「step pattern」を含む例文一覧(2084)
＜前へ 1 2 .... 28 29 30 31 32 33 34 35 36 .... 41 42 次へ＞- Equivalently, in the step of range-search, in regard to each intermediate pattern acquired with adding in order by one character from the last character of the pattern toward the front, it is searched in sequence that in which range of a suffix arrangement to each character string to be searched top characters of the intermediate patterns exist.
すなわち、範囲検索ステップにおいて、このパターンの最後の文字から前方へ１文字ずつ順に加えて得られる各中間パターンに関して、この中間パターンの先頭の文字が検索対象の文字列に対する接尾辞配列のどの範囲に存在するかを順次検索する。 - 特許庁 - Consequently, the size uniformity of a gate film 2 to be worked in the surface of the wafer can be improved easily, by increasing the implanted quantity of ions into the thick line regions of the pattern 3a and reducing the implanted quantity of ions into the thin line regions of the pattern 3a (step ST17).
これによって、ウエハ面内のレジストパターン３ａの太い領域のイオン注入量を多くし、細い領域のイオン注入量を少なくすることによって、容易にウエハ面内における被加工ゲート膜２の寸法の均一性の向上が図れる（ステップＳＴ１７）。 - 特許庁 - The internal side of the surface material is rinsed with a water solution, with the water-soluble member and electrically-conductive layer covered on the upper part thereof being stripped off from the protecting layer, so that the electrically-conductive layer covering the design pattern, in the predetermined area, on which no water-soluble member is printed constitutes the design pattern for a transceiver antenna (Step 102).
水溶液により表面材の裏面をすすぎ、水溶性部材とその上部に覆われている導電層とを保護層より剥離させ、所定区域上の水溶性部材が印刷されていない図案を覆った導電層は、受発信アンテナの図案に構成される（ステップ１０２）。 - 特許庁 - A test data pattern is transmitted from the electronic circuit cards 130, 140 to the electronic circuit card 150 at the next stage while changing delay time of the variable delay elements 134, 144 in step to judge propriety of the test data pattern returned from the electronic circuit card 150 at the next stage via a loop return path.
可変遅延素子１３４、１４４の遅延時間を段階的に変えながら、試験データパターンを電子回路カード１３０、１４０から次段の電子回路カード１５０に送信し、次段の電子回路カード１５０からループリターンパスを経由して返信された試験データパターンの正否を判定する。 - 特許庁 - In the case of a big hit, a successive stop variation pattern is selected regardless of whether the storage value of the number of starting held balls stored in an RAM constituting a pattern control board, is four which is the upper limit value (step S6), and the patterns of each row are determined to attain a big hit state.
大当りの場合には、図柄制御基板を構成するＲＡＭに記憶されている始動保留球数の記憶値が上限値である４であるか否かに関係なく順次停止変動パターンを選択し（ステップＳ６）、大当り状態となるように各列の図柄を確定する。 - 特許庁 - The method of etching a carbon-containing film includes a step of forming a mask pattern on a carbon-containing film to partially expose the top surface of the carbon-containing film, and anisotropically etching the carbon-containing film with a plasma of a mixture gas composed of O_2- and Si-containing gases using the mask pattern as an etching mask.
炭素含有膜上に炭素含有膜の上面を一部露出させるマスクパターンを形成し、マスクパターンをエッチングマスクとして利用して、Ｏ_２、及びＳｉ含有ガスからなる混合ガスのプラズマによって炭素含有膜を異方性エッチングする炭素含有膜エッチング方法である。 - 特許庁 - At least one step of a deflection pattern prior body 6 which changes into a deflection pattern going around the outer peripheral surface of the container body 1 one time when decompression is generated in the container body 1, and makes the container body 1 shrink in the axial direction of the container body 1 is provided on the container body 1.
容器本体１の内部において減圧が発生した際に、容器本体１の外周面を一回りする座屈パターンに変化し容器本体１を該容器本体１の軸方向に収縮させる座屈パターン事前体６を、前記容器本体１に少なくとも１段設ける。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition having high sensitivity and high resolving power in the production of a semiconductor device, having a rectangular shape, ensuring low edge roughness of a line pattern and causing a small size shift, in pattern transfer to a lower layer in an oxygen plasma etching step.
