「surface pattern」を含む例文一覧(10306)

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  • To form an uneven pattern of soft impression where the whole is softly made without damaging the texture of the surface material, when the uneven pattern is formed to the surface of the sheet material that laminates the polyurethane foam and the surface material, and to further obtain necessary peel strength between the surface material and the polyurethane foam.
    ポリウレタンフォームと表面材を積層したシート材の表面に凹凸模様を形成するにあたり、表面材の風合いを損ねることなく全体がふんわりとして柔らかい印象の凹凸模様を形成でき、また、表面材とポリウレタンフォーム間における必要な剥離強度が得られるようにする。 - 特許庁
  • An intermediate enamel coating layer 3 formed by interposing a base enamel coating layer 2, a pattern 4 formed by printing on the surface of the intermediate enamel coating layer 3 and a finish enamel coating layer 5 formed on the surface of the pattern 4 and the intermediate enamel coating layer 3 are laminated on the inside surface and/or the outside surface of a pan 6.
    鍋6の内面及び又は外面に、下地エナメル塗装層2を介して形成される中間エナメル塗装層3と、この中間エナメル塗装層3の表面に印刷により形成される模様4と、上記模様4及び中間エナメル塗装層3の表面に形成される仕上げエナメル塗装層5とを積層する。 - 特許庁
  • The semiconductor device further comprises a pad formed on the surface of the semiconductor substrate such that it is communicated with a surface side wiring pattern, and connected with the base substrate by flip chip bonding; and a pad formed on the rear surface of the semiconductor substrate such that it is communicated with a rear surface side wiring pattern, and connected with the base substrate by wire bonding.
    そして、半導体装置は、半導体基板の表面に表面側配線パターンと導通するように形成され、フリップチップボンディングによりベース基板と接続されるパッドと、半導体基板の裏面に裏面側配線パターンと導通するように形成され、ワイヤーボンディングによりベース基板と接続されるパッドと備える。 - 特許庁
  • A method for manufacturing the roll having the seamless rugged pattern comprises steps of: spirally winding a continuous fiber around a columnar support while leaving no space; fixing the wound continuous fiber; preparing a hollow mold having the seamless rugged pattern with the spirally-wound surface shape transferred on the inside surface thereof; and transferring the inside surface shape of the hollow mold to the surface of an original roll.
    円柱支持体に連続繊維を隙間なくスパイラル巻きにし、固定した後に、該スパイラル巻きした表面形状を内面に転写したシームレス凹凸模様を有する中空鋳型を作成し、該中空鋳型の内面形状を表面に転写することを特徴とするシームレス凹凸模様付きロールの製造方法。 - 特許庁
  • To provide a surface treatment agent for freezing process and a method of forming a resist pattern using the same, meeting the requirement that in a double patterning method, dimensions of a first resist pattern are not varied by a freezing process conducted for the first resist pattern and formation of a second resist pattern.
    ダブルパターニング法において第一のレジストパターンに対して行うフリージング処理および第二のレジストパターンの形成によって、第一のレジストパターンの寸法が変動しないという要件を満たすフリージングプロセス用の表面処理剤およびそれを用いたレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁
  • An organic film is formed on a negative type resist pattern using the resist pattern scaledown material comprising a resin, a base generating agent and a solvent and a base component is diffused from the organic film into the resist pattern by heat treatment or irradiation with light to form a solubilized layer on the surface of the resist pattern.
    ネガ型レジストパターン上に、樹脂と、塩基発生剤と、溶媒とからなるレジストパターン微細化材料を用い有機膜を形成し、熱処理又は光照射処理により、有機膜からレジストパターン中に塩基成分を拡散させ、レジストパタン表面に可溶化層を形成させる。 - 特許庁
  • To provide a pattern drawing method for accurately correcting the dimension difference of pattern roughness and fineness by development loading, by adjusting an irradiation energy amount using a relational expression of a pattern area density and a dimension variation amount or a reference table in addition to a circuit pattern density distribution inside a photomask surface.
