「surface pattern」を含む例文一覧(10306)
＜前へ 1 2 .... 68 69 70 71 72 73 74 75 76 .... 206 207 次へ＞- After the resin pattern 3 is formed by printing the ultraviolet curing resin paste containing the electroless plating catalyst on the surface of the transparent substrate 1 and curing the paste by projecting ultraviolet rays upon the formed printed pattern 2, the conductive pattern 5 is formed by forming the plated layer 4 on the resin pattern 3 by electroless plating.
無電解めっき触媒を含む紫外線硬化性樹脂ペーストを透明基材１の表面に印刷し、形成された印刷パターン２に紫外線を照射して硬化させることにより、樹脂パターン３を形成し、その後無電解めっき処理して、樹脂パターン３上にめっき層４を形成して導電性パターン５を形成する。 - 特許庁 - When the pattern printed film 3 is thermally bonded to the resin substrate sheet 1 under pressure, the pattern 2 of the pattern printed film 3 is partitioned and a positioning line 1 drawn on the surface of the pattern printed film 3 in a vertical direction from the end part thereof in a shape recognizable easily and certainly at a glance is added to be used.
絵柄印刷フィルム３を樹脂基材シート上に熱圧着する際に、少なくとも１ヶ所以上の一定間隔毎に上記絵柄印刷フィルム３の絵柄２を区切り、容易、かつ、確実に一目で認識できる形状で、同絵柄印刷フィルム３の表面上にその端部から垂直方向に描かれる位置決め線１を付加して使用する。 - 特許庁 - When the object is detected between the beam radiating position of the vehicle 22 and the position of the surface of the road to be radiated by the visible light beam in the specified pattern, the visible light pattern by the visible light beam is changed to a pattern avoiding the obstacle, and the visible light beam is radiated by the beam radiating machine 24 in the changed pattern.
車両２２のビーム照射位置と可視光ビームが所定のパターンで照射されるべき道路路面の位置との間に存在する障害物が検知された場合、可視光ビームによる可視光パターンをその障害物を避けたパターンに変更し、ビーム照射機２４にその変更されたパターンで可視光ビームを照射させる。 - 特許庁 - To provide a surface treatment agent and a resist composition for a freezing process being applied to the first resist pattern in a double patterning method and satisfying the requirements for preventing line width and LWR of the first resist pattern from fluctuating due to the freezing process and the formation of the second resist pattern and resist composition and to provide a pattern formation process by use of them.
ダブルパターニング法における第一のレジストパターンに対して行うフリージングプロセスにおいて、フリージング処理および第二のレジストパターンの形成によって、第一のレジストパターンの線幅及びＬＷＲが変動しないという要件を満たすフリージングプロセス用の表面処理剤、レジスト組成物およびそれらを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a surface treatment method of a resist pattern which meets the requirement that the line width and LWR (Line Width Roughness) of a first resist pattern are not varied by the freezing of the first resist pattern and the formation of a second resist pattern in a double patterning method.
ダブルパターニング法における第一のレジストパターンに対して行うフリージングプロセスにおいて、フリージング処理および第二のレジストパターンの形成によって、第一のレジストパターンの線幅及びＬＷＲが変動しないという要件を満たすレジストパターンの表面処理方法およびその表面処理方法を用いたレジストパターンの形成方法を提供すること。 - 特許庁 - The original plate for a pattern alignment layer for three-dimensional display includes a substrate having on its surface a first pattern portion where a fine concavo-convex shape is formed in a given direction and a second pattern portion where the fine concavo-convex shape is formed in a direction different from that of the first pattern portion.
本発明は、微細凹凸形状が一定方向に形成された第１パターン部および上記微細凹凸形状が上記第１パターン部とは異なる方向に形成された第２パターン部を表面に備える基材を有することを特徴とする３次元表示用パターン配向層用原版を提供することにより、上記課題を解決する。 - 特許庁 - To provide a new detergent for lithography that can keep a low surface tension even when the concentration of a surfactant is decreased, can effectively suppress pattern collapse and defects, can improve uneven pattern width (line width roughness: LWR) and minute recesses and projections (line edge roughness: LER) on a pattern side wall, and prevents a dimensional fluctuation of a resist pattern.