半導体デバイスの製造において、高感度であって高解像力を有し、しかも矩形形状を有し、ラインパターンのエッジラフネスが少なく、更に酸素プラズマエッチング工程での下層へのパターン転写の際に寸法シフトが小さいポジ型レジスト組成物を提供することである。 - 特許庁 - The method for manufacturing a polarized light diffractive cholesteric liquid crystal film contains the first step to form a cholesteric liquid crystal film on an alignment supporting substrate, the second step to transfer a diffraction pattern of a diffraction element substrate to the surface of the cholesteric liquid crystal film and to form a region exhibiting diffractiveness on a part of the film and the third step to release the alignment supporting substrate from the cholesteric liquid crystal film.
配向支持基板上にコレステリック液晶フィルムを形成する第１工程、コレステリック液晶フィルム面に回折素子基板の回折パターンを転写し、フィルムの一部に回折能を示す領域を形成する第２工程、及びコレステリック液晶フィルムから配向支持基板を剥離する第３工程、を含む偏光回折性コレステリック液晶フィルムの製造方法である。 - 特許庁 - The method includes: a step where an anodically oxidized coating is formed to light metal or an alloy thereof; a step where it is dipped into an aqueous solution containing at least one or more water soluble compounds selected from the group consisting of a water soluble zirconium compound, a water soluble vanadium compound and a water soluble titanium compound; and further; a step where a design pattern is printed or transferred thereto.
軽金属又はそれらの合金に対して陽極酸化皮膜を形成する工程と、その後に、それぞれ水溶性のジルコニウム化合物、バナジウム化合物、チタン化合物の郡から選ばれた少なくとも１つ以上の水溶性化合物を含有する水溶液に浸漬する工程の後に、さらに、意匠模様を印刷又は転写する工程を含むことを特徴とする - 特許庁 - The manufacturing method of a plasma display panel and the green sheet include a step exposing a first green sheet containing a cover film using a first mask on which a black matrix pattern is formed, a black matrix dry film and a base film, a step removing the cover film and laminating the first green sheet on a substrate, and a step removing the base film and forming a black matrix on the substrate.
本発明は、ブラックマトリックスパターンが形成された第１マスクを利用してカバーフィルム、ブラックマトリックスドライフィルム及びベースフィルムを含む第１グリーンシートを露光するステップと、前記カバーフィルムを除去して基板上に前記第１グリーンシートをラミネーティングするステップと、前記ベースフィルムを除去して前記基板上にブラックマトリックスを形成するステップと、を含むことを特徴とする。 - 特許庁 - The system and method includes a step 205 for counting function defective elements in at least one instance of a geometric pattern defined by the memory segment, a step 209 for declaring a fault state within the memory segment when the number of the counted function defective elements is equal at least to a fault threshold, and a step 214 for re-mapping the memory segment in response to the declared fault state.
メモリセグメントの定義された幾何学的パターンの少なくとも１つのインスタンスにおける機能不良素子をカウントするステップ２０５と、カウントされた機能不良素子の数が、故障閾値と少なくとも等しい場合、メモリセグメント内の故障状態を宣言するステップ２０９と、宣言された故障状態に応答して、メモリセグメントを再マッピングするステップ２１４と、を含む。 - 特許庁 - The surface unevenness formation method comprises: the step of forming an energy-sensitive negative type resin composition containing at lest one or more kinds of polymerizable monomer or oligomer; the step of emitting 0.005 to 1.0J/cm^2 of active energy rays at least one or more times via a mask formed in a pattern; and the step of subjecting to post-heating without an etching operation.
少なくとも一種類以上の重合可能なモノマー又はオリゴマーを含有する感エネルギー性ネガ型樹脂組成物層を形成する工程、パターン形成されたマスクを介して活性エネルギー線を少なくとも一回以上０．００５〜１．０Ｊ／ｃｍ^２照射する工程、エッチング操作を行うことなく後加熱する工程を含む表面凹凸形成方法。 - 特許庁 - The antenna coil for the IC card can be manufactured through a step of applying an epoxy resin on the rough surface of the electrolytic copper foil to provide an epoxy resin layer, a step of applying a polyurethane adhesive on the epoxy resin layer to adhere a synthetic resin film thereto, and a step of treating the electrolytic copper foil by resist treatment and etching and forming a specified circuit pattern.
