「surface atom」を含む例文一覧(483)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 次へ＞- A particulate electroconductive material 1 for anisotropic electroconductive adhesives includes surface-treated electroconductive particles 11 having a surface-modifying group bonded to a metal surface and a metal atom constituting the metal surface, wherein the surface-modifying group includes a group represented by the formula -(CH_2)_n- and n is an integer of ≥2.
金属表面と該金属表面を構成する金属原子に結合した表面修飾基とを有する表面処理導電粒子１１を含み、表面修飾基が−（ＣＨ_２）_ｎ−で表される基を有し、ｎが２以上の整数である、異方性導電接着剤用粒子状導電材料１。 - 特許庁 - Thus, since impurities adhered to the surface Si, C of the surface of the substrate can be simultaneously removed for several atom layers by exposing the surface of an SiC substrate with a high temperature and low oxygen partial pressure, a defect is made very small at the oxide film formation time, and the clean surface can be exposed.
ＳｉＣ基板表面を高温かつ低酸素分圧下に晒すことにより、表面に付着した不純物と基板表面のＳｉ、Ｃを数原子層分除去することが同時にできるので、酸化膜形成時には欠陥が少なく極めて清浄な表面を露出させることができる。 - 特許庁 - The present invention describes surface treatment of exposing a surface to an ionized atom or molecule to increase adhering strength of coagulated blood onto the surface, by increasing surface interaction of a component inherent to the blood such as fibrin/fibrinogen and platelet.
フィブリン／フィブリノゲンおよび血小板などの血液固有の成分の表面相互作用を増加させることにより、表面に対する凝固した血液の粘着強度を増加させるために、表面をイオン化された原子または分子に暴露させることによって、表面を処置することが記載されている。 - 特許庁 - The compound having the pyridine skeleton and two seats or more of the coordination seats is excellent in complex forming ability with a metallic atom, and a metal oxide generated on the head surface becomes a complex salt and is easily left from the head surface to hardly remain on the head surface.
ピリジン骨格を有し２座以上の配位座を有する化合物は、金属原子との錯形成能に優れ、ヘッド表面に生成した金属酸化物は錯塩となり、ヘッド表面から容易に離脱し、ヘッド表面には残留しなくなる。 - 特許庁 - The method for producing a silicon-containing film includes: depositing a dry deposited film including at least silicon atom and nitrogen atom on a substrate by a dry method, and then modifying at least part of the film by irradiating the film surface with light having a wavelength of 150 nm or less.
乾式法により少なくともケイ素原子、窒素原子を含む乾式堆積膜を基材上に堆積させた後に、膜表面に波長が１５０ｎｍ以下の光照射を行い、膜の少なくとも一部を変性するシリコン含有膜の製造方法。 - 特許庁 - For the original plate for direct offset printing, in the offset printing plate wherein the photosensitive resin layer is formed directly or via another layer, a surface of the photosensitive resin layer has ≥0.5 atom% of a fluorine atom measured by an XPS method.
本発明のダイレクトオフセット印刷用原版は、基板上に直接又は他の層を介して感光性樹脂層が形成されたオフセット印刷版において、その感光性樹脂層表面が、ＸＰＳ法により測定されるフッ素原子を０．５原子％以上有している。 - 特許庁 - The bond magnet 1 has at least one position where a phosphorus atom and a metal atom originating in a phosphoric acid metal salt is detected down to a depth of 40 μm or more from the surface of the protective layer by line analysis using an X-ray microanalyzer.
そして、このボンド磁石１は、リン酸金属塩に由来するリン原子及び金属原子が、Ｘ線マイクロアナライザーを用いた線分析により、保護層の表面から４０μｍ以上の深さ位置まで検出される検出箇所を少なくとも一箇所有している。 - 特許庁 - The method of modifying fluorine resin film includes a process of causing a fluorine resin film to contact with a gas containing fluorine atom and either one of a gas containing oxygen atom or inactive gas to provide hydrophilicity to the surface of the fluorine resin film.
フッ素樹脂フィルムの改質方法は、フッ素樹脂フィルムに、フッ素原子を含むガスと、酸素原子を含むガス又は不活性ガスの少なくとも何れか一方とを含有する処理ガスを接触させることにより、当該フッ素樹脂フィルムの表面に親水性を付与する。 - 特許庁 - Infiltration/diffusion of an atom for constituting a metal phase to/in an Si substrate is prevented, by terminating a dangling bond of the Si existing on a surface of the substrate by an atom-like hydrogen 12, before a metal layer is formed on the substrate contacted with the metal.
