「sputtering method」を含む例文一覧(2639)
＜前へ 1 2 .... 6 7 8 9 10 11 12 13 14 .... 52 53 次へ＞- METHOD FOR FORMING THIN-FILM BY PLASMA SPUTTERING AND FILM-FORMING APPARATUS
プラズマスパッタリング薄膜形成方法及び成膜装置 - 特許庁 - The excess A component is removed through a sputtering method.
スパッター法により余分な前記Ａ成分を除去する。 - 特許庁 - METHOD FOR PRODUCING MoNb BASED SINTERED SPUTTERING TARGET MATERIAL
ＭｏＮｂ系焼結スパッタリングターゲット材の製造方法 - 特許庁 - METHOD OF CLEANING SURFACE OF CONTAMINATION PLATE OF SPUTTERING SYSTEM, AND CONTAMINATION PLATE
スパッタ装置の防着面清掃方法及び防着板 - 特許庁 - METHOD FOR SUPPORTING DESIGN OF MAGNETRON SPUTTERING, DEVICE THEREFOR, AND PROGRAM
マグネトロンスパッタの設計支援方法、装置及びプログラム - 特許庁 - SPUTTERING TARGET OF Al-BASED ALLOY AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
Ａｌ基合金スパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET FOR OPTICAL MEDIUM, AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
光メディア用スパッタリングターゲット、および、その製造方法 - 特許庁 - REACTIVE SPUTTERING METHOD AND APPARATUS THEREOF
反応性スパッタリング方法及び反応性スパッタリング装置 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET, MANUFACTURING METHOD OF THE SAME, AND BARRIER FILM
スパッタリングターゲット、同ターゲットの製造方法及びバリア膜 - 特許庁 - METHOD FOR PRODUCING TUNGSTEN SINTERED COMPACT TARGET FOR SPUTTERING
スッパタリング用タングステン焼結体ターゲットの製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING DEVICE, ITS OPERATION CONTROL METHOD, AND OPTICAL DISK
スパッタ装置、その運転制御方法および光ディスク - 特許庁 - DISPLAY DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING SAME, AND SPUTTERING TARGET
表示デバイスおよびその製法、ならびにスパッタリングターゲット - 特許庁 - DISPLAY DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND SPUTTERING TARGET
表示デバイスおよびその製法、ならびにスパッタリングターゲット - 特許庁 - TARGET FOR SPUTTERING, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, AND TARGET MEMBER
スパッタリング用ターゲット、その製造方法及びターゲット部材 - 特許庁 - TARGET JOINED BODY FOR SPUTTERING AND PRODUCING METHOD THEREFOR
スパッタリング用ターゲット接合体及びその製造方法 - 特許庁 - MOLD FOR PRODUCING COMPACT FOR SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET
スパッタリングターゲット用の成形体を製造するための成形型およびスパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁 - OPTICAL DISK PROTECTIVE FILM, SPUTTERING TARGET FOR DEPOSITING PROTECTIVE FILM, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SPUTTERING TARGET
光ディスク用保護膜、保護膜形成用スパッタリングターゲットおよび該スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁 - MOLD, MOLDED PIECE BY USING THE SAME, MANUFACTURING METHOD FOR SPUTTERING TARGET AND SPUTTERING TARGET
成形型、それを用いた成形体及びスパッタリングターゲットの製造方法並びにスパッタリングターゲット - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING Mn ALLOY SPUTTERING TARGET, AND Mn ALLOY SPUTTERING TARGET MANUFACTURED THEREBY
Ｍｎ合金スパッタリングターゲットの製造方法及びその製法によるＭｎ合金スパッタリングターゲット - 特許庁 - COPPER ALLOY FOR SPUTTERING TARGET, AND SPUTTERING TARGET USING THE SAME AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
スパッタリングターゲット用銅合金及びそれを用いたスパッタリングターゲット並びにその製造方法 - 特許庁 - STANDARD SAMPLE FOR SPUTTERING RATE CORRECTION, AND METHOD OF CALCULATING SPUTTERING RATE RATIO BY USING THE SAME
スパッタ率補正用標準試料およびその試料を用いたスパッタ率比の算出方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET, PHASE SHIFT MASK BLANK OBTAINED BY USING THE SAME SPUTTERING TARGET AND METHOD OF PRODUCING PHASE SHIFT MASK
スパッタターゲット、該スパッタターゲットを用いた位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁 - COOLING PLATE, MANUFACTURING METHOD THEREOF, SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
冷却板とその製造方法及びスパッタリングターゲットとその製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR PRODUCING IRIDIUM SPUTTERING TARGET, AND TARGET OBTAINED BY THE METHOD
イリジウムスパッタリングターゲットの製造方法及びその方法で得られたターゲット - 特許庁 - TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM DEPOSITION METHOD, AND SPUTTERING SYSTEM FOR USE IN THE METHOD
透明導電膜形成方法及び該方法に用いるスパッタリング装置 - 特許庁 - To provide a sputtering method which can improve embedding properties when a metallic material is embedded in recessed parts by a single sputtering apparatus, and to provide a sputtering apparatus used for the sputtering method.
