「surface processing」を含む例文一覧(7705)
＜前へ 1 2 .... 105 106 107 108 109 110 111 112 113 .... 154 155 次へ＞- The processing roll 3 and the delivery means 4 are arranged so that the unprocessed opening edge part 21 successively advances to the processing start point of the peripheral surface 30 at a predetermined advance angle with respect to the tangential line at the processing completion point of the peripheral surface 30 of the processing roll 3 when the molded object 2 is delivered by the delivery means 4.
開口縁部２１に丸め加工を施す周面３０を有する加工ロール３と、開口縁部２１を形成する周壁部２２をその内側及び外側から挟持しながら、加工ロール３の周面３０に未加工の開口縁部２１が逐次当接するように成形体２を繰り出す成形体の繰出し手段４とを備えており、加工ロール３及び繰出し手段４は、繰出し手段４で成形体２を繰り出したときに、未加工の開口縁部２１が加工ロール３の周面３０の加工終了点における接線に対して所定の進入角度で周面２０の加工開始点に逐次進入するように配設されている。 - 特許庁 - To manufacture a high-efficiency milling and turning device for processing all forms including plastic material, particularly, for all distributed spectacle lenses and free forms, optionally, by preliminary processing of an edge part, in an extremely short period of time and with high cutting capacity, high surface accuracy, and a high-quality surface, most inexpensive, and fully automatic, and to provide a method thereof.
特に、すべての流通している眼鏡レンズ用のプラスチック材料およびフリーフォームを含むすべての形状を、しかも場合によっては縁部予備加工によって、極めて短時間で、高い切削能力および高い表面精度および表面の高い質でもって、加工することができる、出来る限り安価な、全自動的な高性能フライス削り・旋削装置を製造し、このような方法を提供すること。 - 特許庁 - The flexible board or the flexible board module is manufactured by applying a polyurethane resin onto the resin film, laminating the high radiation material 13 with high heat conductivity and flexibility onto the resin film, joining both by thermal processing, applying the polyurethane resin onto the differently prepared resin film to laminate the applied surface onto the high radiation material 13 with the surface facing down, and then bonding both by thermal processing.
また本発明のフレキシブル基板若しくはフレキシブル基板モジュールの製造方法は、樹脂フィルムにポリウレタン系樹脂を塗布し、その上に熱伝導率が高く且つ柔軟性のある高放熱材１３を積層し、熱処理を加えて接合し、更に別に用意した樹脂フィルムにポリウレタン系樹脂を塗布したものを、その塗布面を下向きにして前記高放熱材１３の上に積層し、熱処理を加えて接合させる。 - 特許庁 - To provide a thermoplastic resin coated aluminum panel constituted by coating the surface of an aluminum panel or aluminum alloy panel with a thermoplastic resin having light perviousness, well holding the adhesion of a resin layer even if drawing processing or squeeze processing is applied and excellent in drawing processability and squeeze processability suppressing the cloudiness degree of an outer surface, and to provide a method for manufacturing the same.
アルミニウム板またはアルミニウム合金板の表面に光透過性を有する熱可塑性樹脂を被覆してなる熱可塑性樹脂被覆アルミニウム板において、絞り加工や、しごき加工を施しても樹脂層の密着性が良好に保持されると共に、外面の白濁の度合いを抑えた絞り加工性およびしごき加工性に優れた熱可塑性樹脂被覆アルミニウム板ならびにその製造方法を提供する。 - 特許庁 - The fluid jetting apparatus is equipped with a jetting head 4 which has a jetting surface 17 including a plurality of nozzles for jetting a fluid, a maintenance device which carries out the maintenance processing to the nozzles 16 of the jetting head 4, and a laser light irradiation device 15 including a laser light source part 51 which irradiates a laser light to the fluid L remaining on the jetting surface 17 by the maintenance processing by the maintenance device.
