、上流側から下流側にかけて密の状態から疎の状態に変化する。 - 特許庁
  • To provide a fine patterning method capable of forming a sparse pattern while suppressing deformation and "tilting" by improving various tolerances of etching, and the like, utilizing the curing effect of vacuum UV-rays, and to provide a fabrication process of semiconductor device employing the fine patterning method.
    真空紫外線によるキュア効果を利用してエッチングなどの各種の耐性を改善し、変形や「倒れ」などを抑制できる疎なパターンを形成可能とした微細パターン形成方法及びこの微細パターン形成方法を用いた半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • As a result, the layer 2 is moved and expanded downward, impurities and suspended solids are removed while the floating filter media moved downward together with the layer 2 are made to float rapidly in a sparse washing layer 9 and the whole of the layer 2 is washed while the layer 9 is moved downward.
    これによって充填層２が下方に移動・膨張し、これにより生じた浮上ろ材が疎な洗浄層９において浮上ろ材を急速に浮上させつつ夾雑物，ＳＳを分離させ、この洗浄層を上部から下方に移動させながら充填層２の全体を洗浄する。 - 特許庁
  • To provide a positive-type resist material, particularly a chemically-amplified, positive-type resist material, having a high resolution, margin of exposure, a small difference between sparse and dense dimensions, and process adaptability, surpassing those of conventional positive-type resist materials, furnishing a good pattern shape on exposure, and showing excellent etching resistance.
    従来のポジ型レジスト材料を上回る高解像度、露光余裕度、小さい疎密寸法差、プロセス適応性を有し、露光後のパターン形状が良好であり、さらに優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料を提供する。 - 特許庁
  • To provide a preprocessing method capable of executing preprocessing in an iterative solution with preprocessing to a coefficient matrix with an irregular and sparse non-zero pattern on a parallel computer having vector computing function at high speed by reducing the frequency of synchronization processing, and a matrix reordering method used therefor.
    同期処理の回数を削減し、ベクトル演算機能を有する並列計算機上で非ゼロパターンが不規則でスパースな係数行列に対する前処理付き反復解法における前処理を高速に実行できる前処理方法およびそれに用いる行列リオーダリング方法を提供する。 - 特許庁
  • The transformation between the sparse domain and the image domain may utilize a spatio-temporal transformation implemented using a plurality of basis functions, one or more of which may be determined at least in part based on secondary information associated with the imaged object.
    疎領域と画像領域との間の変換は、複数の基底関数を用いて実装された時空間変換を用いることができ、基底関数の１つ又は複数は、画像化される対象物に関連する二次情報に基づいて、少なくとも部分的に決定される。 - 特許庁
  • Then a fifth film 115 having a first film thickness T1 is formed on the exposed first film in the sparse part R1 and a fifth film 115 having a second film thickness T2 thinner than the film thickness T1 is formed on the remained second film in the dense part R2 by using C_XF_YH_Z gas.
    その後Ｃ_XＦ_YＨ_Zガスを使用して、第５の膜１１５を、疎部Ｒ１内に露出した前記第１の膜上に第１の膜厚Ｔ１で形成し、密部Ｒ２内に残存する前記第２の膜上には膜厚Ｔ１よりも薄い第２の膜厚Ｔ２で形成する。 - 特許庁
  • The specified amount of liquid toner is made to pass between the conductive blade and the developing roller and also voltage is applied to the conductive blade, so that a condition that toner particles included in the liquid toner become sparse is formed on the surface of a uniform and thin toner layer on the developing roller.
    所定量の液体トナーが、導電性ブレードと現像ローラとの間に通過させられると共に、導電性ブレードに電圧を印加して、現像ローラ上の均一薄層状トナー層表面において、液体トナーに含まれているトナー粒子が疎になる状態が形成される。 - 特許庁
  • A variational renormalization for the candidate solution vector x with regards to the eigenvalue structure of the covariance matrix A and the sparsity parameter k is then performed by means of a sub-matrix eigenvalue decomposition of A to obtain a variance maximized k-sparse eigenvector x (^) that is the best possible solution.
    その後、Ａの部分行列固有値分解によって、共分散行列Ａおよびスパーシティパラメータｋの固有値構造に関する候補解ベクトルｘのための変分再正規化を実行して、最も可能性の高い解である、分散最大化ｋ−スパース固有ベクトルｘ（＾）が求められる。 - 特許庁
  • Further, the irradiation light control plate 5 is demarcated into a plurality of regions opposing an area not more than one fifth of the irradiation face of the light guide body 1, with an average interval of the convex parts 8 in each region sparse at a region near the light source 2 and dense at a region away from the light source 2.