このようなＩＣカード用アンテナコイルは、電解銅箔の粗面にエポキシ系樹脂を塗布して、エポキシ系樹脂層を設ける工程と、エポキシ系樹脂層上にポリウレタン系接着剤を塗布し、合成樹脂製フィルムを貼合する工程と、次いで、電解銅箔にレジスト処理及びエッチング処理を施して、所定の回路パターンを形成する工程を経て、製造することができる。 - 特許庁 - The method of manufacturing the printed circuit board includes a step of adhering an electronic element 30 on the adhesive layer 20, a step of stacking insulation bodies 41, 43 on the upper side of the electronic element 30 and the lower side of the adhesive layer 20 to embed the electronic element 30 therein, and a step of forming a circuit pattern 45 and a via 46 in the insulation body 41.
接着層２０の上面に電子素子３０を付着する工程と、電子素子３０が埋め込まれるように、電子素子３０の上側及び接着層２０の下側に絶縁体４１，４３をそれぞれ積層する工程と、絶縁体４１に回路パターン４５及びビア４６を形成する工程と、を含むことを特徴とする印刷回路基板及びその製造方法。 - 特許庁 - The method for manufacturing a photomask having a mask pattern formed of step parts of two or more kinds of height, includes, before a stage of forming at least one kind of step part in 2nd order or later, a stage of making the substrate surface smooth by coating the step parts formed in the previous stage with the photosensitive resin and then polishing the photosensitive resin.
マスクパターンが２種類以上の高さの段差部から形成されるフォトマスクの製造方法において、２番目以降に形成される少なくとも１種類の段差部形成工程の前に、前工程によって形成された段差部に感光性樹脂を塗布し、次いで研磨を行うことにより基板表面を平滑にする工程を含むフォトマスクの製造方法である。 - 特許庁 - The semiconductor device manufacturing method has a mount step of mounting a plurality of electronic parts at predetermined spots of a substrate previously formed with a wiring pattern, a bulkhead formed step of forming a bulkhead on the substrate between the plurality of electronic parts, and a resin sealing step of injecting a resin on the substrate formed with the bulkhead and sealing.
予め配線パターンの形成された基板の所定の位置に複数の電子部品を載置するマウントステップと、前記複数の電子部品の間の前記基板上に隔壁を形成する隔壁形成ステップと、前記隔壁が形成された前記基板上に樹脂を注入して封止を行う樹脂封止ステップとを有する半導体装置製造方法を提供する。 - 特許庁 - The method for arraying particulates A is carried out by combining a particulate spreading step to spread on the surface of an oxide substrate 1 the particulate-dispersed liquid obtained by dispersing the particulates A in a medium by using a surfactant, a light irradiating step to irradiate the substrate 1 with light by using the prescribed pattern and a medium removing step to remove the medium.
この発明の微粒子Ａの配列方法は、界面活性剤を用いて微粒子Ａを媒体に分散させた分散液を酸化物基板１表面に展開する微粒子展開工程、酸化物基板１に所定のパターンにより光を照射する光照射工程、前記媒体を除去する媒体除去工程の各工程を組み合わせることを特徴としている。 - 特許庁 - This particulate-adsorbed pattern-formed material is formed by the method comprising a step to imagewisely form the region having polymerization initiating ability on the surface of the substrate , a step to produce a graft polymer having a nonionic polar group in the region by atom transfer radical polymerization and a step to make particulate adsorbed on the produced graft polymer.
基板表面に重合開始能を有する領域を画像様に形成する工程と、該領域に原子移動ラジカル重合を用いて非イオン性極性基を有するグラフトポリマーを生成させる工程と、該グラフトポリマーに微粒子を吸着させる工程と、を含むことを特徴とする微粒子吸着パターン形成方法、及びそれを用いて作製された微粒子吸着パターン材料。 - 特許庁 - This testing method comprises a step to irradiate light on surface of the display panel and photograph the above display panel for obtaining the first image, a step to irradiate light on surface of the above display panel with pattern impressed on the display panel for obtaining the second image, and a step to compare the first image with the second image for determining whether the display panel is defective.
