「surface oxidation」を含む例文一覧(1670)
＜前へ 1 2 .... 24 25 26 27 28 29 30 31 32 33 34 次へ＞- The hydroxyapatite film is firmly fixed on the surface of the metal substrate by applying a decomposition product of the hydroxyapatite to form an extremely thin film in a short period of time under high vacuum as a pre-processing coating in the initial stage of the coating to prevent the oxidation of the surface of the metal substrate and then passing steam or a steam mixed gas and applying hydroxyapatite under such atmosphere.
ハイドロキシアパタイトを基体金属表面に必要とされる最低限の薄膜にコーティングするため、レーザーアブレーション法にてコーティングを行なうこととし、コーティングの初期において高真空中でハイドロキシアパタイトの分解生成物を短時間、極く薄く前処理コーティングして該基体金属表面の酸化を防止し、その後水蒸気または水蒸気混合ガスを流入し、この雰囲気中でハイドロキシアパタイトのコーティングを行なうことにより、ハイドロキシアパタイト膜を強固に固着させることが出来る。 - 特許庁 - The manufacturing method of the electrochemical electrode comprises processes of: manufacturing the transition metal oxide nano-crystal; promoting oxidation on the surface of the manufactured transition metal oxide nano-crystal, and covering at least one part of the surface with oxide film different in valence number; and forming an active layer by depositing the transition metal oxide nano-crystal on the conductive base material in almost vertical direction.
また、本発明の電気化学電極の製造方法は、遷移金属酸化物ナノ結晶を作製する工程と、作製された遷移金属酸化物ナノ結晶の表面で酸化を促進し、表面の少なくとも一部を価数の異なる酸化膜で被覆する工程と、遷移金属酸化物ナノ結晶を導電性基材の上に略垂直方向に配列して堆積させることにより活性層を形成する工程と、を有する電気化学電極の製造方法とする。 - 特許庁 - To provide nickel powder whose surface is coated with metallic oxide and having characteristics suitable for use as the internal electrode material of a mutilayer ceramic capacitor, particularly excellent in the oxidation preventability and diffusion preventability of metallic nickel at the time of debindering and suitable for producing a thin, compact multilayer ceramic capacitor of a ceramic dielectric substance and an internal electrode.
積層セラミックコンデンサの内部電極材料として用いるのに適した特性を有しており、特に脱バインダー時の金属ニッケルの酸化防止性及び拡散防止性に優れていて、セラミック誘電体及び内部電極の厚みの薄い小型多層の積層セラミックコンデンサを製造するのに適している、金属酸化物で表面被覆されたニッケル粉を提供すること。 - 特許庁 - The carbon black pigment for the black matrix is made by ester bonding of a hydroxy group on the surface of the carbon black particles formed by wet oxidation treatment of carbon black of nitrogen adsorption specific area (N_2SA) of 50m^2/g or more and DBP absorption of 140cm^3/100g or less, with an organic compound having carboxy and vinyl groups or carboxy and isopropenyl groups.
窒素吸着比表面積（Ｎ_２ＳＡ）が５０ｍ^２／ｇ以上、ＤＢＰ吸収量が１４０ｃｍ^３／１００ｇ以下のカーボンブラックを湿式酸化処理して生成したカーボンブラック粒子表面のヒドロキシル基に、カルボキシル基およびビニル基、あるいは、カルボキシル基およびイソプロペニル基を持つ有機化合物をエステル結合させてなるブラックマトリックス用カーボンブラック顔料。 - 特許庁 - Though these metals 4 are plated for preventing oxidation, the arithmetic mean surface roughness of the board 2 is adjusted to 0.5-1.5 μm and the content of an alkaline earth element in the board 2 is adjusted to ≤25 mass% in terms of its oxide so as to suppress erosion of the board 2 by a plating liquid when the metals 4 are plated.
このような金属体４は、酸化防止のためにメッキ処理が施されるが、該メッキ処理時に、誘電体基板２がメッキ処理液にて侵食されることを抑制するために、誘電体基板２の表面における算術平均粗さ（Ｒａ）を０．５〜１．５μｍとし、かつ、誘電体基板２に含有されるアルカリ土類元素の酸化物換算での含有量を２５質量％以下とする。 - 特許庁 - To provide an electrode for electrochemical measurement and an electrochemical analyzer using it, not electrochemically-reversible like phenols, nor in danger of any oxide deposition on the electrode surface when detecting electrical changes due to electrochemical reaction of a substance with high oxidation potential, additionally keeping long-term detection with high sensitivity.