界面活性剤の濃度を低くしても低表面張力を維持することができ、効果的にパターン倒れやディフェクトを抑制することができ、パターン幅の不均一（ＬＷＲ）・パターン側壁の微小な凹凸（ＬＥＲ）を改善することができ、さらにレジストパターンの寸法変動を生じることのない新規なリソグラフィー用洗浄剤を提供する。 - 特許庁 - To provide a spot pattern forming device of a concrete form mark capable of forming a spot pattern of the concrete form mark to a surface to be treated filled with mortar to enhance an aesthetic feeling and usable over a plurality of times to improve work efficiency at the time of formation of the spot pattern and a spot pattern forming method using the same.
モルタルが充填された被処理面にコンクリート型枠跡の斑点模様を形成して美感を向上させ得ることができるとともに、複数回に亘って使用可能として斑点模様形成時の作業能率を改善させることができるコンクリート型枠跡の斑点模様形成具及びそれを用いた斑点模様形成方法を提供する。 - 特許庁 - A device for inspecting the photomask, equipped with an arithmetic processing unit which generates data for mask inspection by dividing a photomask pattern surface region into a plurality of small regions and calculating density information for the respective plurality of small regions, and a mask pattern image pick-up unit which pick-ups a mask pattern image of the photomask and generates mask pattern image data, is constructed.
フォトマスクのパターン面の領域を複数の小領域に分割し、前記複数の小領域ごとの密度情報（［Ａ］〜［Ｃ］）を算出してマスク検査用データ（１３）を生成する演算処理部（２５）と、前記フォトマスクのマスクパターンを撮像してマスクパターン画像データを生成するマスクパターン撮像部（８）とを具備するフォトマスク検査装置（３）を構成する。 - 特許庁 - Due to this structure, excessive wet expansion of the ink drops 4 formed on the surface of the substrate is prevented and segmentalization of a pattern due to aggregation of the ink drops 4 is also prevented, which results in forming a desired pattern on the substrate 1 easily and accurately without forming in advance a protruded-recessed pattern, etc., corresponding to a pattern to be formed on the substrate 1.
これにより、形成したインク液滴４が必要以上に濡れ広がるのを防ぎ、かつインク液滴４の凝集により分断されることを防止するため、基板１上に形成するパターンに対応した凹凸パターン等を予め形成することなく、容易かつ精度良く所望するパターンを基板１上に形成することができる。 - 特許庁 - To provide a surface treatment agent for a freezing process being applied to the first resist pattern in a double patterning method and satisfying the requirements for preventing line width and LWR of the first resist pattern from fluctuating owing to the freezing process and the formation of the second resist pattern, and also to provide a pattern formation method by use of it.
ダブルパターニング法における第一のレジストパターンに対して行うフリージングプロセスにおいて、フリージング処理および第二のレジストパターンの形成によって、第一のレジストパターンの線幅とＬＷＲが変動しないという要件を満たすフリージングプロセス用の表面処理剤およびそれおよびそれを用いたパターン形成方法を提供すること - 特許庁 - To provide a surface treatment agent for a freezing process that meets the requirement that (1) the line width of a first resist pattern does not fluctuate and (2) the line edge roughness (LER) of the first resist pattern does not deteriorate, by a freezing process in a freezing process that is applied to the first resist pattern in a double patterning method, and a pattern forming method using it.
ダブルパターニング法における第一のレジストパターンに対して行うフリージングプロセスにおいて、フリージング処理によって、（１）第一のレジストパターンの線幅が変動しない、（２）第一のレジストパターンのラインエッジラフネス（ＬＥＲ）が悪化しない、という要件を満たすフリージングプロセス用の表面処理剤およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - The plane type inductor 20 is formed out of a lower pattern, comprising a conductive layer formed on the base substrate 10, an annular core 22 comprising a magnetic-body layer formed on the lower pattern by a film-forming technique, and an upper pattern 23 electrically connected with the lower pattern which is a conductive layer formed on the front surface of the annular core 22.
