「surface S」を含む例文一覧(3517)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 70 71 次へ＞- The printed board S is carried by a pair of carrier chains 21a, supporting both sides of a bottom surface of the printed board S.
プリント基板Ｓの底面両側を支持しつつ一対の搬送チェーン21aでプリント基板Ｓを搬送する。 - 特許庁 - A plurality of slits s inserted in the rotor plate 1 in a thickness direction is formed on an outer circumference side surface.
ロータプレート1は、外周側面にロータプレート1の厚さ方向に貫通するスリットsが複数形成されている。 - 特許庁 - Then, in a transparent color base material, a surface being an opposite side to the light source 31 is a designed surface S.
そして、透明色の基材において光源３１と反対側の面が意匠面Ｓである。 - 特許庁 - Plural radiant lines 3 are extended from a start point S determined on a working surface along the working surface.
加工面上に定めた起点Ｓから加工面に沿って複数の放射線３，３…を延設する。 - 特許庁 - Further, the outside surface (3a) is provided with microcavities (3c) formed within the shell surface (S).
さらに、外面（３ａ）には外郭面（Ｓ）内に形成された微細キャビティ（３ｃ）が設けられている。 - 特許庁 - The sealing device S has a spherical surface seal structure in which a boot is not used.
密封装置Ｓは、ブーツを使用しない球面シール構造である。 - 特許庁 - The camera 94 photographs a black and white image of the cut surface S.
このカメラ９４は、この切断面Ｓの白黒の画像を撮影する。 - 特許庁 - The imaging section 4 has an optical axis C1 substantially perpendicular to the liquid surface S with the capsule-type housing 2 floated on the liquid surface S.
撮像部４は、カプセル型筐体２が液面Ｓに浮遊した状態において液面Ｓに対して略垂直な光軸Ｃ１を有する。 - 特許庁 - At the time of the contact, a metallic plating layer is formed on the plating surface S.
この接触の際、メッキ面Ｓに金属メッキ層が形成される。 - 特許庁 - A rear surface S of the base material 6 is roughened by sand blast processing.
基材６は、裏面Ｓがサンドブラスト加工により粗面化されている。 - 特許庁 - The substrate 2 having the film 30 formed on a principal surface S is fixed.
主面Ｓ上に膜３０が形成された基板２が固定される。 - 特許庁 - Then, the pin P touches the slope surface S of a projecting part T provided in a second module frame MF2, to be guided by the slope surface S.
そしてこのピンＰは、第２モジュールフレームＭＦ２に設けられた突出部Ｔの斜面Ｓに突き当たり、この斜面Ｓにより案内される。 - 特許庁 - To efficiently conduct lashing to a load s on a floor surface (f) with little labor.
床面ｆ上の荷体ｓを少ない手間で能率的にラッシングする。 - 特許庁 - The recess 5a is formed so as to be uniform in the holding surface S.
凹部５ａは、保持面Ｓ内で均等となるように形成されている。 - 特許庁 - When the refill container is charged from the back surface side, the side plate parts of the holding lever are elastically brought into contact with an upper surface of the refill container to hold a staple sheet S.
背面側からリフィルコンテナを装填すると、押さえレバーの側板部がリフィルコンテナの上面へ弾接してステープルシートSを押さえる。 - 特許庁 - The substrate insertion extraction pole 3 is changed over from an opening control position 5 where the contact pin 2 is displaced in a direction separating from the surface T of the substrate S to a closing control position 6 which allows contact of the contact pin 2 to the surface T of the substrate S, since the substrate S is pushed by the substrate insertion extraction pole 3 when the substrate S is inserted into the opening 4 of the housing 1.
基板挿抜用支柱３は、ハウジング１の上記開口４に基板Sを挿入する際に基板挿抜用支柱３によって押し込まれることで、基板Sの表面Tから離れる方向へコンタクトピン２を変位させる開口制御位置５から、基板Sの表面Tに対するコンタクトピン２の接触を許容する閉塞制御位置６へと切り替えられる。 - 特許庁 - In the cold rolled steel sheet having excellent phosphate treatability, S is present on the surface of the steel sheet as a sulfide, and the ratio, N_S/N_Fe, of the atomic number of the S, N_S and the atomic number of Fe, N_Fe in the surface of the steel sheet, is 0.06 to 0.3.
鋼板表面にSが硫化物として存在しており、鋼板表面の当該Sの原子個数N_SとFeの原子個数N_Feとの比N_S/N_Feが0.06以上0.3以下であることを特徴とするリン酸塩処理性に優れた冷延鋼板。 - 特許庁 - The surface position detection device 100 is provided with a light projection system 8 to project detection light onto a surface S to be detected and a light receiving system 9 to receive light reflected on the surface S, and it detects a surface position information of the surface S on the basis of information acquired by the light receiving system 9.
