「surface oxidation」を含む例文一覧(1670)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 33 34 次へ＞- Surface of the ferromagnetic layer 16 is protected against oxidation by the aluminum film 18.
強磁性層１６の表面は、アルミニウム膜１８により酸化が防止される。 - 特許庁 - Then, after oxidation is performed to form a gate after oxide film over the entire surface.
その後、後酸化が行われ、全面にゲート後酸化膜２８が形成される。 - 特許庁 - The uppermost surface 12b of the oxidation-resistant film 12 contains nickel, titanium and oxygen.
耐酸化膜１２の最表面１２ｂは、ニッケルと、チタンと、酸素とを含有する。 - 特許庁 - ALUMINUM ALLOY DEVELOPING COLOR BY ANODIC OXIDATION, AND SURFACE TREATMENT METHOD THEREFOR
陽極酸化により発色するアルミニウム合金及びその表面処理方法 - 特許庁 - The surface of a component facing the ventilation passage R is provided with an oxidation catalyst C.
通風路Ｒに臨む構成部品の表面に、酸化触媒Ｃを設ける。 - 特許庁 - An oxidation preventing layer 8 of gold and the like is formed on the top surface of the pillar-shaped bump or a part of the top surface and a side surface.
柱状バンプの上面もしくは上面および側面の一部に金等からなる酸化防止層８を形成する。 - 特許庁 - To provide an oxidation film forming method, capable of adjusting oxidation condition according to the state of the surface and/or the surface layer of a silicon wafer before oxidation film formation, thereby being capable of forming with proper precision, for example, even an ultra thin oxidation film.
酸化膜形成前のシリコンウェーハの表面、及び／又は、表面層の状態によって酸化条件を調整することができ、それにより例えば極薄の酸化膜でも精度良く形成することができる酸化膜形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - Next, a silicon nitride film 54 is formed covering the part other than the active region 2 to form MOS transistors 10A and 10B, a re-oxidation film 5 is formed in the active region 2 through the working of an oxidation agent from the upper part of a surface oxidation film 4, and a gate insulating film 6 is formed of the surface oxidation film 4 and the re-oxidation film 5.
次に、ＭＯＳトランジスタ１０Ａと１０Ｂを形成する活性領域２以外を被覆する窒化シリコン膜５４を形成し、表面酸化膜４の上部から酸化剤を作用させて活性領域２に再酸化膜５を形成し、表面酸化膜４と再酸化膜５とからなるゲート絶縁膜６を形成する。 - 特許庁 - To control oxidation of a surface of metal in an oxidizing gas at near-atmospheric pressure.
大気圧近傍の酸化性ガス中における金属表面の酸化を抑える。 - 特許庁 - Part of the surface of the semiconductor substrate 10 is coated with an oxidation suppression film 12a, and the rest of the surface of the semiconductor substrate being exposed from the oxidation suppression film is heat- treated.
半導体基板１０の表面を部分的に酸化抑制膜１２ａで覆い、該酸化抑制膜から露出した半導体基板表面に熱処理を施す。 - 特許庁 - An SiO_2 film 2 is formed as a thermal oxidation film on the surface of an Si substrate 1.
Ｓｉ基板１の表面に熱酸化膜としてＳｉＯ_2膜２を形成する。 - 特許庁 - To provide a substrate cleaning method capable of preventing the oxidation of the surface of an active layer.
活性層の表面の酸化を防止できる基板洗浄方法を提供する。 - 特許庁 - The oxidation of the exposed surface in the source region and the drain region can be prevented.
ソース領域およびドレイン領域の露出した表面の酸化が防止できる。 - 特許庁 - To accurately measure the thickness of the oxidation membrane of a rolling material surface during finishing rolling in an oxidation membrane measuring method.
酸化皮膜測定方法において、仕上圧延途中における圧延材表面の酸化皮膜の厚さを正確に測定可能とする。 - 特許庁 - On the surface of the part body 10 of a part made of an aluminum alloy, an anodic oxidation treatment layer 11 is formed by anodic oxidation.
アルミニウム合金製の部品本体１０表面には、陽極酸化法により陽極酸化処理層１１が形成されている。 - 特許庁 - To reduce patterning defects in device fabrication caused by sticking of oxidation foreign matter by removing the oxidation foreign matter sticking on the reverse surface of a substrate through a high-temperature oxidation heat treatment.
高温酸化熱処理で基板裏面に付着した酸化異物を除去し、この付着酸化異物を起因として生じていたデバイス作製時のパターニング不良を低減できる。 - 特許庁 - Accordingly, surface oxidation, surface contamination, and deterioration of the grating shape of the diffraction grating 22 can be suppressed.
従って、回折格子２２の表面酸化、表面汚染及び格子形状の劣化を抑制することができる。 - 特許庁 - To prevent the oxidation of a metallic surface and to maintain the reactivity of the metallic surface over a long period.
