「surface pattern」を含む例文一覧(10306)
＜前へ 1 2 .... 55 56 57 58 59 60 61 62 63 .... 206 207 次へ＞- A series of scale patterns is formed on a scale base material 7 having a pattern formation layer 72 for forming scale patterns all over the surface.
スケールパターンが形成されるパターン形成層７２を一面に有するスケール基材７に一連のスケールパターンを形成する。 - 特許庁 - In this ceramics two layer circuit board, a metallic circuit pattern is formed on the circuit surface side of a ceramic circuit board through an insulator.
セラミックス回路基板の回路面側に絶縁層を介して金属回路パターンが形成されてなるセラミックス二層回路基板。 - 特許庁 - The extrusion molded article with imparted pattern on the surface comprising the polymer composition containing 1,2-polybutadiene.
１，２−ポリブタジエン含有重合体組成物の押出成形品であって、表面にパターンを有するパターン付与押出成形品。 - 特許庁 - A white-base thin sheet 3 having fine concave and convex 2 on the surface is formed by a resin compound 1 for manufacturing pattern materials.
柄材製造用樹脂コンパウンド１を用いて表面に微細凹凸２を有する白色系の薄板シート３を形成する。 - 特許庁 - The master stamper as the stamper is formed by providing a transfer pattern made of a photoresist material on the surface of a substrate.
スタンパとしてのマスタスタンパは、基板の表面にフォトレジスト材料からなる転写パターンを設けることによって形成されている。 - 特許庁 - A diamond or diamond like carbon film is adhered to the surface of a substrate as a polishing stop layer before a metal level pattern is formed.
ダイヤモンドまたはダイヤモンド様炭素膜は、研磨停止層として、金属レベルのパターン形成前に基板表面に付着される。 - 特許庁 - SURFACE METAL FILM MATERIAL, ITS PRODUCTION METHOD, METAL PATTERN MATERIAL, ITS PRODUCTION METHOD, COMPOSITION FOR FORMING POLYMER LAYER, AND NEW POLYMER
表面金属膜材料、その作製方法、金属パターン材料、その作製方法、ポリマー層形成用組成物、及び新規ポリマー - 特許庁 - Thereafter, a diffusion prevention spacer 164a is formed on a side surface of the gate pattern 200, by subjecting the diffusion-preventing film 164 to anisotropic etching.
以後、拡散防止膜１６４を異方性エッチングしてゲートパターン２００の側面に拡散防止スペーサ１６４ａを形成する。 - 特許庁 - The light-emitting diodes 11 are mounted on a surface of the substrate 2 and are connected in series by a conductive pattern formed on the substrate.
各発光ダイオード１１は、基板２の表面に実装され、基板上に形成された導電パターンで直列に接続される。 - 特許庁 - A dipole antenna 21 is provided on the center axis 13, thus forming a vertical polarization radiation pattern 24 in a horizontal surface.
中心軸１３上にダイポールアンテナ２１が配され、これにより水平面内で垂直偏波放射パターン２４が形成される。 - 特許庁 - To increase wettability of the surface of a resist layer and improve the uniformity of development in forming a resist pattern in a device such as a photoresist.
フォトレジスト等のデバイスにレジストパターンを形成する際、レジスト層の表面の濡れ性を高め、現像の均一性を高める。 - 特許庁 - A microfluidic device includes a first substrate 5, and a pattern 4 of a phase change ink deposited on a surface of the first substrate.
マイクロ流体デバイスは、第１の基板５と、この第１の基板表面に堆積した相変化インクのパターン４とを含む。 - 特許庁 - At a surface layer portion of the semiconductor layer 2, a first annular pattern 8 is formed which surrounds respective alignment patterns 7A and 7B.
半導体層２の表層部には、各アライメントパターン７Ａ，７Ｂを取り囲む第１環状パターン８が形成されている。 - 特許庁 - An electrode on the upper surface 20a of the semiconductor light emitting element 20 is connected to the wiring pattern 13 with a conductor wire 21.
半導体発光素子２０上面２０ａの電極と配線パターン１３との間が導体ワイヤ２１で接続される。 - 特許庁 - The exterior member is manufactured by giving a decorative pattern to a surface of a body of a synthetic resin-made member.
合成樹脂製の部材本体の表面に装飾模様を施して外装部材を製造する外装部材の製造方法。 - 特許庁 - A cured layer 2a is formed on the surface of the acrylic resist pattern 2 on a substrate 1 by using ultraviolet rays and electronic beams.
