「surface atom」を含む例文一覧(483)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 次へ＞- A copper foundation film is formed on the surface of the resin substrate cleaned by ion irradiation or neutral atom irradiation, etc., by vapor deposition or sputtering, and copper foil is press-bonded to the formed copper foundation film.
イオン照射あるいは中性原子照射等による清浄化処理を施した樹脂基板の表面に銅の下地膜を蒸着あるいはスパッタリングによって形成し、形成された銅の下地膜上に銅箔を加圧接合する。 - 特許庁 - The hydrogen storing metal alloy powders feature that their surface is covered by a phosphate content protective coating that contains 2 atom.% or more phosphor and is 10-100 nm in thickness.
粉末表面がりん酸塩を含む保護膜によって覆われ、かつ該保護膜成分中のりん濃度が２原子％以上で、膜厚が１０〜１００ｎｍであることを特徴とするりん酸塩保護膜に覆われた水素吸蔵合金粉末。 - 特許庁 - The anti-fogging article is produced by treating the surface of the article with an organosilane containing at least one sulfur atom at a non-coupling position and/or a hydrolysate thereof which is a monomer or a condensate of dimer or more.
防曇性物品は、非カップリング部位に少なくとも１個以上の硫黄を含むオルガノシランまたは／及びその加水分解物の単体及び２量体以上の縮合物を、物品表面に処理することにより作製される。 - 特許庁 - A manufacturing method of the antibacterial film comprises forming the polymer segment (B) by polymerizing a vinyl monomer having the quaternary ammonium salt structure (A) by atom transfer radical polymerization method on the film surface.
また、４級アンモニウム塩構造（Ａ）を有するビニルモノマーを、フィルム表面上にて原子移動ラジカル重合法によって重合させることによって重合体セグメント（Ｂ）を形成することを特徴とする抗菌性フィルムの製造方法。 - 特許庁 - The composite coated aluminum pigment is characterized by that an aluminum pigment coated with silica coating film is surface-treated with a treatment agent comprising a polysilicate compound 2-20 in silicon atom number in one molecule.
この発明の複合被覆アルミニウム顔料は、シリカ被膜で被覆されたアルミニウム顔料が、１分子中のケイ素原子数が２〜２０個であるポリシリケート化合物を含有した処理剤で表面処理されてなることを特徴とする。 - 特許庁 - The magnetic recording medium is provided with a magnetic layer constituted of a ferromagnetic metal alloy containing at least Co, Pt, Cr, and O of 2 to 20 atom % on at least one surface of a flexible high polymer support.
可撓性高分子支持体の少なくとも一方の面に、少なくともＣｏ、Ｐｔ、Ｃｒ、及び２〜２０原子％のＯを含有する強磁性金属合金からなる磁性層を有することを特徴とする磁気記録媒体。 - 特許庁 - To provide a semiconductor manufacturing apparatus capable of achieving homogeneous filming over the entire surface of a wafer or the whole cylinder by controlling flows of gas by steps and improving coating property of a high-aspect structure in an atom layer deposition (ALD) method.
原子層成長（ＡＬＤ）法において、各ステップ毎にガスの流れを制御し高アスペクト構造での被覆性を向上させ、均質な成膜をウエハ全面及びシリンダー全体で得ることができる半導体製造装置を提供する。 - 特許庁 - The resist film removal method attached on a processing surface of a workpiece includes: dry processing the resist film attached on the processing surface of the workpiece by supplying active hydrogen atom generated by an inductively coupled plasma method between atmospheric pressure and 100 Pa; and dry processing by supplying active oxygen atom generated by the inductively coupled plasma method between atmospheric pressure and 100 Pa and/or wet processing by medical liquid.
被処理物の処理表面に付着したレジスト膜を除去する方法であって、被処理物の処理表面に付着したレジスト膜に対し、大気圧から１００Ｐａの間で誘導結合プラズマ法によって生成された活性水素原子を供給することによるドライ処理と、大気圧から１００Ｐａの間で誘導結合プラズマ法によって生成された活性酸素原子を供給することによるドライ処理及び／又は薬液によるウェット処理とを行う。 - 特許庁 - This core-shell particle includes a coated layer made of a graft polymer which is prepared, in a solvent where fine resin particles are dispersed, by: combining a halogen atom with a resin of the fine resin particle surface; and surface-graft polymerizing a radically polymerizable monomer.