面位置検出装置１００は、検出光を被検面Ｓに投射する送光系８と、その被検面Ｓからの反射光を受光する受光系９とを有し、受光系９によって得られる情報に基づいて、被検面Ｓの面位置情報を検出する。 - 特許庁 - On a surface Sa of a sheet S, a solid image test pattern TPa is formed.
シートＳの一方面Ｓａに、ベタ画像テストパターンＴＰａを形成する。 - 特許庁 - The protrusions 37 are disposed in the state of separation from one another throughout the first sliding surface M1 and almost symmetrically with respect to a surface S.
これら凸部３７は、第一摺動面Ｍ１の全域にわたって互いに離れた状態で、かつ面Sに対して略面対称に配置されている。 - 特許庁 - The Fe_2O_3 has a specific surface area (S) of 8-60 m^2/g, and the specific surface area S_700 after heating at 700°C for one hour satisfies the relation of S_700>S×0.1.
８〜６０ｍ^2 ／ｇの比表面積（Ｓ）を有し、かつ７００℃で１時間加熱した後の比表面積Ｓ_700 がＳ_700 ＞Ｓ×０．１の関係を満たすＦe_2Ｏ_3 。 - 特許庁 - The projector 1 includes: an outer casing 2 constituting an outer frame; and a leg portion 4 which comes in contact with a placing surface S when the projector 1 is placed on the placing surface S.
このプロジェクター１は、外装を構成する外装筐体２と、プロジェクター１を載置面Ｓに載置する際に載置面Ｓに当接する脚部４とを備える。 - 特許庁 - A clearance G between a filter member 5 and a bathtub wall surface S is used for a discharge opening 70, and the hot water is discharged along the bathtub wall surface S to supply the hot water into the bathtub.
フィルター部材５と浴槽壁面Ｓの隙間Ｇを吐出口７０とし、湯を浴槽壁面Ｓに沿わせるように吐出して湯はりを行う。 - 特許庁 - Ribs 36a, 36b are arranged at a falling point of the sheet bundle on the tray surface S while projecting longer than the belts 62a, 62b from the tray surface S.
リブ３６ａ，３６ｂは、トレイ面Ｓにおける用紙束の落下地点に設けられ、かつ、ベルト６２ａ，６２ｂよりもトレイ面Ｓから大きく突出している。 - 特許庁 - The dress ring 2 is set up rotatably in an upper surface of a polishing pad S.
ドレスリング２は研磨パッドＳ上面に回転可能に設置されている。 - 特許庁 - These projections 37 are arranged apart from each other, and roughly plane-symmetrically with respect to a surface S over the whole area of the sliding surface 28 on the anti-thrust side.
これら凸部３７は、反スラスト側の摺動面２８の全域にわたって互いに離れた状態で、かつ面Sに対して略面対称に配置されている。 - 特許庁 - In the U-turn reversal path, the position of the first side surface section and the position of the second side surface section of the sheet S are exchanged and the sheet S is conveyed to the second reversal section.
Ｕターン反転経路では、用紙Ｓの第１側面部の位置と第２側面部との位置が反転されて第２の反転部に搬送される。 - 特許庁 - The metal pole 6 scatters a part of the surface wave S, and the point reflector 7 absorbs a part of the surface wave S and reflects it changing phase and amplitude.
メタルポール６は、表面波Ｓの一部分を散乱させ、ポイントリフレクター７は、表面波Ｓの一部分を吸収し位相や振幅を変化させて反射する。 - 特許庁 - The piezoelectric film 22 is buried in the accommodation S so that a piezoelectric processed surface 22a at the opening of the accommodation S becomes flush with a polish-suppressing surface 14a.
そして、圧電膜２２は、収容部Ｓに埋め込まれて、収容部Ｓの開口における圧電加工面２２ａが研磨抑止面１４ａと面一になる。 - 特許庁 - The ozone water Lo can be intermittently fed to the surface of the substrate S.
基板Ｓの表面には、オゾン水Ｌｏを断続的に供給しても良い。 - 特許庁 - The mounting plate 14 has a mounting surface S mounting the green sheet laminated body 2 thereon.
載置板１４は、グリーンシート積層体２を載置する載置面Ｓを有する。 - 特許庁 - The marks 7 and 7a in the figure indicate abrasion devices for the surface of the water-absorbing body S.
符号７、７ａは吸水体Ｓ表面を擦る擦過装置である。 - 特許庁 - The outer peripheral surface (47a) of the fit-in discharge side end (46) is in slide-contact with the inner peripheral surface (63a) of an outer edge (63) of the bearing holder (60) forming a seal part (S).
その内嵌する吐出側端部（46）の外周面（47a）と軸受ホルダ（60）の外縁部（63）の内周面（63a）とが摺接してシール部（S）を構成している。 - 特許庁 - The roughness is preferably ≤3.0 S after surface treatment, and is further preferably ≤2.2 S.