平面型インダクタ２０は、ベース基板１０に形成された導電層からなる下パターンと、下パターンの上に膜形成技術により形成された磁性体層からなる環状コア２２と、環状コア２２の表面に形成された導電層であって下パターンに電気的に接続される上パターン２３とにより形成される。 - 特許庁 - A circuit wiring pattern 3 is formed on one surface of a flexible insulating base material 1, and an isolated conductor piece 4 is formed together with the pattern 3, so as not to be connected to the pattern 3 and to cover sites corresponding to through-holes to be made in a positional relation with connecting terminal parts 9 of the pattern 3.
可撓性絶縁べ−ス材１の一方面に回路配線パタ−ン３を形成し、また、回路配線パタ−ン３に接続されず回路配線パタ−ン３の接続用端子部９との位置関係に於いて設けられるべき貫通孔の対応部位を覆うように孤立した導体片４を回路配線パタ−ン３と共に形成する。 - 特許庁 - A fine structure transfer mold 1a has a pattern section 2a with fine irregularity formed on its surface, a stationary section 3a formed outside the pattern section 2a and a slant section 4a prepared between the pattern section 2a and the stationary section 3a so that the pattern section 2a may be protruded more than the stationary section 3a.
本発明の微細構造転写モールド１ａは、表面に微細な凹凸が形成されたパターン部２ａと、このパターン部２ａの外側に形成された固定部３ａと、前記パターン部２ａが前記固定部３ａよりも突出するように前記パターン部２ａと前記固定部３ａとの間に設けられる傾斜部４ａと、を備えることを特徴とする。 - 特許庁 - The method for manufacturing a semiconductor device comprises processes for forming a resist pattern on a base layer; smoothing, at least the wall surfaces of the resist pattern by applying a resist pattern smoothing material to the surface of the resist pattern and by controlling at least either one of coating thickness and heating temperature, including heating and development; and patterning the base layer by etching, using the smoothed resist pattern.
下地層上にレジストパターンを形成する工程と、レジストパターンの表面にレジストパターン平滑化材料を塗布した後、加熱し、現像することを含み、塗布の厚み及び加熱の温度の少なくともいずれかを調整することにより、レジストパターンにおける少なくとも壁面を平滑化させる工程と、平滑化されたレジストパターンを用いてエッチングにより下地層をパターニングする工程とを含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁 - An antenna apparatus 10 includes a substrate 12, a first antenna pattern 20 formed on an upper surface 12u of the substrate for transmitting/receiving radio waves in a first frequency band, and a second antenna pattern 30 formed on a second surface 12d of the substrate for transmitting/receiving radio waves in a second frequency band.
アンテナ装置１０は、基板１２と、基板の上面１２ｕ上に形成され、第１の周波数帯の電波を送受信する第１のアンテナパターン２０と、基板の第２の面１２ｄ上に形成され、第２の周波数帯の電波を送受信する第２のアンテナパターン３０とを備える。 - 特許庁 - The display device (1) includes a linearization pattern part (30) formed at the first substrate (10) side and including a plurality of electrodes capable of detecting current of the current-carrying impedance surface, and a conductive member (34) electrically connecting the linearization pattern part (30) and the current-carrying impedance surface of the second substrate.
表示装置（１）は、第１の基板（１０）側に形成され通電インピーダンス面の電流検出が可能な複数の電極を含むリニアライゼイションパターン部（３０）と、リニアライゼイションパターン部（３０）と第２の基板の通電インピーダンス面とを電気接続する導電部材（３４）を含む。 - 特許庁 - After forming a pattern of a lower electrode made of metal on the surface of a substrate, an etching stop layer made of material different from that of the lower electrode is formed on the surface of the pattern of the lower electrode, which is an area including an area that is not covered by a piezoelectric thin film.
前記基板の表面に金属からなる下部電極のパターンを形成した後、この下部電極のパターンの表面であって、前記圧電体薄膜により被覆されない領域を含む領域に前記下部電極とは異なる材質のエッチングストップ層を形成する。 - 特許庁 - The magnetic recording medium is provided with; an uneven pattern substrate which is used for a magnetic recording medium having discrete tracks and on whose surface uneven patterns are formed, wherein texture structure is formed on the concavity of the surface; and a magnetic film formed on the uneven pattern substrate.