流体を噴射する複数のノズルを含む噴射面１７を有する噴射ヘッド４と、噴射ヘッド４のノズル１６に対するメンテナンス処理を行うメンテナンス装置と、メンテナンス装置によるメンテナンス処理により噴射面１７に残留した流体Ｌに対してレーザ光を照射するレーザ光源部５１を含むレーザー光照射装置１５と、を備える流体噴射装置である。 - 特許庁 - To provide a method for processing a ceramic material for an electronic component capable of accurately processing a second main surface side based on a position and/or a size of an electrode by optically detecting the position and/or the size of the electrode formed on a first main surface.
対向する第１，第２の主面のうち第１の主面に形成された電極を有する電子部品用セラミック材を該電極の位置及び／または寸法に基づいて加工するにあたり、光学的に第１の主面に形成された電極の位置及び／または寸法を検出し、該電極の位置及び／または寸法に基づいて第２の主面側における加工を高精度に行い得る加工方法を提供する。 - 特許庁 - In a device for performing a chemical vapor deposition on a substrate 18 placed in a processing chamber by supplying a processing gas to the substrate 18 from a shower head electrode 20 and by generating a plasma trenches 74 having a large aspect ratio are made on the insulating surface 72 of the outside surface of an insulating member 70 supporting the shower head electrode 20.
処理室１０内に配置された基体１８に対し、絶縁状態で配置されたシャワーヘッド電極２０から処理ガスを分散供給して発生したプラズマによる化学蒸着処理によって基体１８を蒸着する装置において、本発明はシャワーヘッド電極２０を支持する絶縁部材７０の外面である絶縁面７２に高いアスペクト比を有する溝のような造作７４を形成したことを特徴とする。 - 特許庁 - The system for fabricating an electronic device comprises a processing chamber employing a fluorine based gas for removing an insulating film between interconnect line layers and oxides on the contact surface of a semiconductor, a conveyor for conveying the semiconductor in order to remove fluorine remaining on the contact surface after the insulating film is removed, equipment for heat treating the semiconductor, and a system performing hydrogen based plasma processing of the semiconductor.
半導体のコンタクト表面の配線層間絶縁膜と酸化物を除去するためのフッ素系ガスを用いた処理チャンバと、絶縁膜を除去した後、コンタクト表面に残留するフッ素を除去するために前記半導体を搬送する搬送装置と、前記半導体を加熱処理するための加熱処理装置と、前記半導体を水素系のプラズマ処理をするためのプラズマ処理装置を用いる。 - 特許庁 - It includes, prior to the ashing, a step of removing a surface layer or a surface modified layer deposited on the surface of the resist pattern by the processing step under a low temperature.
被処理基体表面に、レジストのパターンを形成し、このレジストのパターンをマスクとして、所定の処理を行う処理工程と、アッシングにより、前記レジストのパターンを剥離するレジスト剥離工程とを含む半導体装置の製造方法であって、前記アッシングに先立ち、低温下で、前記処理工程によりレジストのパターンの表面に堆積された表面層あるいは、表面変質層を除去する工程を含む。 - 特許庁 - The pressing machine includes a plurality of rollers 32 for processing at least a part of the outer circumferential surface 28 of the cylindrical workpiece 20, a punch 10 engaged with the inner circumferential surface 26 of the workpiece 20 and relatively movable to the rollers 32, holders 34 with a cross section contacting with the roller 32 having an arcuate support surface 341, and retainers 36 facing the holders 34 with the rollers 32 interposed therebetween.
本発明のプレス機械は、筒状のワーク２０の外周面２８の少なくとも一部を加工する複数のローラー３２と、ワーク２０の内周面２６と係合し、かつ、ローラー３２に対し相対移動可能なパンチ１０と、ローラー３２と接触する断面が円弧状の支持面３４１を有するホルダ３４と、ローラー３２を挟んでホルダ３４と対向するリテーナー３６と、を含む。 - 特許庁 - In this optical sheet 1 used for illumination optical path control, for controlling an optical path of light entering from a light source 15 and emitting the light, an optical shape for condensing or diffusing light is formed on a light emission surface, and the optical shape is constituted of a combination of an approximately hemispherical microlens and a prism, and surface-roughening processing is applied to the surface of the optical shape.