ディスプレーパネルの表面に光を照射し、前記ディスプレーパネルを撮影して第１画像を得る段階と；前記ディスプレーパネルにパターンを印加した状態で前記ディスプレーパネルに光を照射し、前記ディスプレーパネルを撮影して第２画像を得る段階と；前記第１画像と前記第２画像を比較し、前記ディスプレーパネルが不良であるか否かを判断する段階とを含む。 - 特許庁 - The method for executing the measurement comprises a step for generating a series of images at a given region of the target; a step for deciding a series of relative changes at the position of a pattern in each set of continuous images; and a step for calculating the distance of the given path on the target as a function of the series of relative changes of the position.
本発明の提供する計測を実行する方法は、対象物の所与の領域の一連の画像を生成するステップと、連続画像のそれぞれの組において、パターンの位置の一連の相対的な変化を判定するステップと、この位置の一連の相対的な変化の関数として、対象物上の所与の経路の距離を算出するステップと、を有する。 - 特許庁 - When the number of stripes is within the target number of stripes range A, the alignment processing is automatically moved to pattern analysis processing, and the interference patten is analyzed to digitize the aberration of analyte (step S203).
縞本数が目標縞本数範囲Ａ内であった場合には、自動的にアライメント処理から縞解析処理に移行し、干渉縞を解析して被検体の収差が数値化される（ステップＳ２０３）。 - 特許庁 - The ceramic green sheets where the conductor pattern is printed are laminated to form the laminate, and a film where a side conductor formed at a side of the opening is printed is overlaid on the laminate and pressed (step S5).
次に、導体パターンが印刷されたセラミックグリーンシートを積層して積層体を構成し、積層体に開口部の側面部に形成される側面導体が印刷されたフィルムを重ねてプレスする（ステップＳ５）。 - 特許庁 - When receiving a variation pattern command for both of a regular big win and a probability variable big win, the performance control microcomputer 100 determines stationary symbols for ornamental symbols based on a symbol information specification command (step S625).
演出制御用マイクロコンピュータ１００が、通常大当り／確変大当り兼用の変動パターンコマンドを受信したときは、図柄情報指定コマンドから飾り図柄の停止図柄を決定する（Ｓ６２５）。 - 特許庁 - To provide a step-system proximity exposure method that can enhance the transfer accuracy of an exposure pattern onto a substrate, even when detection accuracy of an optical measurement sensor, such as a laser interferometer, tends to deteriorate.
レーザ干渉計等の光学的計測センサの検出精度が低下しやすい場合であっても、基板上の露光パターンの転写精度を高めてることができるステップ式近接露光方法を提供する。 - 特許庁 - In the irregularity formation step, a solvent S is adhered only to a first region 10b exposed from the internal electrode pattern 12 on the first main surface 10a of the ceramic green sheet 10 to form irregularities.
凹凸形成工程では、セラミックグリーンシート１０の第１の主面１０ａにおいて内部電極パターン１２から露出する第１の領域１０ｂのみに、溶剤Ｓを付着させて凹凸を形成する。 - 特許庁 - At this time, in a step for patterning the substance film, the substance film pattern is formed by using the patterning method including a plurality number of times of exposure processes that are individually performed to the respective patterning regions.
このとき、物質膜をパターニングする段階は、前記パターニング領域各々に対して個別的に実施される複数回の露光工程を含むパターニング方法を使用して物質膜パターンを形成する。 - 特許庁 - An electrode pattern is formed on a large-sized substrate 80 including a plurality of circuit substrate region, and then a correcting film 17 having a thickness substantially equal to that of the step is formed in a region connected with an n-side bump 23.
複数の回路基板領域を含む大判基板８０に電極パターンを形成してから、ｎ側バンプ２３が接続する領域に段差と略等しい厚さを有する補正膜１７を形成する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition having high sensitivity, capable of suppressing film thinning in unexposed areas in a development step, having good heat-resistant transparency and capable of forming a good pattern shape.