フェノール類のような電気化学的に可逆ではなく、かつ酸化電位の高い物質の電気化学反応による電気的変化を検出する際に、電極表面に酸化反応の生成物が堆積するおそれが無く、しかも高い感度を維持したまま長時間の検出が可能な電気化学測定用電極及びそれを用いた電気化学分析装置を提供する。 - 特許庁 - The conductive member of the solid oxide fuel cell, having excellent electrical conductivity and improved oxidation resistance at high temperature is made of ferritic stainless steel, in which an oxide layer is generated on a surface layer, and an oxide layer having a thickness of 0.1-10 μm with Nb oxide, Ti oxide and Al oxide being mixed therein is present between a Cr oxide layer and a base material.
表層に酸化物層が生成しており、Ｃｒ酸化物層と母材との間に、Ｎｂ酸化物，Ｔｉ酸化物およびＡｌ酸化物が混在する厚さ０.１〜１０μｍの酸化物層が存在しているフェライト系ステンレス鋼であることを特徴とする、高温の電気伝導性と耐酸化性に優れた固体酸化物形燃料電池の導電部材。 - 特許庁 - To provide a thin-walled bottomed metal cylindrical member which can prevent oxidation and rusting on an inner circumferential surface of the member, can prevent generation of cracking and fissuring in the wall-thickness direction of the member and can prevent leakage of cooling water passing through a cooling hole, and a manufacturing method therefor.
薄肉有底円筒金属部材の内周面が酸化し、薄肉有底円筒金属部材の内周面に錆が発生してしまうことを防止することができ、薄肉有底円筒金属部材の肉厚方向に亀裂や割れが発生して、冷却穴を通過する冷却水が外に漏れ出すことを防止することができる薄肉有底円筒金属部材およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁 - In a production method for the metallic honeycomb structure excellent in the oxidation resistance which forms the honeycomb structure by laminating or winding up a heat-resistant alloy-made flat foil and wavy foil or both wavy foils, after sticking metallic Al powder on the surface of this honeycomb structural body, the heating treatment is performed at a temperature not lower than the temperature at which Al is diffused into the heat resistant alloy foil.
耐熱合金製の平箔と波箔あるいは波箔同士を積層または巻きまわしてハニカム構造を形成した金属製ハニカム構造体であって、該ハニカム構造体表面に金属Ａｌ粉末を付着させた後に耐熱合金箔中にＡｌが拡散する温度以上に加熱処理してなる耐酸化性に優れた金属製ハニカム構造体及びその製造方法である。 - 特許庁 - The heat developable photosensitive material includes an image forming layer containing at least a photosensitive silver halide, a non-photosensitive organic silver salt, a reducing agent and a binder on the same surface of a support, wherein the non-photosensitive organic silver salt is a non-photosensitive organic silver salt oxidation-treated under conditions where a photosensitive silver halide is not present.
支持体の同一面上に少なくとも感光性ハロゲン化銀、非感光性有機銀塩、還元剤及びバインダーを含有する画像形成層を有してなる熱現像感光材料であって、該非感光性有機銀塩が該感光性ハロゲン化銀の存在しない条件下で酸化処理された非感光性有機銀塩であることを特徴とする熱現像感光材料。 - 特許庁 - The catalyst for purifying NOx is formed by carrying plural pieces of fine metallic particles having catalytic activity directly on the surface of an electrical conductive material to be in contact with each other to electrically connect the particles to each other, and performs the reduction reaction of NOx in the electrical conductive metallic particles and the oxidation reaction of a reducing agent electrochemically by moving ions via the electrical conductive material.
触媒活性を有する複数個の微細金属粒子が電気伝導性物質表面に直接接触担持されて粒子間が電気的に接続されてなり、前記電気伝導性物質を介してイオンが移動することにより、前記微細金属粒子におけるＮＯ_xの還元反応と還元剤の酸化反応とを電気化学的に行なうことを特徴とするＮＯ_x浄化用触媒。 - 特許庁 - The method for producing the same is characterized by refluxing the oxidation-treated carbon black and an oxirane compound in a reaction solvent in the presence of a catalyst to perform the ring-opening reaction of the oxirane ring for hydroxy-esterifying and chemically modifying the carboxyl groups on the surface of the carbon black, and then dispersing the carbon black as a main component into the alcoholic medium having the alcoholic hydroxy groups.
その製造方法は酸化処理したカーボンブラックとオキシラン系化合物を反応溶媒中で、触媒の存在下に還流してオキシラン環を開環反応させることにより、カーボンブラック表面のカルボキシル基をヒドロキシエステル化して化学修飾し、該カーボンブラックを、主成分としてアルコール性水酸基を有するアルコール性媒体中に分散することを特徴とする。 - 特許庁 - The laminated film is produced by bonding a polyolefin film which comprises a resin composition composed of 98-99.999 wt.% of an olefinic polymer and 0.001-2 wt.% of a hindered amine light stabilizer and has an oxidation-treated bonding surface with at least one base material via a polyurethane-based adhesive or an isocyanate-based adhesive and is used.