本発明のコアシェル型粒子は、樹脂微粒子が分散された溶媒中において、該樹脂微粒子表面の樹脂にハロゲン原子を結合させるとともに、ラジカル重合性単量体を表面グラフト重合させることにより形成された、グラフト重合体からなる被覆層を備えることを特徴とする。 - 特許庁 - The suture thread is formed by forming a coating layer on the surface of a fiber material made of fluororesin, the surface of the fiber material has an atomic fraction of a fluorine atom measured by X-ray photoelectron spectroscopy, lower than that of the inside, and the coating layer contains a medicine and a biodegradable polymer.
フッ素系樹脂からなる繊維素材の表面にコーティング層を形成させてなる縫合糸であって、前記繊維素材の表面におけるＸ線光電子分光法によるフッ素原子の原子分率がその内部より低く、前記コーティング層が薬剤および生分解性高分子を含有することを特徴とする縫合糸。 - 特許庁 - The platinum-supported carbon consists of a surface-modified carbon material formed by introducing an organic group containing a nitrogen or sulfur atom having a lone pair(s) into a carbon material through a connecting group and particles of platinum or a platinum alloy supported in the surface-modified carbon material.
非共有電子対を有する窒素原子または非共有電子対を有する硫黄原子を含む有機基を、連結基を介してカーボン材料に導入した表面修飾カーボン材料と、該表面修飾カーボン材料に担持した白金粒子または白金合金粒子とからなる白金担持カーボン。 - 特許庁 - A copper component existing at a part within 20% of a thickness from the surface of the lithium metal film 2 is restricted to 5 atom% or less, by reducing a thermal load when forming the lithium metal film 2 of the negative electrode member, or by preliminarily forming a middle layer for preventing diffusion on the surface of the copper film 1 to restrain activation of the lithium.
この部材のリチウム金属膜２の成膜時の熱負荷を低減するかまたは銅箔１の表面に予め拡散防止用の中間層を設けて膜２の表面からその膜２の膜厚の２０％の範囲内における銅成分を５原子％以下となし、リチウムの活性化を抑制する。 - 特許庁 - The fiber structure containing a polyester fiber has the surface atom number ratios O1S/C1S and N1S/C1S determined by electron spectroscopy for chemical analysis (ESCA) by X-ray irradiation is higher than that of the part at a depth of ≥0.5μm from the surface by ≥0.02.
ポリエステル系繊維を含む繊維構造物であって、該ポリエステル系繊維表面の、Ｘ線照射による電子分光法（ＥＳＣＡ）による測定で求められる原子数比Ｏ1S／Ｃ1SおよびＮ1S／Ｃ1Sの値が、繊維表面から少なくとも０．５μｍ以上の深部の値に比べて０．０２以上増加していることを特徴とするものである。 - 特許庁 - The discharger includes: a discharge wire 11 which causes discharge by applying voltage; and a casing 12 disposed to partially surround the circumference of the discharge wire 11 and having a surface layer 13 containing oxygen and potassium with an oxygen content of 15 atom% or more on a surface facing the discharge wire 11.
電圧を印加することにより放電を発生させる放電ワイヤ１１と、前記放電ワイヤ１１の周囲の一部を囲って配置され、酸素とガリウムとを含み酸素の含有量が１５原子％以上である表面層１３を前記放電ワイヤ１１と相対する面上に有する筐体１２と、を備えた放電器である。 - 特許庁 - The water wetting detection sheet is constituted by laminating at least a detection layer, which is composed of a silicon oxide film with a carbon atom content of ≥10 and <30% and wetted with water to be dissolved, and a release layer released accompanied by the dissolution of the detection layer on the resin surface of a base material at least one surface of which comprises a resin.
