「surface processing」を含む例文一覧(7705)
＜前へ 1 2 .... 101 102 103 104 105 106 107 108 109 .... 154 155 次へ＞- To provide a method capable of miniaturizing a spot size to a droplet amount, when spotting a droplet of a solution including a probe onto the base material (substrate) surface which has been subjected to application processing with an immobilization agent.
固定化剤塗布処理した基材（基板）表面に対して、プローブを含有する溶液の液滴をスポットする際、その液滴量に対するスポット径の微小化を可能とする手法の提供。 - 特許庁 - At that position an image of a mark displayed on the convex surface of the lens S1 is picked up and subjected to image processing to calculate the position of the mark and the position of an eye point, etc., is calculated from this mark information.
この位置で被検レンズS1の凸面に表示されているマークを撮像し、この画像を画像処理することによりマークの位置を算出し、このマーク情報からアイポイントの位置等を算出する。 - 特許庁 - To provide a method for improving appearance quality by reducing surface reflection, and preventing an opening associated with integration processing and color tone change between parts of an electrode pattern from becoming eye-catching, in a solar cell.
太陽電池において、表面反射の低減や集積化加工に伴う開孔、電極パターンの部分間での色調変化を目立たなくして、外観品質の向上を図る方法を提供する。 - 特許庁 - To enhance working efficiency and space utilizing efficiency by allowing laminated paper requiring no folding processing to be taken out from a front surface of a device with a cutting machine connected.
断裁機を連結したままの状態で綴じ処理済みで折り処理不要な積層用紙を装置の前面側から取り出せるようにして作業効率及びスペース活用効率の向上をはかる。 - 特許庁 - To provide a semiconductor element manufacturing method which can improve in-plane uniformity in etching of a processing target substrate and form an element isolation trench having a round and smooth bottom surface.
被処理基板のエッチングにおける面内均一性を向上させるとともに、丸みのある滑らかな底面を有する素子分離用トレンチを形成することができる半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an automatic ticket gate capable of properly processing a ticket check process relating to transit of a user at a 2-latch transit station by optically reading ticket information printed on a ticket surface.
券面に印刷されている乗車券情報を光学的に読み取り、２ラッチ乗継駅での利用者の乗り継ぎにかかる改札処理を適正に処理することができる自動改札機を提供する。 - 特許庁 - This ultrasonic vibrator is constituted by sticking metallic foil having a thickness of 100 μm or less to a piezoelectric ceramic surface of a rectangular thin plate of performing polarization processing in the thickness direction by forming an electrode part on both surfaces.
超音波振動子を、両面に電極部を形成して厚み方向に分極処理した矩形薄板の圧電セラミックス表面に、１００μ以下の厚みの金属箔を貼り付けて構成する。 - 特許庁 - The method for manufacturing a resin sealing sheet sequentially includes (1) a step of laminating a molten resin on the surface of the backsheet to form a sheet, and (2) a step of performing crosslinking processing for the resin.
以下の（１）及び（２）の工程をこの順で含む、樹脂封止シートの製造方法；（１）バックシート層の表面に溶融した樹脂を積層させてシート化する工程、（２）前記樹脂を架橋処理する工程。 - 特許庁 - In this laser cladding, the clad layer that contains the vanadium carbide is formed on the surface of a base material by a laser processing head capable of discharging a cladding material powder coaxially with an optical axis of laser light.
本レーザクラッディングでは、クラッディング材料粉末をレーザ光の光軸と同軸上に放出可能なレーザ加工ヘッドにより基材の表面にバナジウム炭化物を含有するクラッド層を形成する。 - 特許庁 - When cutting processing is performed, the acryl-urethane resin layer 4 with a high rigidity and a small elongation suppresses elongations of the base material sheet 6 and the surface sheet 2 to hardly generate the burrs, the mustaches, the whitening and the like on the cut part.