オレフィン系重合体９８〜９９．９９９重量％、ヒンダードアミン光安定剤０．００１〜２重量％から構成される樹脂組成物からなり、かつ接着面が酸化処理されているポリオレフィンフィルムをポリウレタン系接着剤及び／又はイソシアネート系接着剤を介して、少なくとも１層以上の基材と貼り合わせたことを特徴とするラミネートフィルムを製造し、用いる。 - 特許庁 - The disclosed semiconductor device manufacturing method comprises implanting fluorine ions into a region 5B for forming a medium- thickness gate oxide film 12 under the condition of a fluorine range Rp of 15-150 nm in a substrate 1, removing a chemical oxide film 7 on the surface of the region 5B, and applying the oxidation to form the medium-thickness gate oxide film 12 on the region 5B.
開示される半導体装置の製造方法は、フッ素イオン注入を中膜厚のゲート酸化膜１２を形成すべき領域５Ｂに、フッ素の飛程Ｒｐが基板１中で１５〜１５０ｎｍとなるようなイオン注入条件で行った後、領域５Ｂの表面のケミカル酸化膜７を除去し、次に酸化処理により領域５Ｂに中膜厚のゲート酸化膜１２を形成する。 - 特許庁 - In the photoelectric convertor composed of a metal oxide semiconductor electrode, a pigment adsorbed on the surface, an electrolyte having an oxidation-reduction pair and a counter electrode, the titanium oxide semiconductor electrode having the porous titanium oxide thin film formed on the conductive substrate is provided as the metal oxide semiconductor electrode in a structural element.
金属酸化物半導体電極とその表面に吸着した色素と酸化還元対を有する電解質と対向電極とからなる光電変換素子において、金属酸化物半導体電極として、上記多孔質酸化チタン薄膜が導電性基体上に形成されている酸化チタン半導体電極を構成要素に持つことを特徴とする光電変換素子。 - 特許庁 - The method for producing a catalyst for the oxidation reaction is characterized in that the catalyst containing a palladium cluster having together with a zerovalent palladium, a monovalent palladium and a divalent palladium on the cluster surface is obtained by adding cobalt nitrate and/or manganese nitrate to a solution containing a palladium carbonyl acetate complex and/or a palladium carbonyl acetate phenanthroline complex under oxidative atmosphere.
酸化的雰囲気下において、パラジウムカルボニルアセテート錯体及び／又はパラジウムカルボニルアセテートフェナントロリン錯体を含む溶液に、硝酸コバルト及び／又は硝酸マンガンを添加して、クラスター表面において酸化状態が０価、１価及び２価のパラジウムが共存するパラジウムクラスターを含有する酸化反応用触媒を得ることを特徴とする酸化反応用触媒の製造方法。 - 特許庁 - On an upper part of the coolant liquid tank, a concentration of hydrogen generated from a water surface is measured and an acidic agent is added to the coolant liquid according to the hydrogen concentration value to suppress oxidation of the silicon cutting powder.
クーラント水中のシリコン切削粉の酸化抑制方法において、クーラント水をかけながらシリコン凝固塊を切削し、生じたシリコン切削粉を含むクーラント水をクーラント水槽に移送し、当該クーラント水槽の上部にて、水面から発生する水素の濃度を測定し、当該水素濃度値に応じて前記クーラント水に酸性剤を添加して、前記シリコン切削粉の酸化を抑制する。 - 特許庁 - A vacuum pump 14 controls a supply flow rate of a gas containing ozone, based on an ozone concentration or ozone partial pressure of the gas after supplied to the substrate, measured by an ozone densitometer 13, when forming the oxide film on a surface of the substrate by supplying the gas containing the ozone from an ozone supply device 11 to the substrate in an oxidation treatment chamber 12.
オゾン供給装置１１からオゾンを含んだガスを酸化処理チャンバ１２内の基板に供給して前記基板の表面に酸化膜を形成させるにあたり真空ポンプ１４はオゾン濃度計１３によって測定された前記基板に供された後のガスのオゾン濃度またはオゾン分圧に基づき前記オゾンを含んだガスの供給流量を制御する。 - 特許庁 - To provide a hydrogen catalyst member for dehydrogenation having high design flexibility and being adaptable to high temperature, which takes out hydrogen with a medium that chemically repeats hydrogen storage-supply by means of a catalyst carrier supporting a metal catalyst on a surface converted to a porous oxide film by anodic oxidation, the hydrogen catalyst member, and to provide a lightweight, small, inexpensive hydrogen generator having high heat exchange efficiency.