光源１５から入射された光の光路を制御して出射する照明光路制御に使用される光学シート１において、光出射面に、光を集光又は拡散させる光学形状を形成し、この光学形状を、略半球状をなすマイクロレンズとプリズムとの組み合わせから構成し、光学形状の表面に粗面化処理を施す。 - 特許庁 - The plasma processing apparatus comprises a base 5 for holding the substrate 4 on the upper surface, and a source 8 (inert gas supply means) for supplying inert gas between the lower surface of the substrate 4 and the upper surface of the substrate holding base 5 through a gas channel 7 comprising a sleeve 71 (tubular body) inserted into the substrate holding base 5.
基板４を上面に保持する基板保持台５と、基板４の下面と基板保持台５の上面との間にガス流路７を介して不活性ガスを供給する不活性ガス供給源８（不活性ガス供給手段）とを備えたプラズマ処理装置において、不活性ガス供給源８のガス流路７を、基板保持台５に挿入されたスリーブ７１（筒状体）から構成した。 - 特許庁 - The apparatus for detecting contaminants on an external surface of a window of a viewing system comprises: at least one light source for reflecting light from contaminants on the external surface; an imager for capturing an image of the reflected light and converting the image into image data; and a processor for processing the image data to detect the contaminants on the external surface.
観察システムのウインドウの外側表面上の汚染物質を検出する装置は、外側表面上の汚染物質から光を反射させるための少なくも１個の光源；反射光を獲得しかつ画像を画像データに変換するための画像化装置；及び外側表面上の汚染物質を検出するために画像データを処理するためのプロセッサーを備える。 - 特許庁 - When the resin molded product having a photoset resin composition layer on its surface is formed by arranging a laminated sheet having the photoset resin composition layer in a mold and injecting a molten resin in the mold, surface fine uneven processing is applied to the surface of the photosetting resin composition layer before, during or after molding and the photosetting resin composition layer is subsequently subjected to photosetting.
光硬化性樹脂組成物層を有する積層シートを金型内に配置し、溶融樹脂を射出して光硬化性樹脂組成物層を表面に有する樹脂成形品を形成する際に、この成形の前、間又は後に光硬化性樹脂組成物層に表面微細凹凸加工を施し、次いで光硬化性樹脂組成物層を光硬化させる。 - 特許庁 - In the fixing device having the heat fixing member and a pressurization fixing member pressure welded to the heat fixing member, the heat fixing member is at least equipped with: the fluoroelastomer surface layer 3 to which carbon black to which surface oxidation processing is performed is distributed; and an oil supply means for applying dimethylsilicon oil having unsaturated bonding to the surface of the heating fixing member.
加熱定着部材と、該加熱定着部材に圧接される加圧定着部材とを有する定着装置において、加熱定着部材は、表面酸化処理されたカーボンブラックが分散されたフルオロエラストマー表層を少なくとも具備し、該加熱定着部材の表面に不飽和結合を有するジメチルシリコーンオイルを塗布するオイル供給手段を備えることを特徴とする定着装置。 - 特許庁 - To provide a surface processing method of a metal excellent in adhesiveness capable of attaining firm adhesion by a simple process regardless of the shape or the material relative to adhesion to a resin, a different kind of metal, a ceramic or the like, concerning the surface machining method for roughening the surface of aluminum or an aluminum alloy.
アルミニウム、アルミニウム合金表面を粗面化するための表面加工方法に関し、樹脂や異種金属、セラミック等との接着等に際し形状や材質にかかわらず、簡単な工程により強固な接着力が達成できるような接着性に優れた金属の表面処理方法、及び該表面処理方法により得られた表面を有する金属部材を提供する。 - 特許庁 - Moreover, the wafer processing apparatus includes a multi-joint robot 60 for executing at least any one of transfer of the wafer integrated with the mount frame in the dicing tape attaching unit to the front surface protection film peeling unit through inversion thereof and transfer of the wafer from which the front surface protection film is peeled in the front surface protection film peeling unit to the wafer accommodating place.