ディスクリートトラックを有する磁気記録媒体に用いられる、表面に凹凸パターンが加工された凹凸パターン基板であって、表面の凹部にテクスチャー構造が形成されている凹凸パターン基板と、その上に成膜された磁性膜とを有することを特徴とする磁気記録媒体。 - 特許庁 - Then an electrode film 10 is plated on the surface of the dielectric block in an electrode film formation process, and in a facing process, a projected part other than the electrode pattern formation programming area is removed by removing the prescribed thickness from the surface of the dielectric block to pattern the electrode film 10.
その後、電極膜形成工程で誘電体ブロック表面に電極膜１０をメッキし、面出し工程で誘電体ブロック表面の所定厚み分の除去によって電極パターン形成予定領域以外の突出部を除去して電極膜１０をパターンニングする。 - 特許庁 - To provide a printed circuit board wherein the surface roughness of an insulation base is made uniform and the surface is flattened, so that spreading of a circuit pattern is controlled while printing minute wiring and an adhesive strength between the insulation base and the circuit pattern is increased, and to provide a manufacturing method thereof.
絶縁基材の表面粗さを均一にでき、表面を平坦化でき、微細配線の印刷時に回路パターンの広がりを制御でき、絶縁基材と回路パターンとの間の接着性を向上させることができる、印刷回路基板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - Then, in a cylindrical mold 20, a laminated element of the vulcanized butyl rubber sheet 8 and the non-vulcanized rubber sheet 9 is integrally vulcanized and molded while a network pattern 11 of the butyl rubber sheet is disposed to be an inner peripheral surface, and a cylindrical jacket 10 having the net-like pattern 11 is molded on the inner peripheral surface.
次に、円筒状金型２０に、前記加硫ブチルゴムシート８と未加硫ゴムシート９の積層体を、前記ブチルゴムシートの網状パターン１１が内周面となるよう配置して加硫一体成形し、内周面に網状パターン１１を有する筒状のジャケット１０を成形する。 - 特許庁 - The circuit board 10 mainly includes: a substrate 20 having a conductive pattern 18 on an upper surface; a semiconductor element 16 stuck to the substrate 20 and electrically connected to the conductive pattern 18; and a sealing resin 22 for covering an upper surface of the substrate 20 while covering the semiconductor element 16.
回路装置１０は、導電パターン１８が上面に設けられた基板２０と、基板２０に固着されて導電パターン１８と電気的に接続された半導体素子１６と、半導体素子１６を覆うように基板２０の上面を被覆する封止樹脂２２とを主要に具備する。 - 特許庁 - A semiconductor ship 15 is packaged on a frame substrate composed of metal foil having a wiring pattern 14 formed by electrolytic plating on an upper surface and after the semiconductor chip 15 is sealed with a mold resin 17, the metal foil is etched from a lower surface and formed as a land 13 connected to the wiring pattern.
半導体チップ１５を、電解メッキで形成した配線パターン１４を上面に有する金属箔から成るフレーム基板に搭載し、半導体チップ１５をモールド樹脂１７で封止した後に、下面から金属箔をエッチングして配線パターンに接続されたランド部１３として形成する。 - 特許庁 - The wiring board comprises a substrate 11, a wiring pattern 12 of conductive resin, principally comprising silver embedded in the substrate 11 to expose the surface part, and a coated conductor 13, principally comprising carbon formed to cover the surface part of the wiring pattern 12.
基板１１と、表面部が露呈するように基板１１に埋設されて形成された銀を主体とする導電体樹脂からなる配線パターン１２と、この配線パターン１２の表面部を覆うように形成されたカーボンを主体とする被覆導体１３とを含む構成からなる。 - 特許庁 - A ground pattern 3b, whose electric potential is fixed, is provided between the adjacent signal lines 2a and 2b on one main surface, while a ground pattern 3e whose electric potential is fixed is provided between the adjoining signal lines 2c and 2d on one main surface.
また、一方の主表面上の隣り合う信号ライン２ａと信号ライン２ｂとの間には、電位固定されたグランドパターン３ｂが設けられ、他方の表面上の隣り合う信号ライン２ｃと信号ライン２ｄとの間には、電位固定されたグランドパターン３ｅが設けられている。 - 特許庁 - For the surface patterning method of etching the surface of a silicon substrate 1 by using a hard mask 3A, the hard mask 3A is provided with an uneven pattern 3b of depth t1 shallower than the film thickness (t) of the hard mask 3A together with an opening pattern 3a facing the etched part of the silicon substrate 1.