基板１上のアクリル系レジストパターン２の表面に、紫外線あるいは電子ビームを用いて硬化層２ａを形成する。 - 特許庁 - In forming the pattern, drive of the ionizer 45 is first started and the ions are supplied to the vicinity of the surface of the substrate 9.
パターンを形成する際には、まず、イオナイザ４５の駆動が開始され、イオンが基板９の表面近傍に供給される。 - 特許庁 - This surface treatment agent for the resist pattern contains: polymer and/or oligomer having a nucleophilic functional group; and a solvent.
求核性官能基を有するポリマーおよび/またはオリゴマーと溶剤を含有することを特徴とするレジストパターン表面処理剤。 - 特許庁 - The desired pattern is drawn on the surface of the netlike object 2 made of vinyl chloride resin using solvent pigment ink.
は塩化ビニール系樹脂から作られた網状物２の表面には、溶剤系顔料インクで所要の図柄が描かれている。 - 特許庁 - To achieve stabilization in the quality of a substrate having a fine uneven pattern on its surface and further achieving the thickness reduction and miniaturization of the substrate.
表面に微細な凹凸パターンを有する基板の品質の安定化を図り、さらなる薄型化、小型化も可能とする。 - 特許庁 - The panel substrate 1 is pressed against the pattern 13 from the surface 5a side in a state that a film substrate material 15 is dissolved in water.
フィルム基材１５が水に溶解した状態で、パネル基体１をその表面５ａ側から模様１３に押し当てる。 - 特許庁 - Then, the resist pattern 24 containing the surface altered layer 24a is removed by using a resist-removing liquid with monoethanolamine as a main constituent.
次に、表面変質層２４ａを含むレジストパターン２４をモノエタノールアミンを主成分とするレジスト剥離液を用いて剥離する。 - 特許庁 - After the pattern formation is completed, on the surface of the material, an electrode is formed generally by electroless metal plating.
パターン形成が完了した後、この材料の表面には一般に、無電解金属めっきによって電極が形成される。 - 特許庁 - By applying a conductive undercoat on the surface of the conductive layer, a second circuit pattern is formed on the conductive undercoat.
導電層の表面の上に導電アンダーコートを適用して、第２の回路パターンがこの導電アンダーコートの上に形成される。 - 特許庁 - The tire vulcanizing apparatus 100 has an annular tread molding surface 200 for molding a tread pattern on a green tire 10.
本発明に係るタイヤ加硫装置１００は、生タイヤ１０にトレッドパターンを成型する環状のトレッド成型面２００を有する。 - 特許庁 - A wiring of a circuit pattern 8 surface is formed by etching treatment, and wirings between the electronic components and between the circuits are formed.
回路パターン８面の配線は、エッチング処理によって形成され、電子部品間及び回路間の配線が形成される。 - 特許庁 - To precisely form a catalyst layer into an arbitrary pattern without using a resist so that the patterned surface can be electroless-plated.
無電解めっき方法を可能とするための触媒層を、レジストを用いることなく正確に任意のパターンに形成する。 - 特許庁 - A light shielding pattern 52 having a high reflectance is formed on the surface of a reticle substrate 51 to obtain the objective reticle (photomask) R.
レチクル（フォトマスク）Ｒは、レチクル基板５１の表面に高反射率を有する遮光性パターン５２を形成して構成される。 - 特許庁 - To provide a mold part capable of enhancing durability to enhance the cutting precision of the pattern formed on a surface.
耐久性を向上させ表面に形成されるパターンの切削精度を向上させることができる金型部品を提供する。 - 特許庁 - A material is applied to the one or more wells and subsequently transferred to another surface in order to transfer the pattern.
当該１ないし複数のウェルに材料が塗布され、その後に続いて、パターンを転写するために別の表面に転写される。 - 特許庁 - The luster adjusting resin layer either can be of uniform thickness or can be partially formed in a pattern shape to represent an uneven surface design.
艶調整樹脂層は均一厚さでも良いが、模様状に部分的に形成すれば表面凹凸意匠も表現できる。 - 特許庁 - An arrangement position of the inspection-objective curved surface mirror, an imaging position of an imaging means, and an arrangement position of a pattern for inspection are supposed respectively.
検査対象曲面鏡の配置位置、撮像手段の撮像位置、検査用パターンの配置位置をそれぞれ想定する。 - 特許庁 - A topcoat layer 4 can be appropriately provided on the surface side of the transparent resin layer 1, and a pattern layer 2 or the like can be appropriately provided on the rear side thereof.