金属が接するＳｉ基板に，金属層を形成する前にＳｉ基板表面に存在するＳｉの未結合手を原子状水素１２によって終端することにより金属相を構成する原子がＳｉ基板中へ侵入・拡散することを防止した。 - 特許庁 - Growth is discontinued before the supply of raw material is switched from InGaAs to GaInP, to be terminated at group III atom covering arsenic atom remaining in the surface of InGaAs crystal and trimethyl aluminum TMA alone is supplied.
ＩｎＧａＡｓ結晶の表面に残留している砒素原子を覆って III族原子で終端させるために、ＩｎＧａＡｓからＧａＩｎＰに原料の供給を切り替える前に成長中断を行い、トリメチルアルミニウムＴＭＡだけを供給するものである。 - 特許庁 - The surface atom visualizing apparatus 1 is equipped with an exciting unit 2 for irradiating the surface atom of the solid sample 5 with high-energy exciting light 9 for exciteing itinerant valence electrons, to convert the same into photoelectrons and an electron microscope unit 3 for forming an atomic image on the surface of the solid sample 5, on the basis of the photoelectrons excited from the itinerant valence electrons by the exciting unit 2.
表面原子可視化装置１は、固体試料５の表面原子に高エネルギ励起光９を照射し、遍歴的な価電子を励起して光電子に変換する励起ユニット２と、励起ユニット２によって遍歴的な価電子から励起された光電子に基づいて、固体試料表面上の原子像を生成する電子顕微鏡ユニット３とを備えたことを特徴とする。 - 特許庁 - According to an analysis by high-frequency glow discharge atomic emission spectrometry, the maximum value of Si concentration in a surface layer extended 20 nm from the surface of the copper or copper alloy tube is 0.3-30 atom%.
高周波グロー放電発光分光分析法により分析したときの前記銅又は銅合金管の表面から２０ｎｍまでの表層部におけるＳｉ濃度の最大値が０．３乃至３０原子％である。 - 特許庁 - The mold matrix material and the mold used for the nanoimprint have a mold surface composed of fluorinated composite quartz glass which is characterized by the fluorine atom density of ≥1,000 ppm on the surface, and have excellent oil repellency.
表面におけるフッ素原子濃度が１０００ｐｐｍ以上であることを特徴とするフッ素化合成石英ガラスからなるモールド面を有し、撥油性に優れる、ナノインプリントに用いるモールド母材およびモールド。 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING THIN GATE OXIDE HAVING RELIABILITY IMPROVED BY FORMATION OF NITRIDE ON UPPER SURFACE OF GATE OXIDE TO FORM BARRIER OF NITROGEN ATOM ON UPPER SURFACE OF GATE OXIDE AND RESULTING PRODUCT
ゲート酸化物の上側表面の窒化物形成により向上した信頼性を有する薄いゲート酸化物を形成してゲート酸化物の上側表面に窒素原子のバリヤを形成する方法及びその結果得られる製品 - 特許庁 - In the magnetic recording medium, a plurality of nonmagnetic material layers each having a higher oxygen atom concentration on the surface side than on the substrate side are embedded, in the recesses between the magnetic patterns.
前記磁性パターン間の凹部に、酸素原子濃度が基板側よりも表面側で高くなっている非磁性体が複数層埋め込まれている磁気記録媒体。 - 特許庁 - The UV emitting fluorescent material contains SrB_4O_7:Eu fluorescent material particles processed to form a surface layer containing aluminum in an amount of >0 and about <25 atom%.
ＵＶ発光蛍光体は、０より大きく約２５原子パーセントまでのアルミニウムを含む表層をもたらすように処理されたＳｒＢ_4Ｏ_7：Ｅｕ蛍光体粒子を含む。 - 特許庁 - An apparatus (106) and the methods for reactive atom plasma processing can be used to shape, polish, planarize, and clean the surface of material with minimal subsurface damage.
表面下の損傷を最小限に抑えて材料の表面を成形、研磨、平坦化、及び洗浄する反応原子プラズマ処理のための装置（１０６）及び方法。 - 特許庁 - The partial or entire surface of the plastic container for storing a liquid composite containing terpenoid is coated with a polymeric membrane of hydrocarbon which may be replaced by halogen atom.