切削加工時には、剛性が高く伸びの少ないアクリルウレタン系樹脂層４が、基材シート６及び表面シート２の伸びを抑制し、切削加工部のバリやヒゲ、白化等を発生しにくくする。 - 特許庁 - Moreover, the shading correction-processing means estimates the quantity of light reached from a second light source 11 to an image sensor 25 in the back surface reading unit 20, and performs shading correction also based on the quantity of light.
また、シェーディング補正処理手段は、第２の光源１１から裏面読取ユニット２０内のイメージセンサ２５へと到達する光量を推定し、当該光量にも基づいてシェーディング補正を実行する。 - 特許庁 - The corrosion prevention processing liquid 4 is certainly fed to a recessed area surrounded by a solder resist on a surface of the product 1 by contacting the rolls 2, 3 with the product 1 while the rolls 2, 3 are rotated.
ロール２，３が回転しつつ製品１に接触することにより，製品１の表面上の，ソルダレジストに囲まれて凹んだ領域であるパッドにも防錆処理液４が確実に供給される。 - 特許庁 - To provide a processing method for a semiconductor substrate which enables to supply a proper amount of a surfactant uniformly to the surface of the semiconductor substrate and to reduce the total amount for use of the surfactant.
半導体基板の表面に界面活性剤を均一にかつ適量を供給でき、しかも界面活性剤の使用量の低減が図れる半導体基板の処理方法を提供する。 - 特許庁 - The image processing chip carried on a camera 4 photographs a puck P moving on the surface of the field board 21 to drive a motor M based on the information on the movement thereof so that the puck P hits an arm 5.
カメラ４に搭載してある画像処理チップはフィールド盤２１の面を移動するパックＰを撮像してその移動情報に基づきモータＭを駆動し、それにより、アーム５にパックＰが当たるようになる。 - 特許庁 - To prevent an atmosphere of solvent vapor generated by smoothing processing for smoothing the surface of a resist pattern from being leaked to the outside, and to facilitate the integration of a smoothing unit into a coating and developing system.
レジストパターン表面を平滑化するスムージング処理により発生した溶剤蒸気の雰囲気の外部への漏洩を防止し、スムージング処理ユニットの塗布・現像処理システムへの組み込を容易にすること。 - 特許庁 - Such a probe substrate for use in LSI inspection is manufactured by forming an inspection circuit on a surface of the insulating resin layer and subjecting bending processing with a die to a tip end of the circuit to form a probe.
このようなＬＳＩ検査用プローブ基板は、絶縁樹脂層の表面に検査用回路を形成し、この回路先端に金型による折曲げ加工を施すことによってプローブを形成して製造する。 - 特許庁 - Plasma is generated in the processing chamber 2 by supplying microwaves from a microwave supply device 37 and the surface of the article T is subjected to radical oxidation with oxygen radicals generated from the plasma.
マイクロ波供給装置３７の供給によって，処理容器２内にプラズマを発生させ，それによって発生した酸素ラジカルによって被処理体Ｔの表面にラジカル酸化処理を行う。 - 特許庁 - In this photosensitive material processing device 10 where paper P is carried by a carrying belt 24, the surface of the belt 24 coming in contact with the paper P is constituted of a gel-state member having tackiness.
ぺーパーＰを搬送ベルト２４により搬送する感光材料処理装置１０において、搬送ベルト２４のぺーパーＰと接触する面を粘着性を有するゲル状部材で構成する。 - 特許庁 - Surface treatment is carried out by immersing the wiring board 1 into the chemical 3 while ejecting the chemical 3 from a nozzle 4 disposed below the liquid level of the chemical 3 in the processing tank 2.
この際に、処理槽２内の薬液３の液面下に配置されたノズル４から薬液３を噴出しながら、配線用板１を薬液３に浸漬することによって、表面処理を行なう。 - 特許庁 - To improve quality and yield by forming a resist film uniformly in a resist film forming device for forming a resist film on a surface during a processing step of a photomask or a wafer.