表面を陽極酸化により多孔質酸化膜にし、それに金属触媒を担持した触媒担体により、化学的に水素貯蔵・供給を繰り返す媒体を用いて、水素を取り出す脱水素の水素触媒部材において、設計自由度が高く、高温対応可能な水素触媒部材及び熱交換効率が高く、軽量、小型、安価な水素発生装置を提供する。 - 特許庁 - In the manufacturing method of a positive electrode active substance that contains a conductive polymer having a π electron conjugate system structure and a manganese oxide, the manganese oxide is a complex oxide made of mainly lithium, manganese and oxygen, and the polymeric compound is chemically oxidation-polymerized and the conductive polymer is coated on the surface of the complex oxide.
π電子共役系構造を有する導電性高分子とマンガン酸化物を含む正極活物質の製造方法において、マンガン酸化物がリチウム、マンガン及び酸素を主体とする複合酸化物であり、重合性化合物を化学的酸化重合して該複合酸化物表面に導電性高分子を被覆することを特徴とする正極活物質の製造方法により解決する。 - 特許庁 - By coating the heating surface with an oxidation catalyst comprising a catalyst component and a catalyst support component, wherein the amount of the catalyst component has a distribution in the direction of the flow of a feedstock gas to establish the uniformity of the amount of reaction along the flow of the gas and uniform heat supply, the thermal efficiency of the heat exchanger can be increased, and the apparatus is freed from troubles such as damage.
原料ガス流れ方向に対して触媒成分量に分布を持たせて、該触媒成分および触媒担体成分からなる酸化触媒を伝熱面に塗布することで、ガス流れ方向に沿った反応量を均一化し、均一な熱供給を可能にするため、熱交換器の熱効率が上昇し、装置の破損等の問題も解消した。 - 特許庁 - The black and white heat developable photosensitive material contains at least a photosensitive silver halide, a non-photosensitive organic silver salt, a color developing agent and a coupler which reacts with the oxidation product of the color developing agent to form a dye on at least one surface of a support, wherein the non-photosensitive organic silver salt has an average particle size of ≤0.38 μm.
支持体上の少なくとも一方の面上に、少なくとも感光性ハロゲン化銀、非感光性有機銀塩、発色現像薬、および前記発色現像薬の酸化生成物と反応して色素を形成するカプラーを含有する黒白熱現像感光材料であって、 前記非感光性有機銀塩の平均粒子サイズが０．３８μｍ以下であることを特徴とする。 - 特許庁 - To provide an electrophotographic photoreceptor that is superior in mechanical durability and oxidation resistance of the surface thereof, capable of suppressing occurrence of image defects attributed to adhesion of discharge products without using a drum heater or the like, that is superior also in sensitivity and capable of easily maintaining these properties at the high level over time, and to provide a process cartridge and an image forming apparatus that uses the electrophotographic photoreceptor.
表面の機械的耐久性や耐酸化性に優れ、ドラムヒータなどを使用しなくとも放電生成物の付着に起因する画像欠陥も抑制できると共に、感度にも優れ、さらに、これらの特性を経時的に高いレベルで維持することが容易な電子写真用感光体及びこれを用いたプロセスカートリッジ、並びに画像形成装置を提供することである。 - 特許庁 - In the electrolytic oxidation treatment method, a metallic material composed of a metal capable of forming an oxide film by anodization method is subjected to repetition treatment of anode-cathode alternating electrolysis in an electrolytic solution comprising the hydroxide of alkali metal in fixed time continuation, respectively, thus an electrolytic oxide film having electrical conductivity and corrosion resistance is formed on the surface of the metallic material.
陽極酸化法により酸化膜を形成できる金属からなる金属材に対して、アルカリ金属の水酸化物を含有する電解液中で、それぞれ一定の時間的継続を以て陽陰交番電解を反復処理することにより、前記金属材の表面に導電性と耐食性を有する電解酸化皮膜を形成させる電解酸化処理方法。 - 特許庁 - To provide an electrophotographic photoreceptor excellent in surface mechanical durability and oxidation resistance, suppressing an image defect caused by deposition of a discharge product, while having excellent sensitivity, having low friction against sliding and high water repellency, and easily maintaining the characteristics at a high level with time, and to provide a process cartridge and an image forming apparatus using the photoreceptor.
表面の機械的耐久性や耐酸化性に優れ、放電生成物の付着に起因する画像欠陥も抑制できると共に感度にも優れ、摺動に対する低摩擦や高撥水性、さらにこれらの特性を経時的に高いレベルで維持することが容易な電子写真用感光体、並びに、これを用いたプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供することである。 - 特許庁 - When MOS structure is formed on (0001) face of hexagonal silicon carbide single crystal, after the crystal surface is oxidized under a given temperature in an oxygen atmosphere, the oxygen atmosphere of oxidation temperature, 1150±50°C which is obtained in a state of low ratio of oxygen to hydrogen being 0.1 to 1 by hydrogen injection anneals a single crystal formed by oxide film.