テルペノイド含有液体組成物を収容するプラスチック製容器の表面の一部又は全体に、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭化水素の重合膜をコーティングする。 - 特許庁 - A fluorine atom-containing group such as a perfluoroalkenyl group, a polysiloxane group, a ≥5C straight or branched chain alkyl group, or the like, may be cited as the surface orientation functional group.
表面配向性の官能基としては、パーフルオロアルケニル基などのフッ素原子含有基、ポリシロキサン基、炭素数５以上の直鎖または分岐のアルキル基等が挙げられる。 - 特許庁 - O_2 ions are poured into the whole surface of the substrate including a silicide formation scheduled region to obtain an oxygen concentration of 0.05-5 atom% in Si of the silicide formation scheduled region.
シリサイド化予定領域を含んだ基板全面にＯ_２をイオン注入し、シリサイド化予定領域のＳｉ中の酸素濃度が０．０５〜５ａｔｏｍ％になるようにする。 - 特許庁 - The member for the semiconductor machining device, in which an amorphous carbon/hydrogen solid material layer containing 15-50 atom% of hydrogen, is formed on the surface of a base material.
基材の表面に、１５〜５０原子％の水素を含有するアモルファス状炭素水素固形物層が形成された半導体加工装置用部材を提案する。 - 特許庁 - Since Pt is present on the surface of the two-phase colloid, the adsorbability of an oxygen atom to Pd is properly relaxed and the adsorption of saturated hydrocarbon to an active point is hardly obstructed.
二相コロイドの表面にPtが存在することで、Pdへの酸素原子の吸着性が適度に緩和され、飽和炭化水素の活性点への吸着が阻害されにくい。 - 特許庁 - There is provided the metal surface treatment agent that is composed of a silicon atom-bonded methyl group having a specific structure and a water soluble silicone oligomer having an amino group-substituted alkyl group as essential components.
特定の構造を有するケイ素原子結合メチル基及びアミノ基置換アルキル基を有する水溶性シリコーンオリゴマーを必須成分とする金属表面処理剤。 - 特許庁 - The polishing solution for metal contains the following components (1), (2) and (3), i.e. (1) colloidal silica in which at least one part of silicon atoms on the surface is decorated with an aluminum atom, (2) an oxidizer and (3) an amino acid having two or more calboxylic groups.
（１）表面の珪素原子の少なくとも一部がアルミニウム原子で修飾されているコロイダルシリカ（２）酸化剤（３）カルボキシル基を２つ以上有するアミノ酸 - 特許庁 - The elastic layer 12 of the developing roller 1 is formed in such a manner that an uncross-linked rubber composition is prepared by mixing modified conjugated diene polymer obtained by selecting and coupling at least one of tin atom, nitrogen atom, and silicon atom, the polybutadiene compound, and carbon black, and the uncross-linking rubber composition is formed on the external circumferential surface of the shaft core body 11 and heated and cured.
この現像ローラ１の弾性体層１２は、スズ原子、窒素原子及び珪素原子の中から選ばれる少なくとも一種を導入しカップリングされた変性共役ジエン系重合体と、前記ポリブタジエン系化合物と、カーボンブラックとを混合して未架橋ゴム組成物を調製し、該未架橋ゴム組成物を軸芯体１１の外周面に形成し、加熱硬化することにより得られる。 - 特許庁 - In the electrostatic latent image developing carrier having resin on its surface, the resin is swelled by bringing the resin into contact with a medium in which fluorine atom-containing resin and a dispersion medium are contained, and after entering the fluorine atom-containing resin into the resin, the dispersion medium is removed, so that the fluorine atom-containing resin is dispersed into the resin.
表面に樹脂を有する静電潜像現像用キャリアであって、フッ素原子含有樹脂及び分散媒を含む媒体に接触させることで、前記樹脂を膨潤させ、前記フッ素原子含有樹脂が該樹脂に入り込んだ後、前記分散媒を除去することにより、フッ素原子含有樹脂を前記樹脂中に分散させたことを特徴とする静電潜像現像用キャリアである。 - 特許庁 - The magnetic field measuring device includes a cell array 10 formed by including an atom group consisting of atoms excited by pump light and adjacently arranging a plurality of polyhedron cells having at least a first surface 101, a second surface, and a third surface 103 which transmit light.