本発明は、フォトマスクやウエハの加工工程で表面にレジスト膜を形成するレジスト膜形成装置に関し、レジスト膜形成の均一化を図り、品質向上、歩留り向上を図ることを目的とする。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus and method capable of efficiently removing resist residues on the surface of a substrate by using a sulphuric acid while using a hydrogen peroxide solution which is unstable at a high temperature.
高温で不安定な過酸化水素水を使用しながら、硫酸を用いて基板表面のレジスト残渣を効率よく除去することができる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。 - 特許庁 - A layer reformed by processing 13 is introduced into the concave surface of a curved nitride semiconductor crystal 12 grown epitaxially on a different kind of substrate by grinding with diamond abrasives or the like.
異種基板上にエピタキシャル成長させて得られた湾曲した窒化物半導体結晶１２の凹状の面にダイアモンド砥粒などにより研削を行って加工変質層１３を導入する。 - 特許庁 - The holding part has a lever part 8 capable of being elastically deformed and being projected upward from a processing liquid surface and the filter element 2 is detached by elastically deforming the lever part 8.
保持部が弾性変形可能かつ処理液面より上方に突出可能なレバー部８を有していて、このレバー部８を弾性変形させることによりフィルターエレメント２を取り外し可能にする。 - 特許庁 - The color data (WR, WG, WB) of the water surface object are added to the new color data by translucent processing in a prescribed ratio to generate final color data (NR, NG, NG).
そして、水面オブジェクトの色データ（ＷＲ，ＷＧ，ＷＢ）と新たな色データとが、半透明処理によって所定の比率で加算されて最終的な色データ（ＮＲ，ＮＧ，ＮＢ）が生成される。 - 特許庁 - Because of the processing performed in the inclined plane generating face 1a of the target tilting angle every ring zone, so called, by a formed grind-stone, the diffraction grating configuration is accurate and the surface roughness is also good.
各輪帯ごとに目標傾斜角度の斜面創成面１ａで研削するいわゆる総型の砥石による加工であるため、回折格子形状が正確で表面粗さも良好である。 - 特許庁 - The conductive material is manufactured by applying reflow processing after forming an Ni plating layer, and further, a Cu plating layer and an Sn plating layer as needed on the roughened base material surface.
この導電材料は、粗面化した母材表面に、必要に応じてＮｉめっき層、さらにＣｕめっき層及びＳｎめっき層を形成した後、リフロー処理を行うことにより製造する。 - 特許庁 - An element control part 240 performs illumination non-uniformity compensating processing for restraining a difference in illuminance of the fourth color component light on the irradiation surface based on the illumination non-uniformity stored in the storage part 230.
素子制御部２４０は、記憶部２３０に記憶された照度ムラに基づいて、照射面上における第４色成分光の照度の違いを抑制する照度ムラ補償処理を行う。 - 特許庁 - The installation position of the spray gun 31 can be finely adjusted by the multi-function unit 32 during coating processing, thereby enabling control for maintaining the distance between the surface of a tablet and the spray gun 31 constant.
マルチファンクションユニット３２によって、コーティング処理中にスプレーガン３１の設置位置を細かく調整でき、錠剤面とスプレーガン３１との距離を一定に保つような制御も可能となる。 - 特許庁 - To provide a film processing apparatus capable of reducing its manufacturing cost by reducing the number of parts, and delivering a film to a film scanner while preventing the emulsion surface of the film from being inverted.
その課題は、部品点数を少なくして製造コストを安価にし、さらに、フィルムの乳剤面が反転せずにフィルムスキャナー側にフィルムを受渡し可能なフィルム処理装置を提供することである。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus and method capable of efficiently removing resist residues on the surface of a substrate by using a sulphuric acid without using a hydrogen peroxide solution which is unstable at a high temperature.
高温で不安定な過酸化水素水を使用せずに、硫酸を用いて基板表面のレジスト残渣を効率よく除去することができる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a toner supply roller in which clogging of an elastic porous body with toner is reduced, grind residue on the surface of the elastic porous body and nonuniform processing are reduced, and a satisfactory image is thereby obtained.