少なくとも一表面が樹脂からなる基材の樹脂表面の上に、炭素原子含有率が１０％以上３０％未満である酸化珪素皮膜からなり、水濡れによって溶解する検知層と、検知層の溶解に伴って剥離する剥離層が少なくとも積層されている水濡れ検知シート。 - 特許庁 - When the photocatalyst is photo-excited after the coating film of the silicone resin is formed by applying the coating composition on the base material and curing, an organic group bonded to a silicon atom in the silicone molecule on the surface of the coating film is replaced by a hydroxy group in the presence of water by the photocatalytic action to highly hydrophilize the surface of the coating film.
このコーティング組成物を基材に塗布し硬化させてシリコーン樹脂の被膜を形成した後、光触媒を光励起すると、被膜の表面のシリコーン分子のケイ素原子に結合した有機基は光触媒作用により水の存在下で水酸基に置換され、被膜の表面が高度に親水化される。 - 特許庁 - This water repellent carbon fiber is provided by bonding a triorganosilyl group (wherein, organo groups are each independently H, an alkyl or an alkoxy) with hydroxyl groups on the surface of the carbon fiber through oxygen atom, and showing a Si/C silicon concentration on the surface of the carbon fiber of ≥0.100, measured by an X-ray photoelectron spectrometry.
炭素繊維表面のヒドロキシル基に、酸素原子を介してトリオルガノシリル基(オルガノ基は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基を示す)を結合してなり、Ｘ線光電子分光法により測定される炭素繊維表面珪素濃度Ｓｉ／Ｃが０．１００以上である撥水性炭素繊維。 - 特許庁 - After metal plating, palladium plating or palladium-nickel plating large in the chemical adsorbing energy of a hydrogen atom is applied to the surface of a material, silver bromide is closely bonded to the plated surface of the material and formed silver is observed by SEM or the like to visualize a hydrogen discharge place or to measure the amount of hydrogen, which is discharged from the material, from the amount of silver.
材料の表面に、水素原子の化学吸着エネルギーの大きい金属めっき、パラジウムめっきまたはパラジウム-ニッケルめっきを施した後、その上に臭化銀を密着させ、生成する銀をSEMなどで観察して、水素放出個所を可視化したり、その量から、材料より放出される水素量を測定する。 - 特許庁 - The charging member includes: a support; a conductive elastic layer formed on the support; and a surface layer formed on the conductive elastic layer, wherein the surface layer contains at least (I) a polysiloxane having an oxyalkylene group and (II) a hetero atom-containing conductive polymer.
支持体、該支持体上に形成された導電性弾性層、および、該導電性弾性層上に形成された表面層を有する帯電部材において、該表面層が、少なくとも （Ｉ）オキシアルキレン基を有するポリシロキサンおよび （II）ヘテロ原子含有導電性ポリマーを含有することを特徴とする帯電部材。 - 特許庁 - A workpiece is disposed in a solution of an oxidizer, a catalyst made of transition metal is brought into contact with the machined surface of the workpiece, or made to come very close thereto, thereby removing or eluting chemical compound generated by chemical interaction of an active species generated on the catalyst surface and having strong oxidizing force and the surface atom of the workpiece to machine the workpiece.
酸化剤の溶液中に被加工物を配し，遷移金属からなる触媒を被加工物の被加工面に接触、もしくは極近接させ、触媒表面上で生成した強力な酸化力を持つ活性種と被加工物の表面原子との化学反応で生成した化合物を除去、あるいは溶出させることによって被加工物を加工する。 - 特許庁 - This cosmetic contains (A) a polyhydric alcohol-modified silicone component having a specific structure and (B) a surface-treated powder obtained by bonding a surface treating agent comprising a compound containing an organosilane or organosilanol having at least one of chlorine atom, an alkoxy group, an acyloxy group, amino group, cyano group and isocyanate group in the molecule to the powder surface.