単一のスパッタ装置によって金属材料を凹部に埋め込む際にその埋め込み性を向上させることができるスパッタ方法及び該スパッタ方法に用いられるスパッタ装置を提供する。 - 特許庁 - The vacuum process is performed by a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method or the like.
真空プロセスは真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等である。 - 特許庁 - To provide: a sputtering source which has a rotary cylindrical target and with which the film thickness of a thin film can be controlled with a good precision; a sputtering film deposition apparatus equipped with the sputtering source; and a sputtering film deposition method using the sputtering film deposition apparatus.
精度よく薄膜の膜厚を制御することができる、回転円筒ターゲットを備えたスパッタ源、該スパッタ源を備えたスパッタ成膜装置、および該スパッタ成膜装置を用いたスパッタ成膜方法を提供する。 - 特許庁 - CoCrPt-based SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
ＣｏＣｒＰｔ系スパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁 - The seed layer 2 is formed by using, for example, a sputtering method.
シード層２は、例えばスパッタリング法を用いて形成される。 - 特許庁 - SPUTTERING FILM DEPOSITION METHOD, OPTICAL ABSORPTION FILM AND ND FILTER
スパッタ成膜方法、光吸収膜並びにＮＤフィルター - 特許庁 - SPUTTERING TARGET MATERIAL OF HIGH MELTING POINT ELEMENT, AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
高融点元素スパッタリングターゲット材及びその製造方法 - 特許庁 - METHOD OF PRODUCING Ge-Sb-Te SPUTTERING TARGET MATERIAL
Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系スパッタリングターゲット材の製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET, TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM, AND THEIR MANUFACTURING METHOD
スパッタリングターゲット、透明導電膜およびそれらの製造法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET FOR MAGNETIC RECORDING FILM AND ITS MANUFACTURING METHOD
磁気記録膜用スパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁 - The metal oxide film 3 is formed by the helicon sputtering method.
酸化金属膜３は、ヘリコンスパッタ法により形成される。 - 特許庁 - MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM AND FILM FORMING METHOD USING THE SYSTEM
マグネトロンスパッタ装置およびその装置を用いた製膜方法 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING Ge-Sb-Te SPUTTERING TARGET MATERIAL
Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系スパッタリングターゲット材の製造方法 - 特許庁 - ADHESIVE TAPE FOR MASKING AND METHOD FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET
マスキング用粘着テープおよびスパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁 - TRANSPARENT ELECTROCONDUCTIVE FILM, ITS MANUFACTURING METHOD, AND SPUTTERING TARGET
透明導電膜とその製造方法およびスパッタリングターゲット - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET MATERIAL OF Mo ALLOY
円筒型Ｍｏ合金スパッタリングターゲット材の製造方法 - 特許庁 - METHOD OF PRODUCING NOBLE METAL TARGET MATERIAL FOR SPUTTERING AND NOBLE METAL TARGET MATERIAL FOR SPUTTERING PRODUCED BY THE METHOD
貴金属スパッタリング用ターゲット材の製造方法及びその方法により製造される貴金属スパッタリング用ターゲット材 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET MATERIAL OF Co-Cr BASED ALLOY
Ｃｏ−Ｃｒ系合金スパッタリングターゲット材の製造方法 - 特許庁 - Ba-BASED ALLOY SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR BONDING THE SAME
Ｂａ系合金スパッタリングターゲットおよびその接合方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, AND RAW MATERIAL FOR TARGET MATERIAL
スパッタリングターゲット、その製造方法およびターゲット材原料 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET MATERIAL OF STRONTIUM RUTHENATE AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
ルテニウム酸ストロンチウムスパッタリングターゲット材とその製造方法 - 特許庁 - Ni-P SPUTTERING TARGET AND ITS MANUFACTURING METHOD
Ｎｉ−Ｐ系スパッタリング用ターゲットおよびその製造方法 - 特許庁 - MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE
マグネトロンスパッタリング装置および半導体装置の製造方法 - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD FOR FILM TYPE ANTENNA USING SPUTTERING PROCESS
スパッタリング工程を利用するフィルム型アンテナの製造方法 - 特許庁 - ASSEMBLY OF TITANIUM TARGET FOR SPUTTERING, AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
スパッタリング用チタンターゲット組立て体及びその製造方法 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