    フォトマスク面内の回路パターン密度分布に加え、パターン面積密度と寸法変動量の関係式あるいは基準テーブルを用いて照射エネルギー量を調整することで、現像ローディングによるパターン疎密の寸法差を精度良く補正するパターン描画方法を提供する。 - 特許庁
  • By providing a holding face part 43 for holding the picture pattern sheet 50 on the inner peripheral side by bringing it into contact with the surface side of the picture pattern sheet on each reel drum 40, the picture pattern sheet 50 is held while displacement of the picture pattern sheet 50 to the outside in the radial direction is restricted against each reel drum 40.
    各リールドラム40に、図柄シート50の表面側に接触して、該図柄シート50をドラム内周側に保持するための保持面部43を設けることにより、各リールドラム40に対して、図柄シート50の径方向外側への変位を規制しながら図柄シート50を保持する。 - 特許庁
  • The surface of a substrate 1, on which a base pattern is formed and a photoresist is applied on the base pattern, is divided into a plurality of segments; the position of the base pattern is detected in each divided segment; and drawing data is created in accordance with the position of the base pattern in each divided segment based on the detection result.
    下地パターンが形成され、下地パターンの上にフォトレジストが塗布された基板1の表面を複数の区画に分割し、分割した区画毎に下地パターンの位置を検出し、検出結果に基づき、分割した区画毎の下地パターンの位置に応じて、描画データを作成する。 - 特許庁
  • To provide a permanent pattern forming method in which an air bubble is hardly formed, a pattern which has the excellent flatness of a flatten photosensitive layer surface and having high precision can be formed in a short time, and running cost is reducible, and a printed circuit board having a permanent pattern formed by the permanent pattern forming method.
    気泡が発生しにくく、感光層表面の平坦性が良好で、高精細なパターンを、短時間で形成可能であり、ランニングコストの低減を図ることができる永久パターン形成方法及び前記永久パターン形成方法により永久パターンが形成されるプリント基板の提供。 - 特許庁
  • To efficiently detect abnormalities such as disconnection, defective surface, vertical shape defects (such as furrowing) by forming a wiring pattern for measuring the dimension of the wiring pattern of a semiconductor device, measuring the electric resistance of the pattern, and evaluating the dimension of a pattern width using the resistance.
    半導体装置の配線パターンの寸法測定用の配線パターンを形成し、そのパターンの電気抵抗値の測定を行い、抵抗値でパターン幅の寸法を評価することにより、断線及び平面形状不良・垂直形状不良(くびれ等)の異常の検出を効率良く行う。 - 特許庁
  • Protruded picture lines 7 of intaglio printing with a line pattern in which a picture pattern is expressed by partly changing the angles are printed on the surface of a base material 5, and lines pattern 10 expressing a picture pattern by changing the widths are printed on the protruded picture lines 7 of the intaglio printing of this base material 5.
    基材5の表面に、部分的に角度を異にすることによって図柄を表した万線模様の凹版印刷隆起画線7を印刷し、この基材5の凹版印刷隆起画線7の上から幅を変化させることで図柄を表した万線画線10を印刷する。 - 特許庁
  • A pseudo pattern 31 with the same thickness as a conductor pattern 30 is formed at a region where no patterns are formed on each conductor pattern surface of wiring boards 18 and 19 being laminated while sandwiching a prepreg 32 so that width W is selected to set an interval to the conductor pattern 30 to a range of 100-300 μm.
    プリプレグ32を挟んで積層される配線板18,19の各導体パターン面には、そのパターン非形成領域に、導体パターン30との間隔が100〜300μmの範囲内の幅Wとなるように、導体パターン30と同じ厚さの擬似パターン31を形成する。 - 特許庁
  • The color development pattern 2 brought about by oxidation is formed by heating a surface of the copper foil 1; a wrinkle pattern 3 is formed on the whole of the copper foil 1; and the copper foil 1, whereon the pattern 2 and the wrinkle pattern 3 are formed, is bonded to other members while being flattened.