次の成分（Ａ）及び（Ｂ）：（Ａ）特定構造を有する多価アルコール変性シリコーン（Ｂ）分子中に少なくとも一つ以上の、塩素原子やアルコキシ基、アシロキシ基、アミノ基、シアノ基、イソシアネート基を有するオルガノシラン又はオルガノシラノールを反応性基とした化合物を表面処理剤とし、粉体表面に結合させた表面処理粉体とを含有することを特徴とする化粧料。 - 特許庁 - The photocatalyst comprises a substrate having the titanium dioxide obtained by using titanium sulfate or titanyl sulfate as a raw material, has a specific surface area of ≥100 m^2/g, and contains an S atom the content of which is ≤0.25 wt.%.
硫酸チタンあるいは、硫酸チタニルを原料として得られる二酸化チタンを有する基体を備え、比表面積が１００ｍ^２／ｇ以上であり、Ｓ原子を含有し、Ｓ原子の含有量が０．２５重量％以下である光触媒。 - 特許庁 - Quantum dots each of which is made of the metal atom aggregate having a diameter of 7 nm or less and capable of including the metalloprotein are arranged on the surface of the substrate and only the protein component is removed by the low-temperature process such as ozone processing or the like to produce the quantum dots.
基板表面上に金属タンパク質が内包可能な直径が７ｎｍ以下の金属原子凝集体Ｍからなる量子ドットを配置し、オゾン処理等の低温プロセスにてタンパク質だけを除去して量子ドットを作成する。 - 特許庁 - After a resist film 11 is coated on the surface of a substrate 10 and a layer of atom 12 is formed on the resist film 11, atoms 12 is pulled out of the layer of the atoms 12 according to the designed pattern by the use of probe 13 of scanning tunneling microscope.
基板１０の表面にレジスト膜１１を塗布し、次いで、前記レジスト膜１１上に原子１２の層を形成した後、走査型トンネル顕微鏡の探針１３を用いて設計パターン様に前記原子１２の層から原子１２を引き抜く。 - 特許庁 - In a rubidium atom oscillator provided with an optical microwave unit having a hollow case 3 and a cavity 1 which is fixed in the case 3 through a holder 7, the cavity 1 is fixed in a state where the holder 7 is brought into line-contact with the internal surface of the case 3.
中空のケース３と、このケース３内にホルダー７を介して固定されるキャビティー１とを有する光マイクロ波ユニットを備えたルビジウム原子発振器において、ホルダー７がケース３内面に線接触した状態でキャビティー１を固定した。 - 特許庁 - The aqueous ink for inkjet contains a self-dispersing pigment in which a hydrophilic group is bonded directly or through another atom group to the surface of a pigment particle, a resin microparticle, and a compound represented by formula (1).
顔料粒子の表面に直接又は他の原子団を介して親水性基が結合している自己分散顔料、樹脂微粒子、及び下記一般式（１）で表される化合物を含有することを特徴とするインクジェット用水性インク。 - 特許庁 - A hole region 11 of group V atom that contacts the n-type electrode 12 and where ratio (group III atomic number/group V atomic number) is larger than 1 is provided in a semiconductor device having the GaN-based semiconductor where the electrode 12 is provided on the surface containing nitrogen atoms.
窒素原子を含む面上にｎ型電極１２を備えたＧａＮ系半導体を有する半導体素子において、ｎ型電極１２と接し、（III族原子数）／（V族原子数）が１よりも大きいＶ族原子の空孔領域１１を設ける。 - 特許庁 - A treating agent which comprises hydrophobic parts containing fluorine atom, hydrophilic parts containing polyoxyethylene group and coupling parts reacting with base material is applied on the oxide surface of the base material and, thereby, a substrate treatment layer of which the contact angle to water is 50-90° is disposed.
基材の酸化物表面にフッ素原子を含む疎水部と、ポリオキシエチレン基を含む親水部と、基材と反応するカップリング部とを有する処理剤をコーティングして水に対する接触角が５０〜９０°である下地処理層を設ける。 - 特許庁 - To provide a lithium-sulfur battery including a cathode, a lithium metal anode, and a separator containing less than two fluorine atoms per carbon unit atom between the cathode and the anode for forming a protective coat on a surface of the lithium metal anode.
