「surface processing」を含む例文一覧(7705)
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このダイアモンド１０は、原石のクラウン形成側をレーザにより半円状に切断し、加工後の原石のクラウン形成側に対して研磨粉を用いて研磨処理して湾曲面を含むテーブル１５を形成し、原石のパビリオン側を研磨処理してパビリオン１２を形成することにより得られる。 - 特許庁 - To provide a charged particle beam device capable of removing extraneous matter like dust or foreign substances obstructing observation of a sample surface or a processing position in a sample just before the observation and processing of the sample, by providing a sample exchanging device of the charged particle beam device with a removing function.
荷電粒子線装置で試料において、試料表面の観察や加工部位に妨げとなる付着物等のゴミや異物を除去することを目的としており、荷電粒子線装置の試料交換装置に除去機能を有することで試料の観察，加工時直前に実施でき付着物を着実に除去できる。 - 特許庁 - Piezoelectric sensors having a piezoelectric thin film formed over a film-shaped substrate are arranged in an array state on the surface of the ultrasonic probe, and a sensor output signal processing unit outputs, on the basis of the output signals coming from individual piezoelectric sensors S1, S2 to S9, the pressure measured on and coming from the individual piezoelectric sensors, to an image processing unit.
フィルム状の基板上に圧電体薄膜を形成した圧電センサは、超音波探蝕子表面にアレイ状に配置されていて、センサ出力信号処理部は、各圧電センサからの出力信号に基づいて、各圧電センサＳ１，Ｓ２，…，Ｓ９について、計測した圧力を画像処理部に出力する。 - 特許庁 - The gas spray nozzle 93 is equipped with a plurality of spray openings 93a which are arranged in line in the crosswise direction of the processing space 84 to generate a stable flow of gas inside the processing space 84 so as to enable gas from the spray openings 93a to pass over the surface of the substrate W in a laminar flow.
ガス噴射ノズル部９３は、プロセス空間８４の横幅方向に複数の噴射口９３ａが一列に配置されており、複数の噴射口９３ａから噴射されたガスが層流状態で被処理基板Ｗの表面を通過するようにプロセス空間８４の内部に安定した流れを発生させる。 - 特許庁 - Thereby, a gas flow of the activated plasma-forming gas G is blasted out from the plurality of through-holes 2 and supplies it to the processing object 5, to have high-efficiency and uniform plasma generated over a large area, whereby surface treatment for the processing object 5 can be executed uniformly over a large area with a small gas flow.
これにより、活性化されたプラズマ生成用ガスＧのガス流を複数の貫通孔２から吹き出して被処理物５に供給し、大面積に亘って高効率で均一なプラズマを発生させるて、少ないガス流量で大面積に亘る被処理物５の表面処理を均一に行うことができる。 - 特許庁 - To provide a high processing characteristic in which, as a polishing agent for polishing a plane having Cu and a Cu alloy applied on a semiconductor device, adhesive grains leading to a factor of surface defects such as dishing or the like are not at all included, and a practical processing speed of 200 nm/min can be attained, and an etching speed is very low.
半導体デバイス上に施したＣｕ及びＣｕ合金を有する面を研磨する際の研磨液として、ディッシング等の表面欠陥発生の要因となる砥粒を全く含有せず、実用的な加工速度２００ｎｍ／ｍｉｎが達成でき、エッチング速度も極めて低い高加工特性を提供する。 - 特許庁 - The sand blasting processing is alternately applied from both pipe ends of a small diametrical pipe 11a in a state of bending the ground small diametrical pipe 11a with an internal stress of lower than an elastic limit or higher than the elastic limit and giving rotation around a pipe axis in grinding the inner peripheral surface of the small diametrical 11a by the sand blasting processing.