さらに、ウェーハ処理装置は、ダイシングテープ貼付ユニットにおいてマウントフレームと一体化されたウェーハを反転させて表面保護フィルム剥離ユニットまで搬送すること、および表面保護フィルム剥離ユニットにおいて表面保護フィルムが剥離されたウェーハを該ウェーハの収容場所まで搬送することの少なくとも一方を行う多関節ロボット（６０）を具備する。 - 特許庁 - The method for manufacturing the silicon boat for supporting a semiconductor wafer W during thermal process comprises: a process of forming a silicon material into a boat by mechanical processing; and a process of removing or thinning a damaged layer D on the surface of the silicon material created by the mechanical processing.
半導体ウェーハＷの熱処理時に半導体ウェーハを支持するシリコン製のボートの製造方法であって、機械加工によりシリコン材料をボートの形状に成形する工程と、前記機械加工で生じた前記シリコン材料の表面のダメージ層Ｄを除去又は薄くする工程とを有する。 - 特許庁 - To provide a rear spoiler which enhances sense of unity with a car body by reducing a step near boundary with the car body, has required feeling of rigidity, omits surface finish processing such as sanding processing conventionally required for the blow-molded spoiler, and also has an excellent aesthetic appearance.
車体との境界付近の段差を少なくして車体との一体感を高めることができ、しかもリアスポイラーに必要な剛性感があり、さらには従来、ブロー成形されたリアスポイラーに必要とされてきたサンディング処理等の表面仕上げ処理を省略でき、かつ美観にも優れるリアスポイラーを提供する。 - 特許庁 - To provide a polyester film excellent in film forming properties, reducing roll abrasion in a film forming process and, in molding a metal can be subjecting a metal panel to can making processing, for example, deep draw processing after the polyester film is laminated to the metal, excellent in laminate aptitude, abrasion resistance, deep drawing properties, impact resistance after can making, heat resistance and can outer surface whiteness.
製膜性に優れ、製膜工程でのロール摩耗が少なく、かつ金属板と貼合せた後、製缶加工、例えば深絞り加工して金属缶を成形するにあたり、ラミネート適性、耐磨耗性、深絞り加工性、製缶後の耐衝撃性、耐熱性、缶外面白度に優れたポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁 - The optical network unit 10 comprises the case 15 mounted on a mounting surface 13; an extra length processing part 17, which is accommodated in the case 15 and collects extra length parts 12A of optical fibers; and a circuit board 18 which is accommodated in the case 15 so as to be laminated with respect to the extra length processing part 17.
光終端装置１０は、取付面１３に取り付けられる筐体１５と、筐体１５に収容されて光ファイバ１２の余長部１２Ａを収束させる余長処理部１７と、余長処理部１７に対して積層するように筐体１５に収容される回路基板１８とを備える。 - 特許庁 - When light diffusion processing parts 14 are formed on the surface of a core formed on a part from which a part of the clad 11 of the cable 10 is removed, light propagated into the core 12 is scattered on the processing parts 14, so that only a necessary part can be concentrically irradiated with light.
照明用光ケーブル１０のクラッド１１の一部が除去された部分のコア１２の表面に光拡散処理部１４が形成されている場合には、コア１２内を伝搬した光が光拡散処理部１４で散乱するので、必要な部分にのみ光を集中して照射することができる。 - 特許庁 - A magnet coil 8 and a storage tank 9 for the magnetic abrasive grains as the processing medium for roughening processing of a workpiece 2 in the surface treatment device 1 are each equally sized not more than a half of the workpiece 2 and integrated with each other.
表面処理装置１の加工対象物２を粗面化処理する処理媒体としての磁性砥粒を収容する磁性砥粒収容槽９と電磁コイル８とを加工対象物２の１／２以下であって、かつ夫々同じ長さに設け、さらに磁性砥粒収容槽９と電磁コイル８を一体に設ける。 - 特許庁 - To provide a propylenic resin film that is composed of a propylenic resin inexpensively and efficiently manufactured by a gas phase method, is excellent in blocking property and surface smoothness, prevents a film roll from wrinkling when wound into a roll shape, and also, is excellent in processability during bag-making processing or printing processing.