本発明はカソード、リチウム金属アノード、及びリチウム金属アノードの表面に保護膜を形成するために、前記カソードとアノード間に炭素単位原子当り２個未満のフッ素原子を含有するセパレータを含む、リチウム硫黄電池を提供する。 - 特許庁 - This support-having adhesive film for electronic materials, comprising the support and the adhesive film laminated to the support, is characterized in that a mold release agent on the adhesive film-contacting surface of the support is a silicon atom-free non-silicone based mold release agent.
支持体と接着フィルムが積層された支持体つきの電子材料用接着フィルムであって、前記支持体の接着フィルムとの接触面における離形剤が、珪素原子を含まない非シリコーン系である電子材料用接着フィルム。 - 特許庁 - The reflector layer has at least one among an electrical conductivity exceeding about 5.0×10 (Ω.cm) an RMS surface roughness below about 1.0 nm in measurement by an atom force microscope and a refractive index below about 0.5 at a read-out wavelength.
反射体層は、約５．０×１０^4（Ω・ｃｍ）^-^1を超える導電率、原子間力顕微鏡による測定で約１．０ｎｍ未満のＲＭＳ表面粗さ、および読出波長において約０．５未満の屈折率のうちの少なくとも１つを有する。 - 特許庁 - The method for producing an antimicrobial nonwoven fabric includes polymerizing a vinyl monomer having a quaternary ammonium salt structure (A) on the surface of a nonwoven fabric by an atom transfer radical polymerization method so as to form the polymer segment (B).
また、４級アンモニウム塩構造（Ａ）を有するビニルモノマーを、不織布表面上にて原子移動ラジカル重合法によって重合させることによって重合体セグメント（Ｂ）を形成することを特徴とする抗菌性不織布の製造方法。 - 特許庁 - The surface of an n-type Si wafer 10 is made hydrophobic by hydrofluoric acid and immersed in a Cu ion aqueous solution having a work function greater than that of the semiconductor, and a Schottky barrier is formed from an Si-Cu contact of one atom level, thereby manufacturing a semiconductor device.
ｎ型Siウエーハ１０の表面をフッ化水素酸で疎水性とし、該半導体より大きな仕事関数を有するCuイオン水溶液に浸漬し、１原子レベルのSi—Cuコンタクトで形成されるショットキー障壁を形成して半導体素子を製造する。 - 特許庁 - This rubber composition comprises a rubber and carbon black, wherein the rubber has a chemical structure or a functional group of ≥0.04 eV adsorption energy to a hydroxyl group or a hydrogen atom on a graphite terminal of the carbon black surface.
ゴムおよびカーボンブラックからなるゴム組成物であって、該ゴムが、該カーボンブラック表面のグラファイト端の水酸基または水素原子との吸着エネルギーが０．０４ｅＶ以上である化学構造または官能基を分子内に有するゴムであるゴム組成物。 - 特許庁 - The fine particles are treated with a gas containing oxygen atoms in the presence of a nitrogen atom-containing cyclic compound containing an imide-bond skeleton as a constitution element of the ring to introduce a polar group to the polymer chain on the surface of the fine particles.
この微粒子を、イミド結合で表される骨格を環の構成要素として含む窒素原子含有環状化合物の存在下、酸素原子含有ガスで処理することにより、微粒子表面の高分子鎖に極性基を導入する。 - 特許庁 - In the performance evaluation method of the electrode catalyst for the fuel battery with catalyst metal carried by a conductive carrier, oxygen atom absorption energy on the surface of the catalyst metal found from molecular simulation analysis is to be an index for the performance evaluation.
導電性担体に触媒金属が担持された燃料電池用電極触媒の性能評価方法において、分子シミュレーション解析から得られる触媒金属表面における酸素原子吸着エネルギーを該性能評価の指標とする。 - 特許庁 - According to the procedure, the silicon carbide semiconductor device having an ohmic electrode providing a satisfactory contact with interconnections with a deposition of carbon atom on the surface layer of electrodes and the formation of the Schottky contact by the Si and the SiC suppressed can be acquired.