    銅箔1の表面を加熱することによって酸化による発色模様2を形成すると共に、この銅箔1全体に皺模様3を形成させ、この発色模様2と皺模様3とを形成した銅箔1を他の部材に均しながら接着するようにしたものである。 - 特許庁
  • In a method for treating a plastic substrate pattern-formed on a surface by laser in order to form a core pattern suitable for later metallization, after pattern formation by laser, a substrate is made to come into contact with a process liquid suitable for removing undesired deposition that has occurred during the period of pattern formation.
    後続の金属化に適した核パターンを形成するためにレーザで表面にパターン形成されたプラスチック基体を処理する方法において、レーザによるパターン形成後、パターン形成中に発生した所望されない沈殿物を除去するのに適したプロセス溶液に基体を接触させる。 - 特許庁
  • In the pattern formation method forming a pattern using a letterpress, ink is fed to the letterpress with a stripe shape using an anilox rolls in which the pitch a of a surface pattern satisfies a>w to the line width w of the letterpress, and a pattern is transferred to the body to be printed.
    凸版を用いてパターンを形成するパターン形成方法において、ストライプ形状の凸版に、表面パターンのピッチaが該凸版の線幅wに対してa>wとなるアニロックスロールを用いてインキを供給し、被印刷体にパターンを転写することを特徴とするパターン形成方法とした。 - 特許庁
  • The pattern for the inspection in an arrangement position of the pattern for the inspection is found by a ray tracing computation to be prepared, so as to bring a reflection image of the pattern for the inspection imaged in the imaging position into a linear or a truly round pattern having no distortion, based on a design data for the inspection-objective curved surface mirror.
    検査対象曲面鏡の設計データを基に、撮像位置で撮像される検査用パターンの反射像がゆがみのない直線状または真円状のパターンとなるように、検査用パターン配置位置での該検査用パターンを光線追跡演算で求めて作成する。 - 特許庁
  • In the microfabrication method for transferring an inverted concave and convex pattern of the original pattern to a substance to be processed by pressing the original pattern to the surface of the substance, conditions for process are set by pressing the original pattern to the predetermined member before process of the substance to be processed.
    原版を被加工物の表面に押し付けることにより、被加工物に原板の凹凸のパターンを反転させて転写する微細加工方法において、被加工物の加工を行う前に、所定の部材に原版を押し付けることにより加工のための条件出しを行う。 - 特許庁
  • Thus, the surface of the green sheet 23 in contact with the liquid pattern PL is fused to cause the liquid pattern PL to sink in the fused portion, and a recess 30 is therefore formed in the green sheet 23 in the shape of the liquid pattern PL, so that the liquid pattern PL is disposed to be enclosed with the recess 30.
    この液状パターンPLと接触するグリーンシート23の面の溶解によって、液状パターンPLがその溶解部分に沈み込みグリーンシート23に液状パターンPLの形状の凹部30が形成されて、その凹部30に囲まれるように、液状パターンPLが配置される。 - 特許庁
  • When a pattern 13 having a relatively large area and a wiring pattern 14 of a narrow width are formed on a surface of a base 15, only a boundary part of the pattern having the relatively large area and the wiring pattern of the narrow width are scanned, so that an attempt is made to shorten the scanning time and the analysis time.
    比較的面積の大きいパターン13と狭幅の配線パターン14が基体15表面に形成されている場合、比較的面積の大きいパターンの境界部と狭幅の配線パターンのみの走査を行って、走査時間と解析時間の短縮化を図る。 - 特許庁
  • The light guide panel is molded by using the molding die and has a diffusion pattern 20 (high-density concave pattern) formed by the above high-density convex pattern and also has fine concave portions 24 on the surface of concave portions 22 in the diffusion pattern 20 by the fine particles.