    また、出射光制御板５を導光体１の出射面の１／５以下の面積に対向する複数の領域に区画し、各領域内の凸部８の平均間隔が、光源２に近い領域で疎であり、光源２から離れた領域で密である。 - 特許庁
  • To provide a process for fabricating a semiconductor device in which level difference in each region on an interlayer insulating film formed on an interconnect line by polishing can be reduced even if a dense region and a sparse region exist in the interconnect line formed on a semiconductor substrate.
    半導体基板上に形成された配線に密の領域と疎の領域とがあったとしても、研磨によって、配線上に形成された層間絶縁膜上における各領域上の段差を少なくすることができる、半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • The inner member 20 is constituted so that fibers of an outer area 24 forming an outer surface of the inner member 20 are melted to join the fibers with each other, and the fibers in an inner area 26 facing the storage chamber 22 are sparse compared with the fibers in the outer area 24 in the thickness direction of a wall consisting of one fiber sheet S of the storage chamber 22.
    インナー部材２０は、該インナー部材２０の外面をなす外側領域２４の繊維を溶融して該繊維を互いに接合し、収納室２２の１枚の繊維シートＳからなる壁の厚み方向において、該収納室２２に面する内側領域２６が外側領域２４比べて繊維が疎になるよう構成される。 - 特許庁
  • A sparse state transition table is prepared by reducing data indicating a shifting operation for returning a collating position in a file to the direction opposite to the collating direction from a state transition table of a finite state machine in which an collating operation of the key is defined and the state transition table is stored in a compressed array form.
    キーの照合操作を定義した有限状態機械の状態遷移表から、ファイル内の照合位置を照合方向と逆の方向に戻すシフト操作を表すデータを削減して、スパースな状態遷移表を作成し、その状態遷移表を圧縮された配列形式で格納する。 - 特許庁
  • To provide a display method and an emphasis method for display data, suitable for a display screen, for facilitating the viewing of the x-y display screen having sparse data display density, in an ultrasonic search device of the system in which the direction of a reflection body is detected from the phase difference between receive signals of a plurality of receive elements.
    複数の受信素子の受信信号の位相差から反射物体の方位を検出する方式の超音波探査装置において、データ表示密度のまばらなｘ−ｙ表示画面を見やすくするために、この表示画面に適した表示方法および表示データの強調処理の方法を提供する。 - 特許庁
  • A light transmissive part 13 having no reflecting film is arranged in a part of a reflecting surface 12 for laying a reflecting film toward the surface side on the reverse of a transparent plate 11 having parallel and flat obverse-reverse both surfaces, and a particulate-like reflecting sphere 17 for recursively reflecting the incident light is arranged in a sparse state on the reverse side of the transparent plate.
    表裏両面が並行で平らな透明板１１の裏面に、反射膜を表面側に向けて被着させた反射面１２の一部に、反射膜のない光透過部１３を設け、その透明板裏面側に、入射光を再帰反射させる微粒状の反射球体１７を疎らな状態に配置させる。 - 特許庁
  • By moving an inspection target image P in each of x axis direction, y axis direction and θ rotation direction, the degree of coincidence relative to the reference image R and the inspection target image P is calculated using a pixel value at the sparse point position, so that a positioning parameter (x, y, θ) producing the maximum degree of coincidence is obtained.
    検査対象画像Ｐをｘ軸方向、ｙ軸方向、θ回転方向にそれぞれ移動させながら、基準画像Ｒ及び検査対象画像Ｐに対し上記スパース点の位置における画素値を用いて一致度を算出し、一致度が最大となる位置合わせパラメータ（ｘ，ｙ，θ）を求める。 - 特許庁
  • In a step S2, etching time corresponding to an etching shift amount for obtaining expected sizes of the sparse pattern and dense pattern using the exposure amount determined by the first correlation is determined using second correlation, pre-obtained, between etching times of the space pattern and dense pattern and the etching shift amount.
    ステップＳ２では、予め取得された、疎パターン及び密パターンにおけるエッチング時間とエッチングシフト量との第２の相関関係を用いて、第１の相関関係により決定された露光量による疎パターン及び密パターンをそれぞれ所期の寸法とするためのエッチングシフト量に対応したエッチング時間を決定する。 - 特許庁
  • To provide a method of rapidly cooling a ring-like hot-rolled wire rod which achieves such a slow cooling that each of cooling rate of the dense part and of a sparse part of the ring-like hot-rolled wire rod falls within a prescribed deviation with respect to a prescribed cooling rate of the target and which has adaptability to rapid cooling, and to provide an apparatus therefor.