以上により、電極の表面層への炭素原子の析出や、ＳｉとＳｉＣとによるショットキー接触の形成が抑制された、配線との良好な密着性を示すオーミック電極を有する炭化珪素半導体装置を得ることができる。 - 特許庁 - The silicon member used for manufacturing a semiconductor is characterized by that the silicon member consists of a silicon-formed body of resistivity 0.1 Ω.cm or less and a concentration of metal impurity within a region of a surface layer of 50 nm is 1×10^11 atom/cm^2 or less.
半導体製造用シリコン部材の発明は、抵抗率０．１Ω・ｃｍ以下のシリコン成形体から成り、かつ表層５０ｎｍ領域内の金属不純物濃度が１×１０^１１原子／ｃｍ^２以下であることを特徴とする。 - 特許庁 - The plurality of metal plate members formed of materials lower than 15 at% in an oxygen atom concentration at a point down from its surface to the depth of 3 nm are used and diffusion bonding is performed to bond the metal plate members to each other only at predetermined points, thereby increasing the durability in use.
表面より３nmの深さの酸素原子濃度が１５at％未満の素材からなる複数枚の金属板部材を用いて金属板部材同士が所定箇所でのみ接合されるよう、拡散接合を施し、使用時の耐久性を高めた。 - 特許庁 - The laminate has a substrate and the fullerene layer containing the fullerenes formed on the surface of the substrate, and spherical shell structures of the fullerenes are crosslinked through at least one atom, or the spherical shell structures of the fullerlenes are chemically bonded to the substrate through at least one atom.
本発明は、基材と、基材表面に形成されたフラーレン類を含有するフラーレン層とを有する積層体であって、上記フラーレン類の球殻構造同士が少なくとも１つの原子を介して架橋、または上記フラーレン類の球殻構造が少なくとも１つの原子を介して基材と化学結合していることを特徴とする積層体を提供することにより上記目的を達成するものである。 - 特許庁 - Both the concentration of arsenic at a maximum concentration portion and that of phosphorus at a maximum concentration portion are at least 1026 atom/m^3 and up to 1027 atom/m^3, and the depth of the maximum concentration portion of phosphorus from the surface of the silicon substrate is up to that of the maximum concentration portion of arsenic.
シリコン基板と、前記シリコン基板の一主面側に形成されたゲート絶縁膜と、前記ゲート絶縁膜に積層して形成されたゲート電極と、ひ素およびリンを含有する拡散層とを備え、ひ素の最高濃度部の濃度とリンの最高濃度部の濃度がともに1026原子/m3以上1027原子/m3以下であり、なおかつリンの最高濃度部の前記シリコン基板表面からの深さがひ素の最高濃度部の深さ以下であるようにする。 - 特許庁 - The method is characterized in that it includes processes of: forming a film to be etched having a layer containing a nitrogen atom as a structural atom as at least the uppermost layer on a substrate; subjecting the film to be etched to a thermal oxidation process to form an oxidized layer on the surface; forming a chemical amplification resist film on the film to be etched; and selectively exposing and developing the chemical amplification resist film.
少なくとも最上層に窒素原子を構成原子とする膜を有する被エッチング膜を基板上に形成する工程と、前記被エッチング膜を熱酸化処理を施してその表面に酸化層を形成する工程と、前記被エッチング膜上に化学増幅レジスト膜を形成する工程、前記化学増幅レジスト膜を選択的に露光し、現像する工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁 - The rubber-steel cord composite includes a rubber composition that comprises a rubber component, sulfur and a sulfenamide-based vulcanization accelerator having a specific structure, to which steel cords that have a brass-plated layer on the peripheral surface in which the content of phosphorus contained as oxide in a wire surface layer region from the surface of the brass plating layer to depth of 5 nm inward in a wire radial direction is ≤1.5 atom% are adjacent.