透明樹脂層１の表面側にはトップコート層４、裏面側には絵柄層２等を適宜設けることができる。 - 特許庁 - To stably and smoothly create a three-dimensional pattern with cubic effect on the surface of a metal plate.
金属板の表面上に立体感のある三次元模様を安定的かつスムーズに創り出すことができるようにしたもの。 - 特許庁 - The film 30 consists of solid patterns with which the film is formed on a whole surface and a distribution pattern with which the film is formed in a distributed state.
被膜３０は、被膜が一面に形成されたベタパターンと、被膜が分散して形成された分散パターンとからなる。 - 特許庁 - Each electrode piece 4 includes at least two plane parts formed as terminal parts 42 to be brought into surface contact with a pattern part of a printed circuit board.
電極片４には平面部位を少なくとも２つ形成し、プリント基板のパターン部へ接面させる端子部４２にする。 - 特許庁 - A channel layer 2 and a contact layer 3 are provided on the surface of a semiconductor board 1 to pattern the contact layer, so as to form the insulation layer 4.
半導体基板１の表面にチャネル層２，コンタクト層３を設け、コンタクト層をパターニングし、絶縁膜４を形成する。 - 特許庁 - To provide a surface inspection device capable of ensuring a sufficient detection sensitivity to a plurality of kinds of flaws of a repeated pattern.
繰り返しパターンの複数種類の欠陥に対して十分な検出感度を確保できる表面検査装置を提供する。 - 特許庁 - The pattern fixing process favorably contains a process in which a photosensitive organic material is impregnated in the pattern layer, a process in which the pattern layer impregnated with the photosensitive organic material is exposed to light, a process in which the carbon nanotube is exposed by removing the photosensitive organic material on the surface of the pattern layer, and a process in which the photosensitive organic material in the pattern layer is cured.
パターン固定工程は、感光性有機材料をパターン層内に含浸させる工程と、感光性有機材料が含浸したパターン層を露光する工程と、パターン層表面の感光性有機材料を除去してカーボンナノチューブをパターン層表面に露出させる工程と、パターン層内部の感光性有機材料を硬化させる工程と、を含むことが好ましい。 - 特許庁 - The photomask 1 for transferring a mask pattern on a substrate, by having a mask pattern forming region 4 irradiated with ultraviolet rays 10, is provided with an evaluation pattern 12 having recesses 15-17 forming the same kind of growth substance as the contamination growing by the ultraviolet rays in the mask pattern formation region 4, on at least any one face from among a mask pattern formation surface 8 and its backside 9.
マスクパターン形成領域４に紫外線１０を照射して、当該マスクパターンを基板に転写するフォトマスク１において、マスクパターン形成面８及びその裏面９のうち、少なくともいずれか１つの面に、マスクパターン形成領域４で紫外線により成長する異物と同種の成長性物質が形成された窪み１５〜１７を有する評価パターン１２を設ける。 - 特許庁 - The method for forming a resist pattern includes steps of forming a photoresist pattern from a resist film with exposure and development, swelling a resist insoluble layer formed on the front surface of the photoresist pattern with the vapor of resist solvent sprayed from a nozzle 12 within the thermal flow apparatus 10, and shrinking the photoresist pattern attained by swelling the resist insoluble layer by heating the same pattern with a hot plate 11 for thermal flow.
レジストパターン形成方法は、露光及び現像により、レジスト膜からフォトレジストパターンを形成する工程と、サーマルフロー装置１０内で、フォトレジストパターンの表面に形成されたレジスト難溶化層を、ノズル１２から噴霧するレジスト溶剤の蒸気で膨潤させる工程と、レジスト難溶化層を膨潤させたフォトレジストパターンを、ホットプレート１１で加熱し、サーマルフローさせてシュリンクする工程とを有する。 - 特許庁 - The solar cell module includes a back electrode, a photoelectric conversion portion formed on the back electrode, a surface electrode formed on the photoelectric conversion portion and having a first mesh pattern, and a shield electrode which is formed on the surface electrode, is electrically insulated from the surface electrode and grounded, and has a second mesh pattern which is at least partially overlapped with the first mesh pattern of the surface electrode in plan view.