    導光パネルはこの成型用金型を用いて成形され、その高密度凸状パターンによって、導光パネルに拡散パターン20(高密度凹状パターン)が形成されるとともに、微粒子によって、拡散パターン20の凹部22の表面に微細凹部24が形成される。 - 特許庁
  • Each of the coil pattern on the side of excitation formed in the substrate and the coil pattern on the side of power reception is made into one or less turn per layer, and preferably the coil pattern formed on the side of power reception rather than the coil pattern on the side of excitation is arranged on the front surface side of the multilayer substrate in the direction of lamination.
    基材に形成する励磁側のコイルパターン及び受電側のコイルパターンは、いずれも1層当たり1ターン以下とし、励磁側のコイルパターンよりも受電側のコイルパターンの方が、積層方向で多層基板の表面側に位置するようにするのが好ましい。 - 特許庁
  • A surface wave is generated on the surface of reactor core internal structure, a laser light is cast on the surface and based on the speckle pattern of laser holography that reflection light from the surface forms, cracks existing on the surface of the core internals are surveyed.
    原子炉炉内構造物の表面に表面波を発生させ、前記表面にレーザ光を照射し、前記表面からの反射光が形成するレーザホログラフィーによるスペックルパターンに基づいて、前記炉内構造物の表面に存在する亀裂を探傷する。 - 特許庁
  • The sensing coil assembly has a hub (22) provided with the mating surface, an optical fiber coil (14) having an inner surface surrounding at least one part of the mating surface, and an adhesive pattern (10) formed preliminarily to adhere the mating surface to the inner surface.
    感知コイル組立体は、相方表面を備えたハブ(22)と、相方表面の少なくとも一部を取り囲む内表面を有する光学繊維コイル(14)と、相方表面を内表面に付着させるための予め形成された接着剤パターン(10)とを有する。 - 特許庁
  • The mold 1 for nanoimprint includes a mold base part 3, a mold body 5 having a rear surface 5B and a pattern surface 5S opposite to the rear surface 5B, and an elastic part 7 fixed between the surface 3S of the mold base part 3 and the rear surface 5B of the mold body 5.
    ナノインプリント用モールド1は、モールド基体部3と、裏面5Bと、裏面5Bとは反対側のパターン面5Sとを有するモールド本体部5と、モールド基体部3の表面3Sと、モールド本体部5の裏面5Bとの間に固定された弾性体部7とを備える。 - 特許庁
  • Then, the conductive pattern part 40 is pushed against both the wing surface panel 21A and the wing surface panel 21B by the fastening power of the fastener members 24, whereby electrical conduction between the wing surface panel 21A and the wing surface panel 21B can be achieved.
    そして、ファスナ部材24による締結力により、翼面パネル21Aと翼面パネル21Bの双方に、導電パターン部40が押し付けられ、これによって翼面パネル21Aと翼面パネル21Bとの電気的導通が図られる。 - 特許庁
  • The device surface protection structure of the device wafer is constituted by providing a water-soluble resin film on a device surface of the device wafer having a device pattern provided on a surface of the substrate and sticking a water-insoluble adhesive protection tape on the surface of the water-soluble resin film.
    基板の表面にデバイスパタ−ンが設けられたデバイスウエハのデバイス面に水溶性樹脂膜を設け、この水溶性樹脂膜の表面に水不溶性粘着剤保護テ−プを貼付したデバイスウエハのデバイス面保護構造。 - 特許庁
  • To surely prevent the dazzle or excessive glaze generated on an texture surface while keeping a texture pattern on the texture surface in an interior resin molding for a vehicle, which is molded so as to form the texture surface having a plurality of protrusions 54 on its surface.