ハードマスク３Ａを用いてシリコン基板１の表面をエッチング加工する表面パターニング方法であって、ハードマスク３Ａには、シリコン基板１のエッチング部分に臨む開口パターン３ａと共に、このハードマスク３Ａの膜厚ｔよりも浅い深さｔ１の凹凸パターン３ｂが設けられている。 - 特許庁 - Surface layers of thermoplastic resin such as polycarbonate, polymethylmethacrylate, or the like are laminated, this surface layer is heated, a stamper in which a desired uneven pattern is formed is pressed, the pattern is transferred, and a substrate for vertical magnetic recording medium is made.
アルミやガラス等の支持基板（支持層）上に、ポリカーボネートやポリメタクリル酸メチル等の熱可塑性樹脂の表面層を積層し、この表面層を加熱して所望の凹凸パターンを形成済みのスタンパを押し付けてそのパターンを転写させて垂直磁気記録媒体用基板とした。 - 特許庁 - This manufacturing method of the wiring board comprises the steps of forming a wiring pattern 20 by patterning a conductive layer 12 formed on the surface of a base board 10, and forming holes 30 in the base board 10 by etching the portions exposed from the wiring pattern 20 on the surface of the base board 10.
配線基板の製造方法は、ベース基板１０の表面に形成された導電層１２をパターニングして配線パターン２０を形成すること、及び、ベース基板１０の表面における配線パターン２０からの露出部をエッチングしてベース基板１０に穴３０を形成することを含む。 - 特許庁 - In the interior finishing wall structure comprising a wall panel 4 having the decorating pattern 13 on the surface and a lighting apparatus 12 mounted on a surface of the wall panel 4, the decorating pattern 13 has a color change function by which the color phase is changed depending on seeing angles.
表面に装飾模様１３を有する壁パネル４と、この壁パネル４の表面側に取り付けられた照明器具１２とを備えた内装壁構造において、装飾模様１３として、見者が見る角度によって色相が変化する変色機能を有するものを採用する。 - 特許庁 - The lands 11a of a conductor pattern 11 formed on the connection surface of a flexible printed wiring board 10 formed of thermoplastic resin as an insulating board material are electrically connected to the lands 5a of a conductor pattern 5 formed on the connection surface of a rigid printed wiring board 1 through Sn plating 7.
絶縁基板材料として熱可塑性樹脂を用いたフレキシブルプリント配線基板１０の接続面に形成した導体パターン１１のランド１１ａと、リジッドプリント配線基板１の接続面に形成した導体パターン５のランド５ａとをＳｎメッキ７を介して電気的に接続する。 - 特許庁 - In the manufacturing method, using a pattern forming roll, a sheet of molten extruded thermoplastic resin is brought into crimp contact with the surface of the pattern forming roll to obtain an unstretched light collection sheet having a plurality of protrusions arranged generally parallel with each other on at least one surface thereof.
本発明に係る集光シートの製造方法では、賦型ロールを用いて、該賦型ロールの表面に溶融押出しされたシート状の熱可塑性樹脂を圧着させ、少なくとも一方の表面に、略平行に配列された複数の突条を有する延伸前集光シートを得る。 - 特許庁 - To provide a thin-film forming method for a mask for prescribing a magnetization pattern shape in which a mask with a clean surface can be formed as the mask for prescribing the magnetization pattern shape by efficiently removing sticking matter present in an area other than a specified area on the surface.
磁化パターン形状規定用マスクに対して、その表面の特定領域以外の領域に存在する付着物を効率的に取り除き、表面の清浄なマスクを作成することが可能な、磁化パターン形状規定用マスクに対する薄膜形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - A piezoelectric device 100 includes a piezoelectric vibrating piece 20 having a first electrode pattern 23 and a second electrode pattern 24, a glass base 45 having a first surface and an opposite second surface and has the piezoelectric vibrating piece 20 placed thereon, and a lid 65 for sealing up the piezoelectric vibrating piece.
圧電デバイス１００は、第１電極パターン２３と第２電極パターン２４とを有する圧電振動片２０と、第１面とこの反対面の第２面とを有し、圧電振動片２０を載置するガラスベース４５と、記圧電振動片を封止する蓋部６５と、を備える圧電デバイスである。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a microfluid chip capable of directly forming a periodical pattern and a periodic structure on a substrate surface without the need of forming resist having the periodical pattern corresponding to the periodic structure, the microfluid chip, and a generator of surface Plasmon resonance light.