六方晶炭化ケイ素単結晶の（０００１）面にＭＯＳ構造を作製する際に、酸素雰囲気中において所定の温度で結晶表面を酸化した後、水素を注入して酸素と水素の流量比が（０．１対１）の状態で得られる酸化温度１１５０±５０℃の酸化雰囲気を用いて、酸化膜が形成された単結晶を焼鈍する方法。 - 特許庁 - To provide the manufacture of a semiconductor device, which can cope with micronization by enabling a thin oxide film to be formed on the surface of a silicon substrate by the same thermal oxidation process before ion implantation process for formation of source and drain diffused layers, and enabling an oxide film of sufficient thickness to secure reliability to be formed at the sidewall of a gate electrode, and the end of a gate.
ソース、ドレイン拡散層形成のためのイオン注入工程前に、同一の熱酸化工程によりシリコン基板表面に薄膜の酸化膜を形成できると共に、ゲート電極側壁及びゲートエッジ端に信頼性を確保するのに十分な膜厚の酸化膜を形成できることより、微細化に対応可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - The heat developable photosensitive material includes an image forming layer containing at least a photosensitive silver halide, a non-photosensitive organic silver salt, a reducing agent and a binder on one and the same surface of a support, wherein (1) the heat developable photosensitive material contains a development accelerator and (2) the non-photosensitive organic silver salt is subjected to oxidation treatment.
支持体の同一面上に少なくとも感光性ハロゲン化銀、非感光性有機銀塩、還元剤及びバインダーを含有する画像形成層を有してなる熱現像感光材料であって、１）熱現像感光材料が現像促進剤を含有し、かつ、２）該非感光性有機銀塩が酸化処理されていることを特徴とする熱現像感光材料および画像形成方法。 - 特許庁 - The gas detecting cell 1 includes a catalytic chemical light emitting element 3 which emits light by the catalytic oxidation reaction of the combustible gas contained in an inspection target gas, a flow channel 4 which is formed in parallel to the surface of the catalyst layer 3a belonging to the catalytic chemical light emitting element 3 and from which the catalyst layer 3a is exposed, and a heater 3b for heating the catalyst layer 3a.
本発明に係るガス検出用セル１は、検査対象ガスに含まれる可燃性ガスの触媒酸化反応によって発光する触媒化学発光素子３と、この触媒化学発光素子３が有する触媒層３ａの表面と平行に形成され且つ上記触媒層３ａが露出している流路４と、上記触媒層３ａを加熱するヒータ３ｂとを備える。 - 特許庁 - The control means 121 supplies the Si-based gas to the wafer 200 in the treatment chamber 201 to cause the wafer to absorb a first material, and supplies the oxidized gas to generate an O radical and an OH radical so that the radicals may perform an oxidation reaction on the surface of the wafer having absorbed the first material, thereby forming an oxidized film on the wafer 200.
制御手段１２１により、処理室２０１内のウェハ２００に対してＳｉ系ガスを供給して第１の原料をウェハ上に吸着させ、酸化性ガスを供給してＯラジカルとＯＨラジカルを発生させ、これらのラジカルにより、第１の原料が吸着したウェハ表面で酸化反応を行わせ、ウェハ２００上に酸化膜を形成するようにする。 - 特許庁 - A method for promoting infiltration of cosmetic constituents into the skin by supplying heated steam after application of a cosmetic to the skin uses, as a source of steam, a steam generator containing metallic powders, salts and water and having built therein a steam generating composition emitting steam as the oxidation of the metallic powders proceeds, so that the steam generator emits steam of 50°C or less from its surface.
化粧料を皮膚に適用後、温熱水蒸気を供給し、化粧料成分の皮膚への浸透を促進させる方法において、水蒸気発生源として、金属粉、塩類及び水を含有し、金属粉の酸化に伴って水蒸気を放出する水蒸気発生組成物を内蔵し、表面から５０℃以下の水蒸気を放出する水蒸気発生体を使用する。 - 特許庁 - The iron oxide particles are produced by adding/mixing a ferrous salt aqueous solution containing a water-soluble phosphorous compound and an alkali aqueous solution to a slurry of iron oxide core particles in a state that calcium ions are present, and then subjecting the resulting mixture to wet oxidation while adjusting the pH value to 8-13 so that the multiple iron oxide layer containing calcium and phosphorus is formed on the surface of each core particle.
