「surface S」を含む例文一覧(3517)

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  • The cleaning tool includes a cleaning surface (11) contacting with a conveying surface (S).
    清掃具は、搬送面(S)に接触する清掃面(11)を有する。 - 特許庁
  • The cleaning tool has a cleaning surface (11) which contacts with a conveying surface (S).
    清掃具は、搬送面(S)に接触する清掃面(11)を有する。 - 特許庁
  • In this method, an insulating layer GI is formed on the surface of a semiconductor substrate S.
    半導体基板Sの表面に、絶縁層GIを形成する。 - 特許庁
  • A surface of the skin layer 4 forms a holding surface S.
    スキン層4の表面が保持面Sを形成している。 - 特許庁
  • The surface of the protective layer 5 forms the holding surface S.
    保護層5の表面が保持面Sを形成している。 - 特許庁
  • A seal groove S is formed in the peripheral surface of the fitted projected part 85, and an O-ring R is fitted into the seal groove S.
    そして、嵌合凸部(85)の周面には、シール溝(S)が形成され、該シール溝(S)にOリング(R)が嵌め込まれている。 - 特許庁
  • A heat-insulating wall 4 surrounds space S near the rear surface of the EL panel 1.
    断熱壁(4)はELパネル(1)の裏面近傍の空間(S)を囲む。 - 特許庁
  • The relational expression is S(10)-S(2000)>3(mN/m), wherein S(10) is a surface tension after ten seconds, and S(2000) is a surface tension after 2,000 seconds.
    関係式:S(10)−S(2000)>3(mN/m) S(10):10秒後の表面張力 S(2000):2000秒後の表面張力 - 特許庁
  • The space gap S is formed on the opposed surface.
    対面部に空間間隙Sを形成する。 - 特許庁
  • The surface of the part of an S joint unit 420 in contact with an M joint unit 410 at jointing is prepared on nearly the same surface as the outer surface of the S joint unit 420.
    Sジョイントユニット420の、Mジョイントユニット410と結合時に当接する部分の面が、Sジョイントユニット420の外面とほぼ同一面上に設けられている。 - 特許庁
  • A layer of a resin laminate (1) is provided on a surface of a substrate S to form a pattern.
    基板(S) 面に樹脂積層体(1) の層を設けてパターンを形成する。 - 特許庁
  • Adequate moisture covers the surface of the iron plate S.
    鉄板Sの表面を適度な水分が覆う。 - 特許庁
  • The surface layer part can be heated at a higher heating rate by ≥0.5°C/s than the center part in the plate thickness.
    表層部を板厚中央部より0.5℃/s以上高い加熱速度としてもよい。 - 特許庁
  • Next, the substrate S is adsorbed and fixed on the surface-B table 32 and, after the surface B of the substrate S is imaged by a surface B-inspection head 5, the substrate S is discharged to a substrate housing part 8.
    次に、基板Sは、B面検査吸着テーブル32に吸着固定されてB面検査ヘッド5でB面が撮像され、基板収納部8に排出される。 - 特許庁
  • The crosspiece 4 includes a work placement surface on which the substrate S is placed.
    桟4は、基板Sを載置するワーク載置面を有する。 - 特許庁
  • A frame material 6 is fixed to the holding surface S side.
    保持面S側には枠材6が固着されている。 - 特許庁
  • The foam formations 3 are reduced in diameter from the surface S toward the rear surface R side.
    発泡3は、表面Sから裏面R側に向けて縮径している。 - 特許庁
  • A localized adhesion between the polishing surface P and the rear surface S is suppressed.
    研磨面Pおよび裏面S間の局所的な粘着が抑制される。 - 特許庁
  • The center axis of the inner surface is substantially perpendicular to the electron impact surface S.
    上記内面の中心軸は、電子衝突面Sにほぼ垂直である。 - 特許庁
  • The rear surface side of the main body part A is formed as a smooth surface (s).
    該本体部Aの裏面側を平滑面sとして形成してなること。 - 特許庁
  • The plurality of bumps 16 are provided near the peripheral edge of the main surface S and each of the bumps 16 has an inclined surface 16a whose height from the main surface S increases from the side near the center of the main surface S to the side near the peripheral edge of the main surface S.
    バンプ16は、主面Sの周縁近傍に複数設けられており、主面Sの中央寄りの側から主面Sの周縁寄りの側に向かうにつれて主面Sからの高さが高くなるような傾斜面16aを有している。 - 特許庁
  • A cam surface along the axial direction is formed on the outer side surface of a shift cam plate 30 fixed on the side surface of the S&S shaft 20.