磁場計測装置は、ポンプ光によって励起される原子からなる原子群を含み、光を透過させる第１の面１０１，第２の面，第３の面１０３を少なくとも有する多面体形状の複数のセルを隣接してなるセルアレイ１０を有する。 - 特許庁 - The surface of the photoreceptor is covered with a surface protective layer comprising a cured product of a fluorine-containing photocurable composition containing a fluorinated alkyl group-containing (meth)acrylate and a photopolymerization initiator, wherein a fluorine atom content of the surface protective layer is confined to 8.5-20 mass%.
感光体の表面が、フッ素化アルキル基含有（メタ）アクリレートと光重合開始剤とを含有した含フッ素光硬化性組成物の硬化物からなる表面保護層で被覆され、該表面保護層のフッ素原子含有率を８．５〜２０質量％にする。 - 特許庁 - This magnet powder 1 has an alloy composition, that is represented by the formula Rx(Fe1-yCoy)100-x-zBz (R: at least one kind of rare- earth element; x: 10-15 atom.%; y: 0-0.30; z: 4-10 atom.%) and has a plurality of projecting lines 2 on at least a part of its surface.
本発明の磁石粉末１は、Ｒ_x（Ｆｅ_1-yＣｏ_y）_100-x-zＢ_z（ただし、Ｒは、少なくとも１種の希土類元素、ｘ：１０〜１５原子％、ｙ：０〜０．３０、ｚ：４〜１０原子％）で表される合金組成からなり、その表面の少なくとも一部に、複数の凸条２を有する。 - 特許庁 - The easy adhesive polyester film comprises a polyester film manufactured by a simultaneous biaxial stretching method and the coating layer with a thickness of 1-200 nm provided at least on one side of the polyester film and characterized in that the concentration of a nitrogen atom on the surface of the coating layer is 5-40 atom%.
同時二軸延伸法にて製造されたポリエステルフィルムおよびその少なくとも片面に設けられた厚み１〜２００ｎｍの塗布層からなり、塗布層表面での窒素原子濃度が５〜４０原子％であることを特徴とする易接着性ポリエステルフィルム。 - 特許庁 - Such a copper wiring is realized by diffusion adding the metallic atom by forming a seed layer of an alloy of copper and a metal except the copper in the copper wiring layer formed on the seed layer, and diffusion adding the silicon atom from the surface of the copper wiring.
このような銅配線は、シード層上に形成された銅配線層の中に、前記シード層を銅と銅以外の金属との合金により形成することにより、前記金属の原子を拡散添加させ、さらに前記銅配線の表面からシリコン原子を拡散添加することにより実現される。 - 特許庁 - The corona charging unit has a corona-discharge electrode and a charge grid, and the charge grid has a layer containing zeolite, a conductive agent, and a fluorine atom containing material; and it is desirable that the fluorine atom containing a material be a fluorine surface modifier.
コロナ放電電極と帯電グリッドとを有するコロナ帯電器において、該帯電グリッドが表面にゼオライトと導電剤とフッ素原子含有物質とを含む層を有することを特徴とするコロナ帯電器であり、該フッ素原子含有物質はフッ素系表面改質剤であることが好ましい。 - 特許庁 - The molded article before combustion meets Y/X of 0.9-1.1 when the silicon atom concentration is taken as X mass% and silicon atom concentration at the position of the depth of ≤10 μm from the surface is taken as Y mass%.
本発明の成形体は、ポリ乳酸とシリコーン系添加剤とを少なくとも含有してなり、シリコン原子濃度をＸ質量％とし、表面から１０μｍ以内の深さの位置におけるシリコン原子濃度をＹ質量％とすると、燃焼前においては、Ｙ／Ｘが０．９〜１．１である。 - 特許庁 - It is preferable that the silane coupling agent includes a sulfur atom in the molecule and that the alkoxsilane includes a sulfur atom in the molecule and that the silica before pretreatment is a wet silica having a nitrogen adsorbing specific surface area of 70-300 m2/g measured by BET method.
シランカップリング剤が分子内に硫黄原子を有する態様、アルコキシシランが分子内に硫黄原子を有する態様、前処理される前におけるシリカが、ＢＥＴ法で測定した窒素吸着比表面積が７０〜３００ｍ^2／ｇである湿式シリカである態様、などが好ましい。 - 特許庁 - The nitrogen-containing amorphous carbon film is formed by physical evaporation onto the sliding surface of a sliding member and contains 8.0 to 12.0 atom% of hydrogen and 3.0 to 14.0 atom% of nitrogen.