    複数の凸部54を有するシボ加工面を表面に形成してなる車両の内装用樹脂成形品において、シボ加工面のシボ模様を維持しつつ、シボ加工面に生じるギラツキや過度の艶を確実に防止する。 - 特許庁
  • An imprint apparatus in which the offset surface of a mold 2 is pushed onto the surface to be offset of a substrate 1 to transfer the uneven pattern of the offset surface to the surface to be offset comprises a spring member 46 for pushing a mold 2.
    本発明によれば、モールド2の転写面を基板1の被転写面に押し付けて転写面の凹凸パターンを被転写面に転写するインプリント装置において、モールド2の押し付けを行うためのバネ部材46が備えられる。 - 特許庁
  • The rugged pattern 7 includes the glossy surface 8 and non-glossy surfaces 9 each constituting an apex surface of a projecting portion 10 projecting over the glossy surface 8, and uniformly scattered by a prescribed ratio per unit area in the glossy surface 8.
    凹凸パターン7は、光沢面8と、この光沢面8から突出する凸部10の頂面を成し、光沢面8に単位面積あたり所定の割合で均等に点在する非光沢面9と、により形成されている。 - 特許庁
  • This conductive pattern has a bottom 41 disposed on the principal surface of the substrate, an upper surface 42 that is opposed to the bottom 41 and is spaced out from the principal surface of the substrate, and two sides 43, 44 that connect the bottom with the upper surface.
    この導体パターンは、基体の主面上に配置された底面41と、この底面41に対向し、基体の主面から離間した上面42と、底面と上面を連結する二つの側面43、44を有している。 - 特許庁
  • A conductive ink is applied by printing to a resin surface from the internal surface of a concave portion 3 housing a semiconductor element 2 to the bottom surface of a package body 1 through the upper and external surface of the package body 1 to form a wiring pattern 6.
    半導体素子2を収納する凹部3の内面からパッケージ本体1の上面及び外側面を経てパッケージ本体1の底面に至るまでの樹脂表面に、導電性インクを印刷して配線パターン6を形成する。 - 特許庁
  • The determining apparatus includes a projector 21 for projecting a pattern on a surface of a translucent resin 15, a CCD camera 22 for photographing the pattern projected on the surface of the translucent resin 15, and an arithmetic processing unit 23 for determining the surface shape or filling amount of the translucent resin 15 based on a pattern image captured by the CCD camera 22.
    透光性樹脂15の表面にパターンを投影する投影装置21と、透光性樹脂15の表面に投影されたパターンを撮影するCCDカメラ22と、CCDカメラ22によって撮影されたパターン画像に基づき透光性樹脂15の表面形状もしくは充填量を判定する演算処理部23とを備えている。 - 特許庁
  • Moreover, the ratio of a surface stress value obtained from the stress pattern A to a virtual surface stress value obtained from a line formed by extending the stress pattern B at the inner layer side of the glass to the glass surface is 0.8-0.95; otherwise, the thickness of the compressive stress layer formed by the stress pattern A is 2-15 μm.
    さらに、圧縮応力パターンAから求められる表面応力値と、ガラス内層側の圧縮応力パターンBをガラス表面まで延長させたラインから求められる仮の表面応力値との比が0.8以上0.95以下、又は応力パターンAによる圧縮応力層厚が2μm以上15μm以下の化学強化ガラス。 - 特許庁
  • A pattern is formed by a conductor paste 6 on the surface of a laminated body that is formed by laminating the desired number of first green sheets 1 made of glass ceramics pattern-formed by a conductor paste 4, and a second green sheet 5 which is hardly sintered at sintering temperature of the conductor is placed on the surface while the surface of a formed pattern 6 faces the inside of the laminated body.
    導体ペースト4によってパターン形成されたガラスセラミックスからなる第1のグリーンシート1を所望枚積層した積層体表面に、導体ペースト6によってパターン形成されるとともに、導体焼結温度では焼結しない第2のグリーンシート5を、パターン6の形成面が上記積層体内部に向いた状態で表面に配置する。 - 特許庁
  • In a printed wiring board 81 provided with a conducting pattern 83 formed on the surface of a board 85, and a insulating resist film 87 which is formed on the surface of the board 85 and covers the conducting pattern 83, a waterproofing and insulating ink layer 89 is formed on at least the surface of the resist film 87 covering the conducting pattern 83.