酸化鉄粒子は、カルシウムイオンが存在している状態の酸化鉄コア粒子のスラリーに、水溶性リン化合物を含有する第一鉄塩水溶液及びアルカリ水溶液を添加混合し、ｐＨを８〜１３に調整しながら湿式酸化を行いコア粒子表面にカルシウム及びリンを含む複合酸化鉄層を形成することで製造される。 - 特許庁 - In such a way, the inert gas is jetted toward the area overlapped with the cover portion 21 in a plane view, but not jetted from the jet ports 214 not overlapped with the substrate 9 on the upper surface 91 of the substrate 9, thereby reducing the amount of used inert gas for inhibiting the oxidation of a fluid material applied onto the substrate 9, water adsorption and the like.
このように、基板９の上面９１において、カバー部２１と平面視にて重なっている領域に向けて不活性ガスが噴出され、基板９とは重なっていない噴出口２１４からは不活性ガスが噴出されないため、基板９上に塗布された流動性材料の酸化や水分の吸着等を抑制するための不活性ガスの使用量を低減することができる。 - 特許庁 - A VCSEL (vertical cavity surface emitting semiconductor laser) 10 containing a mesa of a selective oxidation type has; a substrate 100; a first mesa 20 which is formed on the substrate 100, and contains at least one mesa that emits laser beams; and has a second mesa 30 which is formed on the substrate 100, and contains at least one mesa that suppresses the emission of the laser beams.
本発明に係る選択酸化型のメサを含むＶＣＳＥＬ（面発光型半導体レーザ）１０は、基板１００と、前記基板１００上に形成され、レーザ光を出射する少なくとも１つのメサを含む第１のメサ２０と、前記基板１００上に形成され、レーザ光の出射を抑制する少なくとも１つのメサを含む第２のメサ３０とを有する。 - 特許庁 - The impurity diffusion method comprises an oxidation step of forming an oxide film on a surface of a semiconductor of a substrate; a diffusion step of setting a gas partial pressure of a compound gas containing an impurity element to 0.1 torr to 800 torr, setting a temperature of the substrate to 750°C to 950°C, and diffusing the impurity element to the semiconductor through the oxide film.
基板の半導体の表面に酸化膜を形成する酸化工程と、不純物元素を含む化合物ガスのガス分圧を０．１トール以上８００トール以下とし、前記基板の温度を７５０℃以上９５０℃以下として、前記酸化膜を介して前記半導体に前記不純物元素を拡散させる拡散工程と、を備えたことを特徴とする不純物拡散方法を提供する。 - 特許庁 - In the method for producing a product composed of magnesium or a magnesium alloy, an anodized film or a conversion-treated film is formed on the surface of a base material composed of magnesium or a magnesium alloy, the same is then dipped into a galvanizing bath, and oxidation-reduction reaction is progressed between the anodized film or conversion-treated film and zinc ions, thus a galvanized film is formed.
マグネシウム又はマグネシウム合金からなる基材の表面に陽極酸化皮膜又は化成処理皮膜を形成してから亜鉛めっき浴に浸漬し、前記陽極酸化皮膜又は化成処理皮膜と亜鉛イオンとの間で酸化還元反応を進行させることによって亜鉛めっき皮膜を形成することを特徴とするマグネシウム又はマグネシウム合金からなる製品の製造方法。 - 特許庁 - The apparatus includes an oxidation mode for electrostatically atomizing water to be supplied to the atomization electrode 1 to generate negatively-charged fine water particles containing radicals by applying high voltage, and a reduction mode for generating fine particles having a reduction action from the surface of the atomization electrode 1 by performing spark by applying high voltage without supplying water to the atomization electrode 1.
高電圧を印加することで霧化電極１に供給された水を静電霧化してラジカルを含んだマイナスに帯電した帯電微粒子水を発生させる酸化モードと、霧化電極１に水を供給することなく高電圧を印加して空放電することで霧化電極１の表面から還元作用のある微粒子を発生させる還元モードとを有する。 - 特許庁 - To provide an improved Rh-Re alloy plating bath in an electrolytic rhodium plating applied on a contact part to aim the improvement of durability to prevent the damage and the deterioration of the contact surface due to the oxidation caused by the spark on a contact point which necessitates high sensitive electroconductivity and suffers radical spark due to the repeated on-off and an alloy plating film.
高感度の電気伝導度を必要とし、ＯＮ−ＯＦＦの反復回数の激しい接点のスパークによる、接点面の損傷及び酸化等による劣化を防止する為に、その耐久性の向上を目的として、前記接点部に施工される電解ロジュウムめっきに関して、改良されたＲｈ−Ｒｅ合金めっき浴および合金めっき被膜を提供する。 - 特許庁 - Second lower insulating films 54 of the second side wall portions 46 have a thickness thicker than that of silicon thermal oxidation films 34 of the first side wall portions 26 by the thickness of silicon oxide films 62 on an upper surface 12A of a p-type semiconductor substrate 12, and the silicon oxide films 62 do not have a part covering the side walls of the second gate electrodes 42 from a side.