    S&Sシャフト20の側面に固定されたシフトカムプレート30の外側面には、軸方向に沿うカム面が形成されている。 - 特許庁
  • The speaker formed with screen as a unitary block includes a screen (S) consisting mainly of a sheet-like base material and an exciter (EX) attached to the rear surface of the screen (S).
    本発明のスクリーン一体型スピーカは、シート状基材を主体とするスクリーン(S) と、このスクリーン(S) の裏面に取付けられたエキサイタ(EX)とを備えている。 - 特許庁
  • The flow channel (4) has an upstream portion (4a) arranged on the upstream side of the substrate (S) and an inner bottom surface (22) of the upstream portion (4a) extends the gaseous raw materials continuing into a top surface (SF) of the substrate (S).
    フローチャンネル(4)は、基板(S)の上流側に位置する上流側部分(4a)を有し、上流側部分(4a)の内側下面(22)は、原料ガスを基板(S)の上面(SF)に連なって延びている。 - 特許庁
  • In the liquid crystal display panel 1, the display surface S has a concave cylindrical surface.
    液晶表示パネル1は、表示面Sが凹面状の柱面をなしている。 - 特許庁
  • Mirror finishing is performed for an inner peripheral surface S of the unit main body 31.
    ユニット本体31の内周面Sを鏡面加工する。 - 特許庁
  • A wafer W is set on a surface plate 12 and rotationally driven, and electrolytic solution S is supplied from a solution filling nozzle 16 to the surface of the wafer.
    定盤12上にウェーハWをセットして回転駆動し、注液ノズル16からウェーハの表面へ電解液Sを供給する。 - 特許庁
  • The recording paper P placed on the placement surface S is clamped by the placement surface S and a pressing plate 83 by spring force of a twisted coil spring 85.
    載置面Sに載置された記録紙Pは、ねじりコイルばね85のばね力により、載置面Sと押圧板83とで挟持される。 - 特許庁
  • A high-quality image is provided since the preceding sheet S and the succeeding sheet S do not mutually rub with an image forming surface (a printing surface).
    先行のシートSと後続のシートSは互いに画像形成面(印字面)を擦れ合わないので高品質画像が得られる。 - 特許庁
  • A continuous adhered sheet(A) is manufactured by extruding the resin(P) into a sheet, rolling the resultant sheet to obtain the sheet(S), heating the to-be-adhered surface(Sa) of the sheet(S) while holding the sheet(S) level and adhering the film(F) to the sheet(S).
    熱可塑性樹脂(P)をシート状に押出し、圧延して連続シート(S)とした後、平坦に保持しながら貼合面(Sa)を加熱し、連続フィルム(F)と貼合して、連続貼合シート(A)を製造する。 - 特許庁
  • To provide a method for making brightness on a tubular surface uniform without generating an S shape distortion by performing lineality correction of a reverse S shape distortion caused by using excessive S shape correction through the use of a signal system by clock modulation.
    過度のS字補正を用いることによって生じた逆のS字歪みを、クロック変調による信号系でリニアリティー補正することにより、S字歪みを生じずに、管面の明るさを均一化する方法を提供するものである。 - 特許庁
  • Finally, a ruled surface S(s, λ)=λQ(w(s))+(1-λ)P(t(s)) is provided (S500), according to guiding curves P(t(s)) and Q(w(s)), composed with the coordinates t, w of the coupling curve previously obtained.
    最後に、線織面のS(s,λ)=λQ(w(s))+(1−λ)P(t(s))が案内曲線P(t(s))及びQ(w(s))に従って、前に得られた連結曲線の座標t,wと各々合成されて提供される(S500)。 - 特許庁
  • The inner surface S of the pocket is formed in a spherical surface shape corresponding to a rolling body 5.
    このポケット部の内面Sは転動体5に対応する球面状にされている。 - 特許庁
  • The surface of the protective layer 5 forms a holding surface S for holding the object to be polished.
    保護層5の表面が被研磨物を保持するための保持面Sを形成している。 - 特許庁
  • The urethane sheet 2 includes a holding surface S for holding the polishing object on one surface side.
    ウレタンシート2は、一面側に被研磨物を保持するための保持面Sを有している。 - 特許庁
  • The presence of the fine gap in the contact surface S or the degree of the contact stress of the contact surface S can be detected from the ratio (A2/A1) of the amplitude A2 of the secondary higher harmonic produced in the contact surface S and the amplitude A1 of the fundamental wave reflected from the contact surface S.
    接触面Sで生じる二次高調波の振幅A2と、当該接触面で反射した基本波の振幅A1の比(A2/A1)の値より、接触面Sにおける微細間隙の有無や接触応力の程度を検出することができる。 - 特許庁
  • The ratio between a lamp electric power W (W) and a surface area S (mm^2) in the light emitting part spherical face part is made W/S<0.3.