高い感度を有し、現像工程において未露光部の膜べりが抑制され、かつ、耐熱透明性が良好で、良好なパターン形状を形成できる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - In the step of forming the solder resist, the solder resist is formed to partially expose a pattern from the periphery of the via-holes, so that the solder is infiltrated into the via-holes, thereby further improving reliability in bonding.
ソルダレジストを形成する工程において、ソルダレジストをバイアホールの周辺からパターンの一部が露出するように形成すると、バイアホールにはんだが浸入し、接合の信頼性がより向上する。 - 特許庁 - A control device adjusts, in accordance with an expansion amount of a wafer, a formation condition in forming a pattern on the wafer (steps S14, S15) when the wafer is installed on a wafer stage in a second chamber (step S13).
制御装置は、ウエハが第２チャンバ内のウエハステージに設置されると（ステップＳ１３）、ウエハにパターンを形成する際の形成条件を、該ウエハの膨張量に応じて調整する（ステップＳ１４，Ｓ１５）。 - 特許庁 - To provide a size measuring mark which can detect a fault at the initial stage of a process by combining the step difference of a lower layer and the pattern roughness, and to provide a method for manufacturing a semiconductor device and a semiconductor device.
下層の段差とパターン疎密を組み合わせることにより、プロセス初期段階での異常検出が可能な寸法測定マーク、半導体装置の製造方法及び半導体装置を提供する。 - 特許庁 - (Step 1) A X-ray diffraction pattern of a titanium surface is measured in an condition that an X-ray incident angle is maintained at a low angle of two degree or less, which is in an initial state before maintaining it in an atmospheric environment.
（ステップ１）Ｘ線入射角度を２度以下の低角度に保った条件で大気環境中保持前である初期状態のチタン表面のＸ線回折図形の測定を行う。 - 特許庁 - Hole patterns 400 as an alignment evaluation pattern are arranged in four corners of a TFT array substrate 10 forming a photoelectric device, through a projection alignment step using a projection optic system.
電気光学装置を構成するＴＦＴアレイ基板１０の四隅には、投影光学系を用いた投影露光工程を経て形成された露光評価パターンとしてのホールパターン４００が配置される。 - 特許庁 - To provide an etching device and method for obtaining the sidewall of a silicon nitride film, having film thickness and height sufficient for electrical insulation at the sidewall part of a pattern having a step in level.
段差のあるパターンの側壁部において電気的絶縁のために十分な膜厚と高さを有するシリコン窒化膜のサイドウォールを得られるように改良されたエッチング装置および方法を提供する。 - 特許庁 - The method further includes the step of etching the non-printed portions of the material by chemical etching, and removing the printed pattern from the surface of the material to yield an antenna array including a non-etched portion of the substrate surface.
化学エッチングによって材料の非印刷部分をエッチングするステップと、印刷パターンを材料の表面から除去して基板表面の非エッチング部分を含むアンテナアレイを生成するステップとを含む。 - 特許庁 - In the case that the judged result is negative, that is, the storage value of the number of starting held balls is four, a variable pattern parting table 5 corresponding to the case of the storage value being four is selected (step S18).
そして、その判定結果が否定、即ち、始動保留球数の記憶値が４である場合、前記記憶値が４の時に対応する変動パターン振分テーブル５を選択する（ステップＳ１８）。 - 特許庁 - In a process for manufacturing the printed circuit board, a conductor pattern based on simulation using a computer is designed to calculate the simulation values of characteristic impedances in a step S1.
プリント配線基板を製造する際の製造プロセスにおいては、ステップＳ１において、コンピュータを用いたシミュレーションに基づく導体パターンを設計して特性インピーダンスのシミュレーション値を算出する。 - 特許庁 - A step pulse is applied through a measuring pad 14 composing a part of one end of the test coupon, and an impedance of every test coupon is calculated from a reflection wave reflected from a connection of each pattern wiring portion.
テストクーポンの一端を構成する測定用パッド１４からステップパルスを印加して、各パターン配線部の接続部から反射する反射波から各テストクーポン毎のインピーダンスを算出する。 - 特許庁 - When a game ball wins a prize in a starting hole 54, each counter value of a pattern determination counter 76 is stored, and it is determined in a single frame step number counter how many patterns are scrolled at a reach (ready-to-win) speed.