金属表面が酸化されるのを防ぎ、金属表面の反応性を長期間保持させることを図る。 - 特許庁 - Oxidation inhibiting sintered particles 2 may be fixed to the surface of the rotary blade 6.
この回転羽６の表面に抗酸化性焼結体粒子２を固着せしめてもよい。 - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD OF MAGNESIUM OR MAGNESIUM ALLOY PRODUCT HAVING ANODIC OXIDATION COATING ON SURFACE
陽極酸化皮膜を表面に有するマグネシウム又はマグネシウム合金製品の製造方法 - 特許庁 - DEVICE AND METHOD FOR PREVENTING OXIDATION REFORMING ON WAFER SURFACE
ウェーハ表面の酸化改質防止装置、及び、ウェーハ表面の酸化改質防止方法 - 特許庁 - VAPOR-GENERATING DEVICE FOR SILICON OXIDATION AND SILICON SURFACE-OXIDIZING DEVICE UTILIZING THE SAME
シリコン酸化用水蒸気発生装置およびそれを利用したシリコン表面酸化装置 - 特許庁 - On the surface of the lead 12, a metal oxide film 20 is formed by oxidation.
リード１２の表面上には、酸化処理による金属酸化膜２０が形成されている。 - 特許庁 - To surely remove an insulation layer without forming an oxidation film on the surface of the wire.
基線の表面に酸化皮膜を形成することなく被覆層を確実に除去する。 - 特許庁 - Further, the SiO_2 layer 2 is formed in the surface of a silicon substrate 1 by using a thermal oxidation method.
また、熱酸化法により、シリコン基板１の表面にＳｉＯ_２層２を形成する。 - 特許庁 - Next, a gate oxide film 24 is formed on the wall surface of the trench 21 by thermal oxidation treatment.
次に，ゲートトレンチ２１の壁面に熱酸化処理によりゲート酸化膜２４を形成する。 - 特許庁 - The surface of the heat cooking vessel is colored to light brown with this oxidation- coating film.
この酸化被膜により、加熱調理容器の外表面は薄茶色に着色される。 - 特許庁 - To restrain the surface of a lower electrode of Ru or Ir from being roughened by oxidation.
下部電極材料であるＲｕ、Ｉｒ表面の酸化による荒れを抑制する。 - 特許庁 - (1) The thin layer of oxidation-resistant metal is provided for a prescribed position in the surface of a member to be measured.
1：被測定部材の表面の所定位置に耐酸化性金属の薄層を設ける。 - 特許庁 - The surface of each magnetic particle 1 is provided with an oxidation preventing layer 4 that has low oxygen permeability coefficient.
磁性粒子1の表面に酸素の透過係数が小さい酸化防止層4を具える。 - 特許庁 - Then, the surface of the gate electrode 8 is covered with an oxidation resistant W film 28.
そして、ゲート電極８の表面は、耐酸化性のＷ膜２８により被覆されている。 - 特許庁 - The uppermost surface 12b of the oxidation-resistant film 12 contains iron, titanium, calcium and oxygen.
耐酸化膜１２の最表面１２ｂは、鉄と、チタンと、カルシウムと、酸素とを含有する。 - 特許庁 - Thickness of a grain boundary oxidation layer on a surface layer of the raceway disk 11 is set to be 1 μm or less.
軌道盤１１の表層部の粒界酸化層の厚さは１μｍ以下である。 - 特許庁 - APERTURE MANUFACTURING EQUIPMENT AND METHOD OF SURFACE EMITTING LASER (VCSEL) BY SELECTIVE OXIDATION METHOD
選択的酸化法による表面光レーザー（ＶＣＳＥＬ）のアパーチャ製造装置及び方法 - 特許庁 - Thereafter, oxygen water is supplied onto the surface of the substrate W from the nozzle 50 for oxidation treatment.
その後、基板Ｗ表面に酸化処理用ノズル５０から酸素水が供給される。 - 特許庁 - METHOD OF FORMING FILM ON SURFACE OF LIGHT METAL SUBSTRATE BY PLASMA ELECTROLYTIC OXIDATION
プラズマ電解酸化処理による軽金属系基材の表面への皮膜形成方法 - 特許庁 - SURFACE TREATED TITANIUM MATERIAL HAVING EXCELLENT OXIDATION RESISTANCE, ITS PRODUCTION METHOD AND ENGINE EXHAUST PIPE
耐酸化性に優れる表面処理チタン材及びその製造方法、エンジン排気管 - 特許庁 - The surface of the solid metallic material as an object of oxidation treatment may be mechanically polished or electrolytically polished before the oxidation treatment.