弾性多孔体におけるトナーの目詰まりを少なくし、また弾性多孔体表面の研磨残りや加工ムラを少なくして、良好な画像が得られるトナー供給ローラを提供する。 - 特許庁 - The surface flaw inspection apparatus 10 inspecting the gold dust flaws of the steel plate 21 includes a halogen lamp 11, a CCD camera 12, a binarization means 15, a blob processing means 16, and a determination means 17.
鋼板２１のゴールドダスト疵を検査する表面疵検査装置１０は、ハロゲンランプ１１と、ＣＣＤカメラ１２と、二値化処理手段１５と、ブロブ処理手段１６と、判定手段１７と、を含む。 - 特許庁 - To provide a substrate processing method and a substrate processor that enable quick peel-off (removal) of a resist, having a resist hardening layer from the surface of a substrate, without damaging the substrate.
基板にダメージを与えることなく、基板の表面からレジスト硬化層を有するレジストを速やかに剥離（除去）することができる基板処理方法および基板処理装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a medical image processor confirming or improving reliability when utilizing a surface model for detection of a lesion candidate or the like, and a medical image processing method.
表面モデルを病変候補の検出等に利用する場合における信頼性の確認若しくは向上を可能とする医療用画像処理装置及び医療用画像処理方法を提供する。 - 特許庁 - The processing unit 10 is provided with a light transmission window 58 on the wall surface of the developer container 54, so that the existence of the toner is detected with light passing through the developing device through the light transmission window 58.
そして，プロセスユニット１０では，現像剤容器５４の壁面に光透過窓５８が設けられ，その光透過窓５８介して現像装置を貫通する光によってトナーの有無を検知する。 - 特許庁 - The ultrasound probe includes a micro-machined ultrasound transducer formed on the surface of a substrate using a micro-electric mechanical system techniques or other techniques with semiconductor processing.
超音波プローブ（１６）は、超小型電気機械システム技術又は半導体処理に関連した他の技術を使用して基板の表面上に形成された超微小機械加工超音波トランスデューサを含む。 - 特許庁 - A hydrophobic organic high polymer film, comprising a polyimide resin film containing a fluorine atom is formed on the surface of a member 1 exposed to vacuum in a vacuum processing chamber by deposition polymerization reaction.
真空処理室の真空中に露出される部材１の表面に、フッ素原子を含有するポリイミド樹脂膜から成る疎水性有機高分子膜を蒸着重合反応により形成する。 - 特許庁 - To provide a method and a device for generating a three-dimensional image to be applied to a three-dimensional object with the complicated surface shape and complicated textures as well and to enable a high speed processing.
複雑な表面形状や複雑なテクスチャをもつ３次元物体にも適用でき、かつ、高速処理が可能な３次元画像生成方法及び装置を提供することを課題としている。 - 特許庁 - To provide a method for finely processing a glass substrate where recessed parts are formed on the surface of the glass substrate and a fine recessed and projecting pattern being highly accurate and having a high aspect ratio can be easily formed and to provide the glass substrate having the recessed and projecting pattern.
ガラス基板表面に凹部を形成し、高精度で高アスペクト比の微細な凹凸部パターンを容易に形成できる微細加工方法および凹凸部パターンを有するガラス基板を提供する。 - 特許庁 - To provide a polyester laminate for covering the surface of a metal panel suitable for a metal can for a beverage, excellent in retort resistance, heat resistance, impact resistance, molding processability and flavor properties and manufactured by molding processing.
耐レトルト性、耐熱性、耐衝撃性、成形加工性、フレーバー性に優れ、成形加工によって製造される飲料用の金属缶に好適な金属板表面被覆用ポリエステル積層体を提供する。 - 特許庁 - Therefore, the indoor unit 7 can be easily installed in the cab of the driver's seat 2 by a simple processing operation to the rear wall surface 6 of the driver's seat 2 such that one hole 21 is opened in the back glass 20.