裏面電極と、前記裏面電極の上に形成される光電変換部と、前記光電変換部の上に形成され、第１メッシュパターンを有する表面電極と、前記表面電極上に形成され、前記表面電極とは電気的に絶縁されるとともに接地され、平面視において前記表面電極の第１メッシュパターンと少なくとも一部が重複する第２メッシュパターンを有するシールド電極と を含む、太陽電池モジュール。 - 特許庁 - Then, the front surface is decorated with the pattern on by heating the front surface 22a of the front layer 22, and then transferring the decorating roll while the decorating roll is pressed to the front surface 22a of the front layer 22, thereby transferring the rugged shape of the decorating roll to the front surface 22a of the front layer 22.
次いで、前記表層２２の表面２２ａを加熱し、その後に、当該表面２２ａに加飾ロールを押し付けながら転がすことにより、前記表層２２の表面２２ａに加飾ロールの凹凸形状を転写して当該表面に柄を加飾する。 - 特許庁 - The lead projects from the resin-sealing body in parallel with the package surface, is bent in a direction that orthogonally crosses the package surface, and is bent outward in parallel with the package surface again so that it is joined to the wiring pattern 60 being provided on the surface of the printed-circuit board by soldering.
リードは、パッケージ面に平行に樹脂封止体から突出し、次いでパッケージ面に直交する方向に屈曲し、プリント基板の表面に設けられた配線パターン６０にはんだ接合できるように、再びパッケージ面に平行で外方に屈曲している。 - 特許庁 - The optical element 200 includes a glass optical system 202 having 1,000 μm or less of thickness between the first surface and the second surface, and a pattern 203 arranged on the first surface of attenuating the light incident into the first surface of the glass optical system 202.
光学素子200が、第１の表面と第２の表面との間において１０００ミクロン以下の厚さを有するガラス光学系202と、ガラス光学系202の第１の表面に入射する光を減衰させる、第１の表面に配置されているパターン203とを包含する。 - 特許庁 - The stamper 100 for imprinting has a first surface 110 having an uneven pattern portion 130 and a second surface 120 opposed to the first surface 110, and a notch portion 111 is provided at least at one of four corners of the first surface 110.
本発明は、凹凸パターン部１３０を有する第１面１１０とこの第１面１１０と対向する第２面１２０とを有するインプリント用スタンパ１００であって、第１面１１０の四隅のいずれか1つにはノッチ部１１１が設けられることを特徴とする。 - 特許庁 - In the slab type optical waveguides 20_1 to 20_3 constituted by embedding a core pattern 9 constituting the optical waveguide in a clad 15, at least one end of the core pattern 9 is formed as an inclined surface forming the angle of about 45° to a slab surface, and a reflection layer 8 is formed on the inclined surface.
光導波路を構成するコアパターン９がクラッド１５中に埋め込まれてなるスラブ型の光導波路２０_１ 〜２０_３ において、コアパターン９の少なくとも一端がスラブ面に対して略４５°の角度をなす斜面に形成され、その斜面に反射層８が形成されている光導波路。 - 特許庁 - The plating method includes a process for forming a resist pattern 16 in which an opening 16a is formed and the inner peripheral surface of the opening 16a protrudes more largely to the opening side as it approaches to the surface side from the rear surface side and a process for forming metal plating 18 for filling the opening formed in the resist pattern.
開口１６ａが形成されるとともに、前記開口１６ａの内周面が裏面側から表面側に向かうほど前記開口側に大きく迫り出すレジストパターン１６を形成する工程と、前記レジストパターンに形成される前記開口を充填する金属めっき１８を形成する工程と、を含む。 - 特許庁 - In a state that the projection 22 and a protrusion-side end surface 41a of the second protrusion 41 are inserted into an insertion hole 31 formed at an insulating layer 30 from different directions to abut against each other, the top surface-side circuit pattern 20 and the reverse surface-side circuit pattern 40 are laminated together with the insulating layer 30.
そして、プロジェクション２２と第２突出部４１の突出側端面４１ａとを絶縁層３０に設けられる挿入穴３１に対して異なる方向から挿入して当接させた状態で表面側回路パターン２０および裏面側回路パターン４０を絶縁層３０とともに積層する。 - 特許庁 - The irradiated surface of a radiography device to which a predetermined pattern for specifying the position of a subject on the irradiated surface is attached is imaged, and the position of the subject on the irradiated surface is specified on the basis of the missing state of the pattern in an image indicated by image information obtained by imaging.
照射面上での被験者の位置を特定するための所定のパターンが付された放射線画像撮影装置の照射面を撮影し、撮影によって得られた画像情報により示される画像でのパターンの欠損状態に基づいて、照射面上での被験者の位置を特定する。 - 特許庁
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