第２サイドウォール部４６の第２下部絶縁膜５４は、Ｐ型半導体基板１２の上表面１２Ａの上表面１２Ａの上表面１２Ａ上においてシリコン酸化膜６２の分だけ第１サイドウォール部２６のシリコン熱酸化膜３４よりも厚肉とされ、該シリコン酸化膜６２は第２ゲート電極４２の側壁を側方から覆う部分を有しない。 - 特許庁 - In an analysis method of adhesiveness of a printed circuit board wherein a silane coupling agent is applied on the conductor surface in order to improve adhesion between at least one conductor layer selected from a metal, a metal oxide and an alloy and a resin layer, oxidation-reduction indicator liquid is dropped onto the printed circuit board, and discoloration thereby is confirmed, to thereby analyze adhesiveness between the conductor layer and the resin layer.
金属、金属酸化物、合金から選ばれる少なくとも１つの導体層と、樹脂層の密着を向上させるために、導体表面にシランカップリング剤が塗布されたプリント回路基板における密着性の分析方法であって、プリント回路基板に、酸化還元指示薬液を滴下し、変色を確認することで導体層と樹脂層の密着性を分析する。 - 特許庁 - The two vaporizers 212, 214 are respectively disposed above the cell stacks 100, 110 disposed in parallel such that their side surface parts along a direction in which fuel cells 120 are arranged face each other to heat a raw fuel and water by utilizing reaction heat generated from burning reaction of a fuel gas with an oxidation gas above the two cell stacks 100, 110 to generate a raw fuel gas.
２つの気化部２１２，２１４はそれぞれ、燃料電池セル１２０の配列方向に沿う側面部が互いに向かい合うように並列に配置されたセルスタック１００，１１０の上方に配置され、２つのセルスタック１００，１１０の上方における燃料ガスと酸化ガスとの燃焼反応の反応熱を利用して、原燃料及び水を加熱して原燃料ガスを生成する。 - 特許庁 - The method of manufacturing the antireflection film manufacturing mold includes a fine hole forming process of forming the fine holes on the surface of the metal base body by anode oxidation, using the metal base body containing aluminum, and having an uneven layer with the uneven crystal state or surface shape, and in the fine hole forming process, a part of alumina film is etched.
アルミニウムを含有し、表面に結晶状態あるいは表面形状が不均一となっている不均一層を有する金属基体を用い、陽極酸化によって上記金属基体の表面に微細孔を形成する微細孔形成工程を有する、反射防止フィルム製造用金型の作製方法であって、上記微細孔形成工程が上記アルミナ膜の一部をエッチングするものであることを特徴とする、反射防止フィルム製造用金型の作製方法を提供することにより上記課題を解決する。 - 特許庁 - The electrochemical display element 100 comprises a first transparent electrode 30, an electrolytic layer 20 capable of inducing a reaction of forming and erasing a metal mirror surface on the first transparent electrode 30 by electrochemical reduction/oxidation and by associating precipitation and dissolution, and a second electrode 10 disposed to interpose the electrolytic layer 20 with the first transparent electrode 30.
本発明の電気化学表示素子１００は、第１の透明電極３０と、 電気化学的な還元酸化とこれに伴う析出溶解とにより、前記第１の透明電極３０の上に金属鏡面の形成および消去反応を実施可能な電解質層２０と、 前記第１の透明電極３０と前記電解質層２０を挟さむように設けられた第２の電極１０と、を含む。 - 特許庁 - One or a plurality of microwells are arranged on the surface of an electrode by a microprocessing technique, to produce a biomolecule array chip wherein probe DNA is fixed to each of a plurality of the microwells, and a change in an oxidation-reduction current value at the interaction of target DNA with probe DNA is measured with high sensitivity to detect the variation of a single base in target DNA.
微細加工技術によって１または複数の微小ウェルを電極表面上に配列させ、これら１または複数の微小ウェルの各々にプローブＤＮＡを固定化したバイオ分子アレイチップを作製し、このプローブＤＮＡにターゲットＤＮＡが相互作用したときの酸化還元電流値の変化を高感度で測定することによって、ターゲットＤＮＡ中の単一塩基の変異を検出する。 - 特許庁 - There is provided a cooling coil used in a gas phase reactor causing reaction by using a metal-oxide catalyst containing molybdenum, wherein a cooling coil for a gas phase reactor, composed of a material having ≥-0.2 and ≤2.8 V standard electrode potential of oxidation reaction in an aqueous solution system of the surface of the cooling coil on which the molybdenum compound isolated from the metal oxide catalyst comes into contact.