本発明の窒素含有非晶質炭素系皮膜は、摺動部材の摺動面に、物理蒸着法により形成される窒素含有非晶質炭素系皮膜であって、水素を８．０原子％以上１２．０原子％以下、および窒素を３．０原子％以上１４．０原子％以下含むところに特徴を有する。 - 特許庁 - The pretreated polyester fiber for rubber reinforcement is a polyester fiber provided with an aliphatic amine compound and an epoxy compound on the surface, has ≤1.0×10^-3 equivalent/kg epoxy index (EI) of the fiber and the value of a ratio C/O of a carbon atom (C) to an oxygen atom (O) constituting the surface of the fiber of 3.0-3.5.
本発明のゴム補強用前処理ポリエステル繊維は、脂肪族アミン化合物とエポキシ化合物とを表面に付与処理したポリエステル繊維であって、該繊維のエポキシ指数（ＥＩ）が１．０×１０^−３当量／ｋｇ以下であり、かつ該繊維の表面を構成する炭素原子（Ｃ）と酸素原子（Ｏ）の比Ｃ／Ｏの値が３．０〜３．５の範囲であることを特徴とする。 - 特許庁 - The carbon nanotube film is formed on the surface of a sintered body by removing silicon atom from SiC when the polycrystalline or porous sintered body composed of SiC is heated to the temperature at which silicon atom is lost from the surface of the sintered body by SiC decomposition under vacuum condition and consists of carbon nanotubes arranged in the specific direction.
本カーボンナノチューブ膜は、真空下でＳｉＣからなる多結晶質又は多孔質焼結体を、真空の真空度においてＳｉＣが分解して焼結体の表面から珪素原子が失われる温度に加熱することにより、ＳｉＣから珪素原子を除去して、焼結体の表面に形成され、且つ所定の方向に配向したカーボンナノチューブからなる。 - 特許庁 - This surface treatment method comprises the first step of removing oxygen atoms from the surface of a substrate, by introducing a hydrogen gas into a vacuum vessel, and reacting the above hydrogen gas with the substrate having pyroelectricity, and the second step of substituting a nitrogen atom for the oxygen atom removed in the above first step, by reacting the substrate with the nitrogen gas.
真空容器内に水素ガスを導入し、前記水素ガスと焦電性を有する基板を反応させ、前記基板の表面から酸素原子を離脱させる第１工程と、前記基板と窒素ガスとを反応させることで、前記第１工程で離脱した酸素原子を窒素原子で置換する第２工程とを備えることで解決できる。 - 特許庁 - The capacitor electrode having a first surface and a second surface which are opposite to each other is characterized by that it is made of a SrRuO_3 film and contains a trivalent element of 10 atom% or less in a region at a predetermined distance in the thickness direction from the first surface toward the second surface.
互いに対向する第１面及び第２面を有するキャパシタ用電極であって、ＳｒＲｕＯ_3膜から構成され、第１面からその厚み方向に所定の距離だけ離れた位置から第２面側の領域中に、１０ａｔｍ％以下の３価の元素を含有することを特徴とするキャパシタ用電極。 - 特許庁 - To provide a polishing solution for metal which comprises colloidal silica whose surface is partially covered with aluminum atom as a solid abrasive grain and can restrain residual of the solid abrasive grain on a polishing surface after polishing.
表面の一部がアルミニウム原子で覆われているコロイダルシリカを固体砥粒として含有する金属用研磨液であって、研磨後における被研磨面上の該固体砥粒の残留を抑制しうる金属用研磨液を提供すること。 - 特許庁 - It is possible to substantially prevent deterioration in characteristics by controlling the concentration of surface metal impurities to be ≤1×10^11 (atom/cm^2) because the dispersion in these characteristics is caused by high concentration of the metal impurities on the surface of the silicon carbide.
炭化珪素表面における金属不純物濃度が高いこと、その表面金属不純物濃度を１×１０^１１（ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２）以下にすることにより、実質的に特性の劣化を防止できることを見出した。 - 特許庁 - A crystalline silicon thin film 122 containing a dopant atom with at least a crystalline surface region and fine, uneven surface structure is provide between the light-reflective metal film 121 and the one-conductivity type layer 131.