    ランプ電力W(W)と発光部球面部内表面積S(mm^2)との比を、W/S<0.3とする。 - 特許庁
  • The substrate S is adsorbed and fixed on the surface-A inspection and adsorption tables 22 from a substrate supply part 7 and, after the surface A of the substrate S is imaged by a surface-A inspection head 4, the substrate S is delivered to a second inspection stage 3.
    基板Sは、基板供給部7からA面検査吸着テーブル22に吸着固定され、A面検査ヘッド4でA面が撮像され、第2検査ステージ3に受け渡される。 - 特許庁
  • The measuring light emitted from the light source 11 is scanned on a surface S to be examined, and a change of an inclination of the reflected measuring light reflected by the surface S is found to measure a shape of the surface S.
    光源11から射出された測定光を被検面S上で走査させ、被検面Sで反射した反射測定光の傾きの変化を求めることにより被検面Sの形状を測定する。 - 特許庁
  • A water level sensor 12 measures the distance to the surface of the water of sewerage S.
    水位センサ12は下水Sの水面までの距離を測定する。 - 特許庁
  • Then, the gas range G is installed on the installing surface Sa of an installing stand S.
    そして、ガスレンジGを設置台Sの設置面Saに設置する。 - 特許庁
  • The entire imaging surface S is covered with the adhesive film 30, and no cavity is present between the imaging surface S and cover glass 40.
    撮像面Sの全面が接着剤膜30によって覆われていて、撮像面Sとガラスカバー40の間にはキャビティは存在しない。 - 特許庁
  • Before sputtering a first target T1, a surface of a substrate S is irradiated with a plasma using Ar to wash the surface of the substrate S.
    第1ターゲットT1をスパッタする前に、Arを用いたプラズマを基板Sの表面に照射し、基板Sの表面を洗浄した。 - 特許庁
  • Also, the distance between the inner bottom surface (22) of the upstream portion (4a) and an inner top surface (24) decreases gradually nearer the substrate (S).
    また、上流側部分(4a)の内側下面(22)と内側上面(24)との間の距離は、基板(S)に近づくにつれて徐々に減少する。 - 特許庁
  • The peripheral surface image S is inputted to the outer peripheral part of an image pickup range by the wide-angle lens 21 of the peripheral surface camera 11, and the peripheral surface image passing route 22 of the peripheral surface image S is formed annularly.
    周面カメラ11の広角レンズ部21による撮像範囲の外周部に周面画像Sが入力され、周面画像Sの周面画像通過経路22はリング状を成す。 - 特許庁
  • The poly(lactic acid)-based film has a static friction coefficient between the two surfaces of the one side surface (the S surface) of each other at least in the range of 0.05-0.4 and has a surface roughness Ra of the S surface in the range of 15-300 nm.
    少なくとも片面(S面)同士の静摩擦係数が0.05〜0.4の範囲であり、かつS面の表面粗さRaが15〜300nmの範囲のポリ乳酸系フィルム。 - 特許庁
  • The diameter of a cylinder is detected, by putting the cylinder on a curved surface so as to support the peripheral surface of the cylinder by the curved surface represented by the equation, when 0≤x≤1/2 is satisfied and parameter s is made 0<s, and by finding an angle formed by the curved surface and the cylinder on that occasion.
    円筒径検出装置1は、0≦x≦1/2として、パラメータsを0<sとしたときに、“y^2/{x(1−x)}−z^2/{x(x+s)}=1”で表される曲面を有している。 - 特許庁
  • The power generator includes a float F on sea surface, support members S, S... on the float F, and a movable member M supported by the support members S, S..., and moves by the rocking of the float F caused by waves.
    海面上のフロートFと、フロートF上の支持部材S、S…と、支持部材S、S…によって支持し、波浪に起因するフロートFの揺動によって運動する可動部材Mとを設ける。 - 特許庁
  • Surface roughness of a surface on which a group of organic EL elements (group of functional elements) of the glass substrate 5 is 0.5 s or less and surface roughness of a backside is 1 s or more.
    ガラス基板5の有機EL素子群(機能性素子群)が形成される表面の表面粗さは0.5s以下、裏面の表面粗さは1s以上とする。 - 特許庁
  • It is arranged so that the knob 30 does not turn to outside the cabin from the reference surface S of the knob where the extension surface of the screen 2 is used as the reference surface S.
    遮光スクリーン2の延長面を基準面Sとしたときに、摘みノブ30がその基準面Sよりも車室外側に回動しない構成にしてある。 - 特許庁
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