周期構造に対応する周期的パターンを有するレジストを形成する必要がなく、周期的パターン及び周期構造を基板表面に直接形成できる、マイクロ流体チップの製造方法、マイクロ流体チップ、及び表面プラズモン共鳴光の発生装置の提供。 - 特許庁 - This landing pattern adjusting apparatus arranges the first, second, third and fourth correction coils 6, 7, 8 and 9 in the four corners of the back side against the display surface 2 of the cathode-ray tube 1 at least, and corrects the landing pattern on the display surface 2 by means of this first, second, third and fourth correction coils 6, 7, 8 and 9.
少なくとも陰極線管１の表示面２の背面側四隅にそれぞれ第１、第２、第３、第４の補正コイル６，７，８，９を設け、この第１、第２、第３、第４の補正コイル６，７，８，９により表示面２のランディングパターンを補正するランディングパターン調整装置とした。 - 特許庁 - Then, the image-reading part (A) detects the color and surface reflection light quantity of the color image of the test pattern which has been output to the paper sheet, and, on the basis of the detected color and surface reflection light quantity of the color image of the test pattern, the image-forming conditions in the image-forming part 3 are adjusted.
そして、用紙に出力されたテストパターンのカラー画像の色と表面反射光量とを画像読み取り部Ａで検知し、そのテストパターンのカラー画像の検知された色と表面反射光量とに基づいて、画像形成部３の画像形成条件を調整する。 - 特許庁 - As a color pattern by reflection light from a brilliant cut surface 8 appears to float on the surface of the decorative body 1, and also the color pattern by reflection light is changed by changing the direction to view and the angle to view, the play of color effect that is freely changeable, is enjoyed.
装飾体１の表面にはブリリアントカット面８からの反射光による色模様が浮き上がった感じに見えると共に、反射光による色模様が見る方向や見る角度を変えることで変化に富んだ色模様となり、変貌自在の遊色効果を楽しむことができる。 - 特許庁 - The printed circuit board includes a circuit pattern embedded in one surface of an insulating member 120, a build-up layer laminated on one surface of the insulating member 120, and including the circuit layer 144 formed in a build-up insulating layer 142 and having a via connected to the circuit pattern, and a solder resist layer 150 laminated on the build-up layer.
絶縁部材１２０の一面に含浸された回路パターン、絶縁部材１２０の一面に積層されたビルドアップ絶縁層１４２に回路パターンと連結されるビアを含む回路層１４４が形成されたビルドアップ層、及びビルドアップ層に積層されたソルダレジスト層１５０を含んでなる。 - 特許庁 - In addition, a metallic pattern which may be formed continuously with exciting electrodes 28a and 28b that constitute the vibration piece 26 is arranged on a step surface of the resin-made support mount 34 and the opposing surface to the base board 12 so as to contact the metallic pattern to the vibration piece mounted pads 18a and 18b.
また、支持マウント３４の段差面、およびベース基板１２との対向面に、振動片２６を構成する励振電極２８ａ，２８ｂと連続的に形成された金属パターンを形成し、前記金属パターンと振動片実装パッド１８ａ，１８ｂとを当接させるようにすると良い。 - 特許庁 - A first colorless transparent layer 16 and a second colored transparent layer 18 are formed on a surface 12A of a wooden body 12 to be decorated as a transparent layer 14, and a decoration layer 20 to which a pattern of a wood grain pattern is given by an ink section 22 is formed on a surface 14A of the transparent layer 14.
木製の被加飾体１２の表面１２Ａには透明層１４として無色の第一透明層１６と有色の第二透明層１８とが設けられ、透明層１４の表面１４Ａにはインク部２２により木目柄の模様が施された加飾層２０が設けられている。 - 特許庁 - The silicon nitride wiring substrate 1 is made up by including a wiring circuit-pattern 13 welded through brazing and formed of metal on a surface of a silicon nitride substrate 11, which is made of a silicon nitride based sintered compact, and including a plated layer formed on the surface of the wiring circuit-pattern 13.