そのため、バックガラス２０に一個の孔２１を開けるだけが運転席２の後壁面６に対する加工作業になるので、簡単に室内機７を運転席２の室内に装着可能になる。 - 特許庁 - The coverage ratio of Al oxide generated when hot dip galvanizing is solidified on a galvanized film surface obtained from the image processing of an Al mapping image obtained by an Auger electron spectroscopy is set to be ≥ 50%.
オージェ電子分光分析法で求めたＡｌマッピング像の画像処理から得られるめっき皮膜表面の溶融亜鉛めっき凝固時に生成したＡｌ酸化物の被覆率を５０％以上とする。 - 特許庁 - To lessen the dispersion of surface processing within a wafer face, in a device which contrives the increase of hydrophobicity prior to applying resist on a semiconductor wafer, or a device which gelatinizes the applied film being the material of an insulating film.
半導体ウエハにレジストを塗布する前に疎水化を図る装置や絶縁膜の材料である塗布膜をゲル化する装置において、ウエハ面内の表面処理のばらつきを少なくすること。 - 特許庁 - To automatically set addition of an optimal opening hole anew without requiring trials and errors even when it is expected that coating film thickness of a work surface formed by immersion processing does not satisfy a criterion.
浸漬処理で形成されるワーク表面の被膜厚さが基準を満足しないことが予想される場合であっても、試行錯誤を要することなく、自動的に最適な開口孔を新たに追加設定する。 - 特許庁 - In the chamber of the film formation furnace 8b of the processing apparatus 8, a conductive film 89 for an electrode grows on an exposed surface of the p-type contact layer 35 to form a third substrate product E3.
処理装置８の成膜炉８ｂのチャンバにおいて、ｐ型コンタクト層３５の露出された表面の上に、電極のための導電膜８９を成長して、第３の基板生産物Ｅ３を形成する。 - 特許庁 - To easily adjust an exposure amount for each area finely set within a substrate surface, improve uniformity of a resist residual film after a development processing and suppress fluctuation in a line width and a pitch of a wiring pattern.
基板面内で細かく設定したエリア毎の露光量を容易に調整し、現像処理後のレジスト残膜の均一性を向上し、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制する。 - 特許庁 - The inexpensive surface protective film which prevents the adherend (especially optical members, such as optical sheet) from being electrostatically charged during processing or transportation of the adherend (in particular, optical sheet), is provided.
本発明は、被着体（特に光学シート）の加工、搬送時において、被着体（特に光学シートなどの光学部材）が帯電せず、さらに汚れ防止機能を有す安価な表面保護フィルムを提供する。 - 特許庁 - When adhering the glass 14 to the frame 12 having a projecting cross section, the adhesive agent 20 is filled in an adhesive agent filling part 16 having a semi-circular cross section and provided in a vertical surface 22 of the frame 12 processed by the primer processing.
断面凸型のフレーム１２にガラス１４を接着する際、プライマー処理をしたフレーム１２の立面２２に設けた、断面半円形の接着剤溜り１６に接着剤２０を溜める。 - 特許庁 - Data processing such as quantitative correction calculation by an ROI (Region Of Interest) integrated value and fitting is performed based on the spectrum, and surface distribution of the analysis parameter such as determined X-ray intensity and composition information is displayed.
そのスペクトルに基づいてＲＯＩ 積算値やフィッティングによる定量補正計算等のデータ処理を行ない、求められたＸ線強度や組成情報等の分析パラメータの面分布を表示する。 - 特許庁 - The illumination means irradiates a light of 420-530 nm wavelength range to an inspection surface of the wood to be inspected, and the processing means extracts a defect part based on the luminance in the photographed image.
上記照明手段は検査木材の検査面に４２０ｎｍ〜５３０ｎｍの波長域の光を照射し、上記処理手段は撮像された画像における輝度を基に欠陥部を抽出する。 - 特許庁
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