気相法によって安価に効率的に製造されるポリプロピレン系樹脂からなり、耐ブロッキング性に優れており、滑り性が良好であり、ロール状に巻き取ったときにフィルムロールに皺が入りにくく、製袋加工時や印刷加工時における加工性の良好なポリプロピレン系樹脂フィルムを提供する。 - 特許庁 - An unnecessary signal detection circuit 15 judges whether the level of the unnecessary signal of sea surface reflection, rain and snow reflection or the like contained in the receiving signal exceeds a prescribed value, when it exceeds the prescribed value, the result of the correlation processing is written to a memory 10, and when it does not exceed the prescribed value, the result of the residual image processing is written to the memory 10.
不要信号検出回路１５は受信信号に含まれる海面反射や雨雪反射等の不要信号のレベルが所定値を超えるか否かを判定し、所定値を超える時、相関処理の結果をメモリ１０に書き込み、所定値を超えない時、残像処理の結果をメモリ１０に書き込む。 - 特許庁 - To provide a connection structure for a nut, an internal cylinder, and a stopper in a linear actuator which doesn't require screw processing on an outer surface of an internal cylinder, simultaneous processing of a hole of a spring pin for connecting the nut, internal cylinder and stopper, also a stop nut, and nor welding of the stopper into the internal cylinder.
内筒の外周面のねじ加工を不要とし、ナットと内筒とストッパとを連結するためのスプリングピン用穴の同時加工を不要とし、止めナットを使用する必要がなく、内筒にストッパを溶接する必要がない直線作動機におけるナットと内筒とストッパとの連結構造を提供する。 - 特許庁 - Since the ground electrodes 23 and 23 are arranged in a case part 11 with a signal processing circuit, it is possible to simplify the connection structure between the signal processing circuit and the ground electrodes 23 and 23 in comparison with the case that the ground electrodes 23 and 23 are provided for both end parts 20A and 20B of the measuring tube 20 protruding to the external surface of the case part 11.
また、アース電極２３，２３が、信号処理回路と共にケース部１１の内部に配置されたから、アース電極２３，２３がケース部１１の外面に突出した計測管２０の両端部２０Ａ，２０Ｂに設けられた場合に比較して、信号処理回路とアース電極２３，２３との接続構造が簡素化できる。 - 特許庁 - A line processing guide member 30 is a resin member fixed to a second side plate 22, and multiple wiring guides 30a preventing lifting of wiring 31 of a power source substrate 25a, two core attachment parts 30b to which a ferrite core 33 is attached, and a support part 30c supporting a rear surface of the power source substrate 25a are formed in the line processing guide member 30.
線処理ガイド部材３０は、第２側板２２に固定される樹脂製の部材であり、電源基板２５ａの配線３１の浮き上がりを防止する複数の配線ガイド３０ａと、フェライトコア３３を取り付ける２箇所のコア取付部３３ｂと、電源基板２５ａの裏面を支持する支持部３０ｃが形成されている。 - 特許庁 - By providing the substrate processing device with the above structure, the time when a photoresist liquid reaches the surface of the substrate W can be accurately detected without influenced by the film state of the substrate W and timings to execute the series of the processing programs can be accurately determined to process the substrate with good accuracy.
上述のような構成を基板処理装置に備えることによって、基板Ｗの成膜の状態に影響されずに、フォトレジスト液が基板Ｗの表面に到達したことを正確に検出することができて、一連の処理プログラムを実行するタイミングを正確に把握して、基板処理を精度良く行うことができる。 - 特許庁 - The method of manufacturing the flexible printed board is characterized by maintaining an oxygen concentration in an etching processing atmosphere at 2 vol.% or below in a process of forming a copper wiring pattern by performing etching processing on a copper coating layer formed at least on one surface of an insulator film without interposing an adhesive.