その粗さは、表面処理を行った後に、３．０Ｓ以下であることが好ましく、２．２Ｓ以下であることが更に好ましい。 - 特許庁 - To provide a substrate surface inspection device preventing a reduction in detection sensitivity even when a line width on a substrate is 50 nmL/S or less.
基板上の線幅が５０nmL/S以下の場合にも検出感度が低下しない基板表面検査装置を提供する。 - 特許庁 - The sheet for forming an electrode is used to form a pattern by providing the layer of a resin lamination body 1 on the surface of a substrate S.
基板(S) 面に樹脂積層体(1) の層を設けてパターンを形成するための電極形成用のシートである。 - 特許庁 - The thermoplastic resin sheet (S) for thermally sticking together of the invention has a sticking surface (Sa) of which Vicat softening temperature (Tb1) is 75°C-100°C.
本発明の熱貼合用熱可塑性樹脂シート(S)は、貼合面(Sa)のビカット軟化温度(Ｔｂ1)が７５℃〜１００℃である。 - 特許庁 - In a shot blasting process, shot blasting is executed to the rolled material S, and the surface area of the rolled material S is increased.
ショットブラスト工程において、圧延材Ｓに対しショットブラストが実施され、圧延材Ｓの表面積が拡大される。 - 特許庁 - In the semiconductor substrate S, a couple of holes 17 are formed from its top surface Sa at right angles to the semiconductor substrate S.
半導体基板Ｓには、その表面Ｓａから半導体基板Ｓに垂直に一対の孔１７を形成した。 - 特許庁 - When measured indentation hardness of stamper, the embodiment is 352 Hv(s) at the surface and 145 Hv(s) at the rear face.
スタンパーのビッカース硬度を測定したところ、実施例のものは、表面で３５２Ｈｖ、裏面で１４５Ｈｖとなっていた。 - 特許庁 - Furthermore, range of a ratio s/S of a superficial area S of a virtual sphere which forms an outer surface of the inner layer cover to the total amount (s) for the area A of the edge face of the outer layer cover of the projections is within 0.05 to 0.75.
さらに、内層カバーの外表面が形成する仮想球面の表面積Ｓと、突部の外層カバー側端面の面積Ａの総合計ｓとの比ｓ／Ｓを０．０５〜０．７５の範囲とする。 - 特許庁 - (3) L≤2.5×A in which A is a bulb maximum diameter (mm) crossing at right angles with the lamp tube axial direction, and P/S≥1.2 in which S is an internal surface area S (mm^2) of the bulb part and P/S is a tube wall load (W/mm^2).
（３）ランプ管軸方向に直交するバルブ最大内径Ａ（ｍｍ）、Ｌ≦２．５×Ａ、該バルブ部の内表面面積Ｓ（ｍｍ^２）と管壁負荷Ｐ／Ｓ（Ｗ／ｍｍ^２）がＰ／Ｓ≧１．２。 - 特許庁 - The upper surface of the insulating film 8 is made as a substrate mounting surface 50 for mounting a glass substrate S for FPD.
絶縁膜８の上面は、ＦＰＤ用ガラス基板Ｓを載置する基板載置面５０となっている。 - 特許庁 - The optical waveguide 35A extends along the direction where the medium facing surface S and the back surface 32a are facing each other.
光導波路３５Ａは、媒体対向面Ｓと背面３２ａとの対向方向に沿って延在する。 - 特許庁 - To certainly clean the flat surface P of a work W having the flat surface P and a stepped part S.
平坦面Ｐと段部Ｓを有するワークＷのうち、平坦面Ｐを確実に清掃すること。 - 特許庁 - The insertion guide surface 33b smoothly guides a sealing member S up to a position corresponding to the sealing surface 33a.
挿入ガイド面３３ｂが、スムーズにシール部材Ｓをシール面３３ａに相当する位置まで導く。 - 特許庁 - A circular surface 2a of the magnet 2 is magnetized to an N-pole, and the back surface 2b is magnetized to an S-pole.
磁石２の円形の表面２ａがＮ極に着磁され、背面２ｂがＳ極に着磁されている。 - 特許庁 - A gap S is left between the top surface of the plate type body 32 and the reverse surface of the reinforcing plate 31.
板状体３２の表面と補強板３１の裏面との間には隙間Ｓが設けられている。 - 特許庁 - A circular front surface 2a of the magnet 2 is magnetized to have the N-pole, and a rear surface 2b is magnetized to have the S-pole.
磁石２の円形の表面２ａがＮ極に着磁され、背面２ｂがＳ極に着磁されている。 - 特許庁 - Thus, the interval S of the read surface 49a and the transfer surface 33a is uniformly kept without the bias.
このため、読取面４９ａと移送面３３ａとの間隔Ｓは偏りなく均一に保持される。 - 特許庁
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