開示される窒化珪素配線基板１は、窒化珪素質焼結体からなる窒化珪素基板１１の表面に金属からなる配線回路パターン１３がろう材により接合されるとともに、配線回路パターン１３の表面にめっき層が形成されて構成されている。 - 特許庁 - The antenna 100 has a transparent antenna layer 10 laminated on one surface of a base 1, wherein the transparent antenna layer composed of an aluminum pattern layer 2 and an aluminum oxide coating 3 formed on the surface of the aluminum pattern layer on the opposite side from the base side and having a thickness of ≤13 Å.
基材１の一方の面に透明アンテナ層１０が積層されてなり、該透明アンテナ層は、アルミニウムパターン層２と、該アルミニウムパターン層の少なくとも該基材側とは反対側の面に形成された厚みが１３Å以下のアルミニウム酸化物皮膜３とから成るアンテナ１００。 - 特許庁 - The method for production comprises laminating, on the substrate, the adhesive layer, an unfoamed polyolefin layer, the adhesive layer, the non-foaming thermoplastic resin layer and the printed pattern layer, foaming the unfoamed olefin foaming layer and embossing the surface including the printed pattern layer to make ruggedness on the surface.
製法は、基材の上に接着層、未発泡のオレフィン層、接着層、非発泡の熱可塑樹脂層および印刷絵柄層を順に積層した積層体を、未発泡のオレフィン発泡層を発泡させるとともに、印刷絵柄層を含む表面をエンボス加工して凹凸を設ける。 - 特許庁 - The liquid crystal aberration correction device 4 corrects wave aberration of a light beam advancing to the objective lens, and has a liquid crystal molecule layer 24, a first electrode pattern 41-45 arranged on one surface of the liquid crystal molecule layer and a second electrode pattern arranged on the other surface thereof.
対物レンズに向かう光線の波面収差を補正する液晶収差補正装置４であって、液晶分子層２４と、液晶分子層の一方の面に備えられた第１の電極パターン４１〜４５と、他方の面に備えられた第２の電極パターンとを有する。 - 特許庁 - Furthermore, a first insulating layer 131 is formed at a position separated from the solder bump 123 at least a prescribed distance L on the surface of the wiring pattern 122 on the reverse side of the substrate 121, and on the surface of the substrate 121 at a position where there is no wiring pattern 122.
更に、ビア１２５の内部を埋め、かつ、配線パターン１２２の基材１２１側とは反対の面及び配線パターン１２２の無い位置の基材１２１の表面であって、半田バンプ１２３から少なくとも所定距離Ｌだけ離れた位置に、第１絶縁層１３１が形成されている。 - 特許庁 - A mat 4 formed of a nonwoven fabric 4a printed with a color pattern and impregnated with a polyester resin is stacked on the waterproof bed surface of the building and a clear top coat 5 of a polyester resin is applied thereon to cause the color pattern of the nonwoven fabric to appear on a finished surface.
建築物の防水下地面上に、着色図柄を印刷した不織布４ａポリエステル樹脂を含浸させたマット４を積層し、その上にポリエステル樹脂からなるクリアトップコート５を塗着することにより、上記不織布の着色図柄を仕上げ面に現わす。 - 特許庁 - In the thermal transfer film comprising a base film, a release layer formed on the surface of the base film, a pattern layer formed on the release layer and the adhesive layer so formed as to cover the pattern layer, a thermoplastic film is laminated on the surface of the adhesive layer.
基体フィルム、該基体フィルムの表面上に形成された剥離層、該剥離層上に形成された絵柄層、及び該絵柄層を覆うように形成された接着剤層を含んでなる熱転写フィルムにおいて、該接着剤層の表面上に熱可塑性フィルムをラミネートする。 - 特許庁 - To provide a production method of a substrate for electronic components in which productivity is enhanced and the cost is reduced by facilitating the production even in the case of a substrate structure for a chip electronic components where a pattern, e.g. a terminal pattern, is formed from the upper surface of an insulating base through the outer circumferential side face to the lower surface.
端子パターン等のパターンを絶縁基台の上面から外周側面を介して下面に形成するチップ型の電子部品用基板構造であっても、その製造が容易で生産性が向上し、低コスト化が図れる電子部品用基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
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