    リング状熱間圧延線材の密部と疎部の各冷却速度が目標とする所定冷却速度に対して所定偏差内に収まるような徐冷が可能であり、かつ、急冷への対応力も有したリング状熱間圧延線材の冷却方法およびその装置を提供する。 - 特許庁
  • A reticle 11 made of a glass substrate as a photomask is provided with a light shielding film pattern 12 relating to formation of elements and integrated circuits on a semiconductor wafer as well as with an auxiliary pattern 13 which corrects degeneracy of lines due to influences of the optical proximity effect during exposure in an isolated pattern P1 in at least a sparse pattern region, as shown in Figures (a) and (b).
    図１（ａ），（ｂ）において、フォトマスクとして、ガラス基板であるレチクル１１に、半導体ウェハ上への素子及び集積回路形成に関する遮光膜パターン１２と共に、少なくとも疎パターン領域における孤立パターンＰ１に、露光時の光近接効果の影響によるライン縮退を補正する補助パターン１３が付加されている。 - 特許庁
  • As we can see from the figures, while there were a sparse number of countries and regions whose foreign exchange reserves were well below their short-term debts in 1996, as of 2003, the foreign exchange reserves of all countries and regions were over 1.0 times the short-term debts. In fact, all countries and regions excluding the Philippines achieved ratios of over 1.5 times, and we can therefore infer that the short-term debt ratio is largely improving.
    短期債務残高比を見ると、1996年の数値では外貨準備保有高が短期債務残高を大きく下回っている国・地域が散見されるのに対し、2003年の時点では全ての国・地域の数値が1.0倍を上回り、フィリピンを除くと1.5倍以上の水準に達しており、大幅に改善されていることが確認される。 - 経済産業省
  • To provide a radio communication system such as a taxi allocating AVM system which polls for acquiring mobile station data in a polling system over a wide or narrow range from a taxi allocating place when mobile stations are sparse or crowded in the vicinity of the allocating place.
    ポーリング方式による移動局データ収集の際に、配車場所周辺に移動局が少ない場合は配車場所から広い範囲に対してポーリングを行い、また逆に配車場所周辺に移動局が密集している場合は、配車場所から狭い範囲に対してポーリングを行うタクシー配車用ＡＶＭシステム等の無線通信システムを提供することを目的とする。 - 特許庁
  • The stretchable nonwoven fabric has directionality in vertical direction and horizontal direction perpendicular to the vertical direction, a plurality of zonal sparse zones and a plurality of zonal dense zones extending to the vertical direction formed alternately and continuously on both sides and the zonal dense zones on one face and the zonal dense zones on the other face are alternately arranged in cross direction.
    伸縮性不織布は、縦方向と前記縦方向に直交する横方向とを有し、両面に前記縦方向に伸びる複数の帯状疎領域と複数の帯状密領域とが前記横方向に交互に連続して形成されると共に、一の面における前記帯状密領域と他の面における前記帯状密領域とが前記横方向に交互に形成される。 - 特許庁
  • Although one of the aims of the Imperial court's demotion of their family members to their subjects by giving them the surname of Minamoto was to allow them to be the subsidiary of the Imperial Family as upper class nobles, in fact only a few of them kept their status for more than three generations, while many others took regional posts as middle classes and later became samurai, or earned a sparse living as middle and lower classes in the center.
    また、朝廷が皇族を臣籍降下させ源氏とした背景としては、上級貴族として皇室の藩塀とすることという理由もあったが、実際には3代目以降も上級貴族であり続けた例はほとんどなく、大半は受領階級として地方へ赴任しそこで土着して武士化するか、中央で中下級貴族として細々と生き延びた。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • The upper electrode 105 for a parallel-plate plasma processing apparatus includes a substrate 105a formed of a desired dielectric, and a dielectric layer 110 formed at least partially on the lower electrode 210 side surface of the plasma processing apparatus out of the surface of the substrate 105a, the dielectric layer 110 having a sparse and dense pattern where the outside of the lower electrode 210 side surface is denser than the inside.
    平行平板型のプラズマ処理装置用の上部電極１０５であって、所望の誘電体から形成された基材１０５ａと、前記基材１０５ａの表面のうち、少なくとも前記プラズマ処理装置の下部電極２１０側の表面の一部に形成された導電体層１１０と、を含み、前記導電体層１１０は、前記下部電極２１０側の表面の外側が内側より密になるように疎密のパターンを有する上部電極１０５が提供される。 - 特許庁
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