    基板85の表面に設けられた導電パターン83と、この導電パターン83を覆って基板85の表面に設けられた絶縁性のレジスト膜87とを具備した印刷配線基板81において、少なくとも導電パターン83を覆うレジスト膜87の表面に、防水・絶縁性のインク層89を形成する。 - 特許庁
  • This method of forming a cell pattern comprises a step for prepatterning by attaching a cell growth-promoting molecule and/or a cell growth-inhibiting molecule on the surface on which the cell pattern may be formed, and a step for forming the cell pattern on the surface by culturing the cells on the surface having the prepattern.
    細胞パターンを形成しようとする表面に細胞成長促進分子及び/又は細胞成長阻害分子を当該表面にパターン被着させることによって予備パターンする工程と、上記予備パターンされた表面上に細胞を培養することによって上記表面上に細胞パターンを形成する工程とを有し、上記細胞が全体組織である。 - 特許庁
  • An electromagnetic wave shield sheet has a conductive part 10 between an electromagnetic wave shield pattern A formed on one surface 102 of a base material 1 having ink permeability and an electromagnetic wave shield pattern B formed on the other surface 103 of the base material 1, and is formed with an electromagnetic wave shield pattern C of a lattice-like shape by the electromagnetic wave shield pattern A and the electromagnetic wave shield pattern B.
    インキ浸透性のある基材1の一方の面102に形成された電磁波遮蔽パターンAと、その基材1の他方の面103に形成された電磁波遮蔽パターンBとの導通部分10をその基材1の内部に有し、その電磁波遮蔽パターンAとその電磁波遮蔽パターンBとにより格子状の電磁波遮蔽パターンCが形成されている電磁波遮蔽シートにより、上記課題を解決する。 - 特許庁
  • To provide a light-emitting device in which a circuit pattern having a glossy surface can be obtained without requiring plating or etching processing, and processes can be reduced and simplified as a result, a high-density circuit pattern can be easily formed, and the circuit pattern having the glossy surface can be efficiently formed by avoiding the formation of a glossy surface on a circuit pattern which does not need gloss.
    めっき加工やエッチング加工を行うことなく光沢面を有する回路パターンを得ることができて工程を数少なくして簡略化することができ、また、高密度の回路パターンを容易に形成することができ、さらに、光沢が不要な回路パターンには光沢面が形成されないようにして効率よく回路パターンの表面を光沢面に形成することができる発光装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • Moreover, the inkjet printer 1 has a controller 4 which controls the belt conveying device 20 so that the test pattern and a reading surface 41 of the image sensor 40 may be opposed to each other after the test pattern is formed to the test pattern formation region.
    さらに、インクジェットプリンタ1は、テストパターン形成領域にテストパターンが形成された後に、テストパターンと画像センサ40の読取面41とが対向するように、ベルト搬送装置20を制御する制御装置4を有している。 - 特許庁
  • In the organic film pattern working step, a removing step of removing a decomposed layer or deposited layer formed on the surface of the organic film pattern, and a melting and deforming step (step S3) of melting and deforming the organic film pattern are performed in this order.
    有機膜パターン加工処理では、有機膜パターンの表面に形成された変質層又は堆積層を除去する除去処理と、有機膜パターンを溶解させ変形させる溶解変形処理(ステップS3)と、をこの順に行う。 - 特許庁
  • A resist pattern is then formed on the surface side (the upper face in Fig. 2(b)) of the thermally oxidized SiO_2 film 22 using the usual photolithographic technique, and dry etching is carried out using the resist pattern as a protective film to form a SiO_2 pattern 22a.