フレキシブルプリント基板の製造方法であって、絶縁体フィルムの少なくとも片面に接着剤を介さずに形成された銅被覆層をエッチング処理して銅配線パターンを形成する工程における前記エッチング処理雰囲気の酸素濃度が、２体積％以下に維持されることを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a groove processing method in which groove processing can be completed in a short time and generation of a burr is suppressed, when a groove is processed on a discharge surface, in order to enable discharging at a low voltage by causing an electric field concentration through reduction of the tip area.
本発明の目的は、チップ面積を減少させることによって電界集中を起こして低電圧での放電を可能とすることを目的とし放電面に溝加工をする際に、短時間で溝加工を完了させることができ、かつ、バリの発生が抑制させられた溝加工方法を提供することである。 - 特許庁 - To provide a semiconductor device manufacturing method, capable of reducing a step structure in film formation obtained on the surface of a semiconductor substrate, reducing the thickness of the film formation required for planalization processing after the film formation, shortening a time required for a planalization processing process, and improving the productivity.
半導体基板の表面に形成される成膜の段差を減少させ、成膜後の平坦化処理に必要な成膜の厚さを減少させ、平坦化処理工程にかかる時間を短縮し生産性を向上させることができる半導体デバイスの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To allow even an unexpert person to inexpensively perform burying processing and water cut-off processing at a high speed, without being influenced by an environment such as the atmospheric temperature and humidity and a water leakage state, by adopting a complete dry construction method for driving a mold in a plastic cone hole generated on a skeleton surface of a concrete structure by removing a form.
型枠を取り外す事でコンクリート構造物の躯体面に生じるＰコン跡穴を成形品を打ち込む完全乾式工法を採用することで、気温や湿度等の環境や漏水状態に影響されずに、又専門職でなくても高速に安価に埋め込み処理や止水処理を行う。 - 特許庁 - The system 1 for processing a substrate comprises a shielding section 12 provided with a large number of micro openings 121b for jetting gas, a rotating base 11 having pins 112 secured to a rotary base 111, a motor 21 for rotating the rotary base 111, and a supply pipe 311 for jetting processing liquid towards the lower surface of a substrate 9.
ガスを噴出する微小な噴出口１２１ｂが多数形成された遮蔽部１２、回転台１１１に固定されたピン１１２を有する回転ベース１１、回転ベース１１を回転させるモータ２１、および、基板９の下面に向けて処理液を吐出する供給管３１１を基板処理装置１に設ける。 - 特許庁 - Metal impurity at the surface area of the substrate is removed by supplying a substrate processing liquid formed of alkali solution of 10 weight% or more including CyDTA (trans-1, 2-diaminocyclohexane 4 acetic acid) reaction of metal impurity dispersed into the substrate processing solution and CyDTA.
ＣｙＤＴＡ（トランス−１,２−ジアミノシクロヘキサン４酢酸）を含む１０重量％以上のアルカリ溶液からなる基板処理液を基板に供給してこの基板の表面部にある金属不純物を除去し、基板処理液中に分散した金属不純物とＣｙＤＴＡとを反応させる構成とする。 - 特許庁 - Rib processing is performed to a projection surface 31 of a fixing guide 30 which is provided by press processing a steel plate on a circular base plate 10 fixed on either a seat cushion or a seat back of the reclining device, and recessed grooves 32 are formed on a straight line going in an orthogonal angle direction with respect to a sliding direction of a lock gear and a movable guide.
リクライニング装置のシートクッション又はシートバックの何れか一方に固定される円形のベースプレート１０に鋼板をプレス加工して設ける固定ガイド３０の突出面３１にリブ加工を施し、ロックギヤと可動ガイドの摺動方向に対して直角方向に向かう一直線上に凹溝３２を形成する。 - 特許庁 - To provide an adhesive film for processing a semiconductor, along with its manufacturing method, capable of suppressing degradation of a cutter knife at cutting out after pasting of a semiconductor wafer with neither burr formation nor chip occurrence, relating to the adhesive film for processing a semiconductor wafer in which a bump electrode is so formed as to protrude from a main surface.