酸化処理に先立って、酸化処理の対象となる固体金属材料の表面に、機械研磨または電解研磨などを施すのもよい。 - 特許庁 - In the method for forming a thermal oxidation film, a tunnel oxidation film is formed on a surface of a silicon substrate 1 within a heated furnace.
本発明に係る熱酸化膜の形成方法は、加熱した炉内でシリコン基板１の表面にトンネル酸化膜を形成するものである。 - 特許庁 - This inorganic film 30 has a predetermined pattern comprising one or more projecting parts 31, and is formed by using, as a base, a metal film 20 having a low oxidation part 21 low in a surface oxidation level and a high oxidation part 22 high in a surface oxidation level, wherein the one or more projecting parts 31 are formed on the low oxidation part 21 as a pattern.
無機膜３０は、単数又は複数の凸部３１からなる所定パターンを有する膜であり、表面酸化レベルが低い低酸化部２１と表面酸化レベルが高い高酸化部２２とを有する金属膜２０を下地として形成され、単数又は複数の凸部３１が低酸化部２１上にパターン形成されたものである。 - 特許庁 - To provide a surface treatment apparatus for a carbon fiber, which is capable of obtaining carbon fiber whose surface is uniformly treated by electrolytic oxidation.
表面が均一に電解酸化処理された炭素繊維が得られる炭素繊維用表面処理装置を提供する。 - 特許庁 - Next, an oxide film 24 is formed by performing thermal oxidation processing on the upper surface of a semiconductor substrate and wall surface of the gate wrench 21.
次に，半導体基板の上面およびゲートトレンチ２１の壁面に熱酸化処理により酸化膜２４を形成する。 - 特許庁 - By a friction stirring action, an upper plate side welding boundary surface (6) plastically flows, a surface oxidation film on a lapped surface is peeled off, and the boundary surface is activated to provide an excellent welding part.
摩擦攪拌作用により、上板側の接合界面（６）は塑性流動し、重ね面の表面酸化膜が剥離し界面が活性化されて良好な接合部を得られる。 - 特許庁 - At least the joining surface of the aluminum substrate 11 to be joined to the copper plates 12 and 12a is treated with a chemical surface treatment liquid to facilitate oxygen supply to the joining surface; then, the joining surface is subjected to an oxidation treatment.
そして、この窒化アルミニウム基板１１と銅板１２、１２ａの接合体１０において、表面処理がフッ化水素（ＨＦ）溶液で行われているのがよい。 - 特許庁 - The SOI wafer is subjected to rounding oxidation by thermal oxidation treatment, and a silicon oxide film 9 is formed on a region corresponding to a bottom surface and a side surface of the trench 7 in the BOX layer 3.
次に、ＳＯＩウエハに熱酸化処理を施して丸め酸化を行い、ＢＯＸ層３における溝７の底面及び側面に相当する領域にシリコン酸化膜９を形成する。 - 特許庁 - To provide an oxidation reaction inhibiting glass material and an oxidation reaction inhibiting glass container capable of minimizing oxidative deterioration caused by an oxidation reaction by adjusting the atomic composition of the surface of the glass material.
ガラス材表面の原子組成を調整することにより、酸化反応に起因する酸化劣化を極力抑制した酸化反応抑制ガラス材及び酸化反応抑制ガラス容器を提供する。 - 特許庁 - To provide a protective film for preventing metal oxidation which provides an effect of preventing the oxidation even for a metal evaporated film whose surface is liable to oxidation not only during sticking but also after peeling, and to provide a method of using the same.
表面が酸化され易い金属蒸着膜に対しても貼付中だけでなく、剥離後まで酸化防止効果が得られる金属酸化防止用保護フィルム及びその使用方法を提供する。 - 特許庁 - The substrate electrode 11 is provided, in a defective part 23a extending from the surface of the oxidation film 23 to the surface of the parent material 22, with a barrier layer 24 formed from the surface of the parent material 22 to the surface side of the oxidation film 23 in order to seal the defective part 23a.
基板電極１１は、酸化皮膜２３の表面から母材２２の表面に達する欠陥部２３ａ内に、母材２２の表面から酸化皮膜２３の表面側に形成され、欠陥部２３ａを封止するバリア層２４を備える。 - 特許庁 - To avoid compression stress which is produced, when a body region is oxidized from its bottom surface side by excessive oxidation, after LOCOS oxidation reaches an embedded oxide film.
ＬＯＣＯＳ酸化が埋め込み酸化膜に達した後の過剰な酸化により、ボディ領域が底面側から酸化され、圧縮応力が発生する。 - 特許庁 - To favorably carry out cutting and removal of an oxidation-influenced layer by reducing cutting resistance of the oxidation-influenced layer formed on a surface of a pure titanium material.
純チタン材の表面に形成された酸化影響層の切削抵抗を低減して当該酸化影響層の切削除去を良好に行う。 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