モリブデンを含む金属酸化物触媒を用いて反応を起こさせる気相反応装置に用いられる冷却コイルであって、金属酸化物触媒から遊離したモリブデン化合物が接触する上記冷却コイル表面の、水溶液系における酸化反応の標準電極電位が−０．２Ｖ以上、２．８Ｖ以下である材料で構成された気相反応装置用冷却コイルを用いる。 - 特許庁 - In an HC trap catalyst installed in the exhaust passage of the internal combustion engine, and forming the HC adsorption layer 6 adsorbing non-combustion fuel onto a carrier 5 and the ternary catalyst layer 7 eliminating non-combustion fuel by oxidation, the HC adsorption layer 6 is formed by stacking HC adsorbed bodies 10 of particle shapes having hollow spaces and the ternary catalyst layer 7 is formed on the surface of the HC adsorption layer 6.
内燃機関の排気通路に備えられ、担体５上に未燃燃料を吸着するＨＣ吸着層６と未燃燃料を酸化除去する三元触媒層７とが形成されたＨＣトラップ触媒において、ＨＣ吸着層６を、中空空間を有する粒体状のＨＣ吸着体１０を積み重ねて形成するとともに、三元触媒層７を、ＨＣ吸着層６の表面に形成する。 - 特許庁 - The manufacturing method of the semiconductor device having an AlGaN layer and an AlGaN oxide film formed on a surface of the AlGaN layer comprises an oxidation step of directing ultraviolet light on the AlGaN layer while applying voltage between the AlGaN layer and a cathode 44 so as to make the AlGaN layer become positive with a substrate 40 having the AlGaN layer and the cathode 44 being soaked in an alkali solution 48.
ＡｌＧａＮ層と、ＡｌＧａＮ層の表面に形成されたＡｌＧａＮ酸化膜とを備えている半導体装置の製造方法であって、アルカリ溶液４８中にＡｌＧａＮ層を有する基板４０と陰極４４とを浸した状態で、ＡｌＧａＮ層と陰極４４との間にＡｌＧａＮ層がプラスとなる電圧を印加するとともに、ＡｌＧａＮ層に紫外線を照射する酸化ステップを有している。 - 特許庁 - This method of manufacturing a semiconductor device comprises a step of forming a film at the edge 10a of the semiconductor wafer by forming a film on the surface of the semiconductor wafer 10 by a thermal oxidation method or a CVD method and a step of polishing and removing the film formed at the edge section by spraying a polishing material 12 to the edge section of the semiconductor wafer.
本発明に係るの半導体装置の製造方法は、半導体ウエハ１０の表面に熱酸化法又はＣＶＤ法により膜を成膜することにより、前記半導体ウエハのエッジ部１０ａにも前記膜が成膜される工程と、前記半導体ウエハのエッジ部に研磨材１２を吹き付けることにより、前記エッジ部に成膜された膜を研磨して除去する工程と、を具備することを特徴とする。 - 特許庁 - The carbon-containing refractory brick having a decarbonization layer formed on the surface by molding a refractory raw material composition containing 0.1-15 pts.wt. carbonaceous raw material (B) to 100 pts.wt. refractory aggregate and heating in an oxidation atmosphere is manufactured and is used as the refractory brick for the lining of the molten metal vessel or the refractory for the molten metal flow passage.
耐火骨材（Ａ）１００重量部に対して炭素質原料（Ｂ）を０．１〜１５重量部含有する耐火物原料組成物を成形してから、酸化性雰囲気中で熱処理して、その表面に脱炭層を形成した炭素含有耐火れんがを製造し、それを炉の内張り用耐火れんが、溶融金属容器の内張り用耐火れんが又は溶融金属流路用耐火物として使用する。 - 特許庁 - In the oxidation method whereby the surface of the workpieces W, on which at least the nitride film is exposed, is oxidized in a processing vessel 8 accommodating a plurality of the workpieces W concurrently, the nitride film is oxidized by mainly using hydroxyl active species and oxygen active species in a vacuum atmosphere under a process pressure of 133 Pa or below at a process temperature of 400°C.
一度に複数枚の被処理体Ｗを収容できる処理容器８内にて、表面に少なくとも窒化膜が露出している被処理体の表面を酸化する酸化方法において、真空雰囲気下にて水酸基活性種と酸素活性種とを主体として用いると共に、プロセス圧力を１３３Ｐａ以下に設定し、且つプロセス温度を４００℃以上に設定して前記酸化を行なう。 - 特許庁
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