ゴム成分と、硫黄と、特定構造のスルフェンアミド系加硫促進剤とを含有するゴム組成物に、周面にブラスめっき層を有し、該ブラスめっき層の表面からワイヤ半径方向内方に深さ５ｎｍまでのワイヤ表層領域における酸化物として含まれるリンの含有量が１．５原子％以下であるスチールコードが隣接していることを特徴とするゴム−スチールコード複合体。 - 特許庁 - Nanoparticles or nanodots by a transition metal atom are formed on a substrate 1 as a growth catalyst 3, and VO_2 nanowire is grown up slender and long along the [110] direction on the surface of the substrate heated under reduced pressure by a gas phase-liquid phase-solid phase (VLS) growth method.
遷移金属原子によるナノ粒子又はナノドットを成長触媒３として基板１に形成し、減圧下で加熱された基板面に、気相−液相−固相（ＶＬＳ）成長法によって、ＶＯ_2ナノワイヤを［１１０］方向に沿って細長く成長させる。 - 特許庁 - In the plated steel sheet for manufacturing a pipe including corrosion resistance against fuel vapor, a surface of the steel sheet includes a plated layer containing Zn, Co, and Mo, and a composition ratio of Co to Zn in the plated layer should be 0.2 to 4.0 at% (atom concentration).
鋼板の表面にZn、Co及びMoを含有するめっき層を有しており、前記めっき層中におけるZnに対するCoの組成割合が、0.2〜4.0at％（原子濃度）とすることを特徴とする、燃料蒸気に対する耐食性を有するパイプ製造用めっき鋼板。 - 特許庁 - Non-graphite carbon material such as amorphous carbon and TiO2 and the like are mixed, the mixture is baked at 2800°C in the nitrogen atmosphere, an titanium atom is chemically bonded to the surface functional group of the carbon material, Ti coating is then applied to it and the carbon material is graphitized.
アモルファスカーボンのような非黒鉛炭素材料とＴｉＯ_2等を混合し、これを窒素雰囲気中で２８００℃で焼成し、炭素材料の表面官能基にチタン原子を化学結合させ、ＴｉＣコーティングするとともに、炭素材料を黒鉛化する。 - 特許庁 - Color-developed matter developing a color by the direct reaction of the electron-donating coloring compound to the surface of activated silica is brought into contact with an achromatizing material containing a silicon atom bound with an alkoxy group, to thereby achromatize the color-developed matter.
活性シリカの表面に電子供与性の呈色性化合物を直接反応させることで発色させた発色体に対して、アルコキシ基が結合したシリコン原子を含む消色材料を接触させて、前記発色体を消色することを特徴とする。 - 特許庁 - The method for the producing the graphite nanofiber comprises forming an Al layer 2 on the surface of a substrate 1, then forming a catalyst layer 3 on the Al layer 2, and vapor-growing the graphite nanofiber 4 on the catalyst layer 3 at a low temperature under below the atmospheric pressure by supplying a mixed gas of a carbon atom-containing gas and hydrogen gas.
基板１の表面にＡｌ層２を形成し、このＡｌ層上に触媒層３を形成し、この触媒層上に炭素原子含有ガスと水素ガスとの混合ガスを供給して、低温で大気圧以下で気相成長せしめる。 - 特許庁 - To provide a wafer-working method/apparatus for efficiently working a wafer, by measuring a surface shape by an inter-atom force microscope, without having to clean the wafer polished by CMP and cleaning the wafer.
本発明は、ＣＭＰで研磨されたウェーハを、洗浄することなく原子間力顕微鏡で表面形状を測定し、この後にウェーハを洗浄することにより、効率よくウェーハを加工することができるウェーハ加工方法及びその装置を提供することを目的とする。 - 特許庁 - The displacement of a crystal atom is determined by analyzing an intensity profile of X-ray CTR scattering appearing on both sides in the vertical direction on the surface of an X-ray diffraction peak, and the stress generated in the hetero interface between the crystal and the different kind of material is evaluated from the result.
Ｘ線回折ピークの表面垂直方向両側に出現するＸ線ＣＴＲ散乱の強度プロファイルを解析して結晶原子の変位量を求め、その結果から結晶と異種物質とのヘテロ界面の生じる応力を評価する。 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