前記光反射性金属膜（１２１）と一導電型層（１３１）との間に、少なくとも表層領域が結晶質であり、かつ微細な表面凹凸構造を有するドーパント原子含有結晶質シリコン系薄膜（１２２）を設ける。 - 特許庁 - The SiO_2 film 16 is formed of two layers, namely, a bottom layer 16a that contains a high content of carbon atom in a part having contact with a resin substrate, and a surface layer 16b that contains nearly zero content of carbon atoms, in a part that is exposed on the surface of a channel.
ＳｉＯ_2膜１６は、樹脂基板に接する部分にＣ原子の含有量が多い最下層１６ａと、流路表面に露出する部分にＣ原子が殆ど存在しない表層１６ｂの２層からなる。 - 特許庁 - The fixed type transition metal catalyst includes a constitution that a transition metal or a transition metal compound is combined with a substrate having a metal nitride layer at least on the surface or the surface of a substrate comprising a metal nitride through a sulfur atom.
固定型遷移金属触媒は、少なくとも表面に金属窒化物層を有する基板又は金属窒化物からなる基板の表面に硫黄原子を介して遷移金属又は遷移金属化合物が結合している。 - 特許庁 - In the ceramic substrate containing Si, the concentration of silicon oxide and silicon complex oxides in the surface of the substrate is set to 2.7 Atom% or below by surface measurement using an electron probe microanalyzer.
Ｓｉを含有してなるセラミックス基板であって、基板表面における酸化シリコン及びシリコンの複合酸化物の濃度が、電子プローブマイクロアナライザを用いた表面測定で２．７Ａｔｏｍ％以下に設定されていることを特徴とする。 - 特許庁 - After so feeding a metal complex to the surface of a substrate 3 by the gas feeding line 15 for metal raw materials as to form a metal-atom layer on the surface, the feeding of the metal complex is so stopped as to purge the metal complex by a high-temperature inert gas.
金属原料ガス供給ライン１５により基板３表面に金属錯体を供給して金属原子層を形成した後、金属錯体の供給を停止して高温不活性ガスによるパージを行う。 - 特許庁 - Then, the specific surface area A_s is determined from the equation: A_s=k×r^-D×M^-1×N_A×πr^2, by using the surface fractal dimension D, the atomic weight M and the atomic radius r of the noble metal atom, the Avogadro's number N_A, and a coefficient k determined by a material of the measuring object.
そして、表面フラクタル次元D、前記貴金属原子の原子量M及び原子半径r、アボガドロ数N_A、並びに前記測定対象物の材料により定まる係数kを用いて、比表面積A_sを式 A_s=k・r^-D・M^-1・N_A・πr^2により求める。 - 特許庁 - Etching is performed without damaging a silicon substrate 1 by bringing the surface of a second gate insulation film 5 of metal oxide into contact with a chloride atom imparting gas without forming an ion sheath the surface of the second gate insulation film 5 thereby causing reaction.
金属酸化物からなる第２のゲート絶縁膜５の表面にイオンシースを形成することなく、塩素原子供与性ガスと接触させて反応させることにより、シリコン基板１にダメージを与えずにエッチング処理を行う。 - 特許庁 - In this surface treatment, surface of a semiconductor substrate 3 is plasma etched with a plasma etching equipment in which the semiconductor substrate 3 is grounded, wherein a gas mixture comprising SF6 gas containing fluorine atoms in the molecule and HCl gas containing a chlorine atom in the molecule is used.
分子中にフッ素原子を含むＳＦ_6ガスと、分子中に塩素原子を含むＨＣｌガスとの混合ガスを用いて半導体基板３の表面を、半導体基板３が接地されたプラズマエッチング装置１でプラズマエッチングしている。 - 特許庁 - As a result of this setup, a γ-type bismuth oxide phase containing excess oxygen atom can be segregated stably in the surface layer, the surface layer can be made higher in resistance, oxygen atoms are restrained from breaking away from the surface layer and grain boundaries by a high electric field, and the voltage nonlinear resistor can be improved in energy tolerated dose.
これにより過剰の酸素原子を含むγ型酸化ビスマス相を表面相に安定して偏析させることができ、表面層の抵抗が大きくなり、また高電界による酸素原子の表面・粒界からの離脱を抑制し、エネルギー耐量を向上させることができる。 - 特許庁
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