始動口５４に遊技球が入賞したときに図柄決定カウンタ７６の各々のカウンタ値が格納されるが、コマ送数カウンタではリーチ速度でいくつの図柄がスクロールされるかが決定される。 - 特許庁 - In an image display element, an arrangement pattern of parallax images for a plurality of view points is set as a step arrangement so as to be shifted by one subpixel in a horizontal direction with a period which is an integral multiple of n pixels in a vertical direction.
画像表示素子において、複数の視点用の視差画像の配置パターンを、垂直方向にｎ画素の整数倍の周期で水平方向に１サブピクセル分、シフトするようなステップ配置とする。 - 特許庁 - Then, the combination of the generation of a game start sound and the direction operation pattern of reel back lamps in the game of this time is decided by a this time game second reporting form decision means (step 110).
次に、今回遊技第２報知態様決定手段によって今回遊技における遊技開始音の出音とリールバックランプ（１）〜（９）の演出動作パターンとの組合せが決定される（ステップ１１０）。 - 特許庁 - Consequently, it is possible to prevent, with reliability, the occurrence of uneven light distribution for a predetermined sub-light distribution pattern formed by light reflected from the sub-reflecting surface 11 having no step in its entirety.
この結果、全体に亘って段差が無いサブ反射面１１からの反射光で形成される所定のサブ配光パターンにおいて配光むらが発生するのを確実に防止することができる。 - 特許庁 - In the manufacturing step of a color filter by a printing method, the pattern with ink coating unevenness is formed in the transferred glass substrate if ink coating unevenness is present in a blanket face for transferring the ink.
印刷方式のカラーフィルタ製造工程において、インキ転写用ブランケット面上にインキ塗工ムラがあった場合、転写されたガラス基板もインキ塗工ムラを有するパターンが形成される。 - 特許庁 - When conveyance by one line of a printing paper is carried out by two-step driving of a pulse motor, excitation by an excitation pulse pattern to the heating resistor is repeated two times synchronously with each driving pulse of the pulse motor.
そして、プリント用紙の１ライン分の搬送を、パルスモータの２ステップ駆動で行う場合に、パルスモータの各駆動パルスに同期して、発熱抵抗体に対する通電パルスパターンによる通電を２回繰り返す。 - 特許庁 - In the specified advance notice pattern, when the step up advance performance is executed in each re-varying action during the pseudosuccessive varying phase, the continuation of the pseudosuccessive varying phase (continued execution of re-varying actions) is defined.
特定予告パターンで擬似連の変動中の各再変動においてステップアップ予告演出が実行された場合は、擬似連が継続すること（再変動が継続して実行されること）が確定する。 - 特許庁 - To provide a resin composition for screen printing, with which bleeding at the time of screen printing is suppressed, which is excellent in a leveling property and transferability, and with which a fine aperture pattern is printable without performing any photolithography step.
スクリーン印刷時のニジミを抑制でき、レベリング性及び転写性に優れると共に、フォトリソ工程を行わずに微細開孔パターンを印刷可能なスクリーン印刷用樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁 - To eliminate a pattern dependence by suppressing a leakage current of an interface between an element region and an element isolation region by completely flattening a step between the element region and the element isolation region at a gate wiring forming time.
ゲート配線形成時の素子領域と素子分離領域の段差を完全に平坦化して素子領域と素子分離領域界面のリーク電流を抑え、そのパターン依存性を無くす。 - 特許庁 - The method for printing the printed circuit board comprises the step of disposing a mask 3 having openings 3a for wirings to form a wiring pattern 10 oppositely at a predetermined interval (d) parallel to the base 1 to be printed.
配線パターン１０を形成するための配線用開口部３ａを有するマスク３を、被印刷基材１に対し平行で且つ所定の間隔ｄで相対向するように配置する。 - 特許庁 - The method and system for self-servowriting to a data storage medium are disclosed and include a step or means for servo control over the propagation bursts of a propagation pattern arranged on a track other than a last track.
データ記憶媒体に自己サーボ書込みするための方法及びシステムが開示され、直前のトラック以外のトラックに配置される伝搬パターンの伝搬バーストにサーボ制御するステップまたは手段を含む。 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