    次に、熱酸化SiO_2膜22の表面側(図2(b)の上面)に通常のフォトリソグラフィ技術を用いて、レジストパターンを形成し、このレジストパターンを保護膜にしてドライエッチングを行い、SiO_2パターン22aを形成する。 - 特許庁
  • A second circuit pattern is electrically connected to a first circuit pattern on the corner surface region of the circuitized substrate and is positioned, in such a manner that cracks in the first circuit pattern are substantially inhibited during flexure of the chip carrier.
    第2の回路パターンは、回路化基板の角の表面領域で第1の回路パターンに電気的に接続され、さらに、チップ・キャリヤが撓んでいる時に第1の回路パターンの割れを実質的に抑制するようなやり方で位置付けされる。 - 特許庁
  • A control section 63 conveys a piece of paper, on which a line pattern is projected in a width direction by a pattern projector 62, to a fixing nip; measures the shape of the line pattern on paper by means of an area sensor 61; and detects the shape of deformation outside the surface of paper.
    制御部63は、パタン投影機62で幅方向にラインパタンが投影された用紙を定着ニップへ搬送し、エリアセンサ61で、用紙上のラインパタンの形状を測定して、用紙の面外変形形状を検知する。 - 特許庁
  • The printed substrate 100 is exposed to plasma within a process chamber 11 of a pattern forming apparatus that generates microwave surface-wave plasma to sinter the metal component of the pattern-printed substrate, thereby forming an electrically conductive pattern.
    そして、この印刷物100は、マイクロ波表面波プラズマを発生させるパターン形成装置の処理室11内でプラズマに晒し、パターン印刷物の金属成分を焼結させて導電性パターンを形成する構成としてある。 - 特許庁
  • Since a pattern of the graphite 53 and a pattern or the like imprinted on the metal mold have a positive- negative relation, the pattern or the like of the positive can be reproduced as it is on a surface of the synthetic resin container 1 molded by the metal mold.
    グラファイト(53)の文様と金型に刻まれる文様等とは陽画と陰画の関係が成り立つので、この金型によって成形された合成樹脂製容器(1)の表面に陽画の文様等がそのまま再現される。 - 特許庁
  • Firstly, a molding pattern corresponding to the lens pattern of a lenticular lens sheet (a pattern arranging a plurality of semispherical lenses in a lattice) is processed at the process 101 by working the roll surface of a tubular mold roll base material as a production object.
    まず、製造対象となる筒状の金型ロール基材のロール面を加工してレンチキュラーレンズシートのレンズパターン(複数の半球状レンズが格子状に配置されたパターン)に対応する成型パターンを製版する(工程101)。 - 特許庁
  • The manufacturing process for the semiconductor has applying, after forming a resist pattern on an underlaying layer, the thickening material to the surface of the resist pattern to be thickened, and patterning the underlying layer by etching, the pattern as a mask.
    下地層上にレジストパターンを形成後、該パターン表面に前記厚肉化材料を塗布し該パターンを厚肉化する工程と、該パターンをマスクとしてエッチングにより下地層をパターニングする工程とを含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁
  • Further, a second photocurable resin, having a second uneven pattern having the pattern density different from the first uneven pattern and the light transmissivity different from the first photocurable resin, is provided on the main surface of the first substrate.
    前記第1の基板の主面上に前記第1の凹凸パターンとはパターン密度が異なる第2の凹凸パターンを有し、かつ前記第1の光硬化樹脂と異なる光透過率を有する第2の光硬化樹脂が設けられる。 - 特許庁
  • To provide a resist composition excellent in the profile of an isolated pattern and hardly producing contaminations on the resist pattern surface in the process of forming a pattern by irradiation of active rays or radiation, in particular, electron beams, X-rays or EUV light.
    活性光線又は放射線、特に電子線、X線又はEUV光の照射によるパターン形成に関して、孤立パターンプロファイルに優れ、レジストパターン表面上に異物が発生し難いレジスト組成物を提供する。 - 特許庁
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