突出電極が主面から突出して形成された半導体ウェハの加工用接着フィルムであって、半導体ウェハ貼り合せ後の切り出しにおいてカッターナイフの劣化を抑制するとともに、バリの形成や切削屑等の発生させない半導体加工用接着フィルムおよびその製造方法の提供。 - 特許庁 - A substrate cleaning apparatus 10 includes: a holding plate 30 for holding a substrate W; a lift pin plate 20 arranged above the holding plate 30 and having a lift pin 22 for supporting the substrate W from the lower side; and a processing liquid supply unit 40 for supplying the processing liquid to the rear surface of the substrate W held by the holding plate 30.
基板洗浄装置１０には、基板Ｗを保持する保持プレート３０と、保持プレート３０の上方に設けられ、基板Ｗを下方から支持するリフトピン２２を有するリフトピンプレート２０と、保持プレート３０により保持された基板Ｗの裏面に処理液を供給する処理液供給部４０とが設けられている。 - 特許庁 - The method for producing the rubber-reinforcing wire, comprising applying a metal-plating treatment using a copper-zinc alloy plating bath not containing a cyan compound to a rubber-reinforcing wire and then applying a wire-drawing processing to the plated wire, includes surface-treating the rubber-reinforcing wire with a cobalt salt solution after the application of the wire-drawing processing.
ゴム補強用線条体に対して、シアン化合物を含まない銅−亜鉛合金めっき浴を用いてめっき処理を施した後、伸線加工を施すゴム補強用線条体の製造方法において、伸線加工を施した後に、ゴム補強用線条体をコバルト塩溶液にて表面処理をする。 - 特許庁 - The surface shape of the evaporation pipe 4, including a reference mark representing a reference position of the evaporation pipe 4, is measured by using an inspection device 11 which includes a supporting part 14 to be fixed to evaporation pipes 4, a displacement sensor 12 supported by the supporting part 14 and a signal processing device 16 for processing the signal from the displacement sensor 12.
蒸発管４に固定される支持部１４と、支持部１４に支持される変位センサ１２と、変位センサ１２からの信号を処理する信号処理装置１６とを備える検査装置１１を用いて、蒸発管４の基準位置を示す基準マークを含む蒸発管４の表面形状を計測する。 - 特許庁 - When the total number of pages of the image data after the division processing is M pages, the printer driver allocates the image data of the Pth page (P is the variable of a natural number, 1≤P≤M/2) and the image data of (M+1-P)th page on one surface of a print sheet, and performs allocation processing about all the image data for the M pages.
プリンタドライバは、分割処理後におけるイメージデータの総ページ数がＭページである場合に、Ｐページ目（Ｐは自然数の変数、１≦Ｐ≦Ｍ／２）のイメージデータと、（Ｍ＋１−Ｐ）ページ目のイメージデータとを、印刷用紙の一面に割り付けることで、Ｍページ分の全てのイメージデータについて割り付け処理を行う。 - 特許庁 - To provide an image processing method, an image processing device, an image forming apparatus, a computer program, and a recording medium recording the computer program capable of generating a half-tone image which has less density unevenness or surface roughness and in which dots in a highlight area are hard to be perceived, and capable of improving image quality.
濃度むら、又はざらつきが少なく、かつハイライト領域のドットが知覚しにくい中間調の画像を生成することができるとともに、画質を向上させることができる画像処理方法、画像処理装置、画像形成装置、コンピュータプログラム及びコンピュータプログラムを記録した記録媒体を提供する。 - 特許庁 - The heating scattering mechanism warms a purge gas supplied to the lower surface of the protective plate and uniformly scatters it to the periphery of the protective plate, and absorbs heat of the protective plate that is heated by heat transmitted to the lower side and the periphery among heat produced in the thermal processing section, by the purge gas, and returns it to the thermal processing chamber.
この加熱分散機構は、保護板の下側面に供給されたパージガスを暖めて当該保護板の周囲に均等に分散させると共に前記熱処理部で発した熱のうち下側と周縁に伝わる熱を受けて熱せられた前記保護板の熱をパージガスで吸収して前記熱処理室に環流させる。 - 特許庁 - To provide a plasma processing device and a plasma processing method by which plasma discharging can be maintained regardless of whether or not the process object body is facing an applying electrode and the surface of the process object body can be uniformly processed by plasma discharging regardless of the existence of a conductive pattern formed on the process object body.
被処理体が印加電極に対面しているかいないかに関わらずプラズマ放電を持続できるとともに、被処理体上に形成されている導電性パターンの有無に関わらずプラズマ放電により被処理体の表面を均一に処理することができるプラズマ処理装置およびプラズマ処理方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide an evaluating method for judging the existence of a contact by a shape change in a dye ball by particularly spraying a dye containing droplet onto a liquid repellent processing surface and the vicinity, and applying stress by the contact to the coagulated fine dye ball in a method for discriminating the existence of a liquid repellent film in liquid repellency processing.
本発明は、撥液処理における撥液膜の存在の有無を判別する方法に関し、特に染料入り液滴を撥液処理面およびその近傍に噴霧し、凝固した微細な染料球に接触による応力を負荷し、同球の形態変化によって接触の有無を判断する評価方法を提供する。 - 特許庁 - During an interval from a time when laser beams are emitted from a RF exciting laser emitter to a time when the laser beams are finally condensed, a laser mask is interposed, and the laser beams which are different in an energy density between a center part and an outer peripheral part are emitted, whereby it is possible to form a curved surface in a hole processing or a groove processing.
ＲＦ励起方式のレーザー発振装置から発振されたレーザービームが最終的に集光されるまでの間に、レーザーマスクを介在させ中央部と外周部でエネルギ−密度の異なるレーザービ−ムを発生させる事により、孔加工や溝加工において曲面付けすることを可能にする。 - 特許庁 - Optical scanning is performed by using the same polygon mirror 23a for respective photoreceptors (1YC and 1MK) in an adjacently provided pair consisting of two processing units (10YC and 10MK), and the surface of the belt is made to circulate twice so that toner images by the respective processing units may be superposed and transferred every time the belt circulates.
２つのプロセスユニット（１０ＹＣ，１０ＭＫ）からなる隣設対について、それぞれの感光体（１ＹＣ，１ＭＫ）に対して同一のポリゴンミラー２３ａを用いて光走査を行わせ、且つ、ベルト表面を２周させて、周回毎に各プロセスユニットによるトナー像を重ね合わせ転写させるようにした。 - 特許庁 - The processing method of substrate for removing a resist layer 3 and a polymer layer 5 form a substrate W following etching comprises a first step for rendering the surface part 6 of a resist layer 3 and a polymer layer 5 existing on a substrate W to be hydrophilic, and a second step for subsequently removing the resist layer 3 and the polymer layer 6 with a processing liquid.
エッチング後の基板Ｗからレジスト層３およびポリマー層５を除去する基板処理方法であって、基板Ｗ上に存在するレジスト層３およびポリマー層５の表面部分６を親水性にする第１工程と、その後処理液によりレジスト層３およびポリマー層６を除去する第２工程とを具備する。 - 特許庁 - To provide an image forming apparatus capable of obtaining a fine fixed image by extracting feature values on the surface of a recording medium, performing highly accurate sheet determination and performing fixing processing under an optimum fixing processing condition even in recording media of various sorts while improving usability and cost performance.
ユーザービリティ及びコストパフォーマンスの向上を図りつつ、記録材表面の特徴量を抽出し、精度の高い用紙判別を行い、様々な種類の記録材においても最適な定着処理条件で定着処理を施し良好な定着画像を得ることができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - A metal mold after release processing is coated with ultraviolet-ray setting resin 16, and a light-transmissive product substrate 2 after silane coupling processing is pressed against the resin; and the reverse surface side of the product substrate 2 is irradiated with uniform ultraviolet rays to set the ultraviolet-ray setting type resin layer 16 and then the metal mold is released.
離型処理した金型上に紫外線硬化型樹脂１６を塗布し、その上にシランカップリング処理した光透過性の製品基板２を押し当て、製品基板２の裏面側から均一な紫外線光を照射して紫外線硬化型樹脂層１６を硬化させた後、金型を剥離する。 - 特許庁
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