細径管１１ａの内周面をサンドブラスト処理によって研削する際、被研削細径管１１ａを弾性限界以下または弾性限界以上の内部応力で湾曲させ、かつ管芯周りに回転を与えた状態で該細径管１１ａの両管端より交互にサンドブラスト処理を施す。 - 特許庁 - The first material and the second material have mutually different material properties with respect to a predetermined substrate processing step so that a level difference can be formed between at least the mark portion and at least the one zone in a substantially perpendicular direction to the substrate surface by performing the substrate processing step.
第１の材料と第２の材料とは、所定の基板処理工程がなされることにより少なくとも１つのマーク部と少なくとも１つの区域との間に基板表面に実質的に垂直な方向の段差が形成され得るように該基板処理工程について異なる材料特性を有する。 - 特許庁 - After a thin film 2 is formed of an organic material on a substrate 1 and a portion of the thin film to be removed is irradiated with laser light to perform pattern processing by thermal abrasion, the entire surface on which the lasers abrasion is carried out is subjected to ashing processing 8 to form a pattern from which even a remaining film 7 is also efficiently removed.
基板１上に有機材料からなる薄膜２を形成し、その薄膜のうち除去すべき部分にレーザー光４を照射して熱アブレーションによるパターン加工を行った後、レーザーアブレーションが施された表面全面にアッシング処理８を施すことにより、残膜７も効率的に除去されたパターンを形成する。 - 特許庁 - To prevent white surface fogging or to improve transfer efficiency and to make processing speed higher and to improve the display quality of a developed image by completely removing excess liquid developer remaining on an latent image holding body without causing irregularities in the developed image nor spoiling high speed processing after finishing development with liquid developer.
液体現像剤による現像終了後、現像画像を乱すことなく又、プロセスの高速性を損なうことなく、潜像保持体に残留する余剰液体現像剤を充分に除去し、白地かぶりを防止し、あるいは転写効率を向上し、プロセス速度の高速化及び現像画像の表示品位向上を図る。 - 特許庁 - This processor transfers the mask between a mask supplying section held at atmospheric pressure and a decompressed or vacuum processing chamber, and has a transfer means which sucks and holds the protective mechanism 100 for protecting a pattern surface PT in a non-contact manner, and transfers the mask MK held by the protective system between the mask supplier and the processing chamber.
大気圧に維持されたマスク供給部と減圧または真空の処理チャンバとの間でマスクを搬送する処理装置であって、パターン面ＰＴを非接触に保護する保護機構１００を吸着し、保護機構に保持されたマスクＭＫをマスク供給部と処理チャンバとの間で搬送する搬送手段とを有する。 - 特許庁 - To provide an inductively coupled plasma processing apparatus capable of symmetrically and uniformly generating a plasm density distribution throughout the center part and an outer periphery by forming openings for entering a processing gas at the center part of the lower part in a reaction chamber and a side surface thereof and by providing fan-shaped antennas below the reaction chamber.
反応チャンバ内の下部中央部及び側面に処理ガスの流入口を形成し、反応チャンバ下部に扇形アンテナを具備することでプラズマ密度分布を中央部と外郭にかけて対称的でかつ均一に発生させることができる誘導結合型プラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an acrylic resin film-formed material, without getting white on a formed article on performing an insert molding or in-mold molding, also without getting white on the formed article on performing a V-cut processing or lapping processing, and satisfying a surface hardness and heat resistance capable of being used in uses of vehicles and construction materials.
インサート成形、またはインモールド成形を施した時に、成形品が白化しない、また、寒冷地でＶカット加工やラッピング加工を施した時に、成形品が白化しない、かつ車輌用途、建材用途に用いることができる表面硬度、耐熱性を満足するアクリル樹脂フィルム状物を提供すること。 - 特許庁 - A surface mounting apparatus 100 (substrate processing apparatus) includes a substrate transfer part 10 transferring a printed substrate 110, a laser length measuring device 25 detecting the state of an arrangement regarding the printed substrate 110 in the substrate transfer part 10, and an operation processing part 71 determining whether or not the arrangement is conducted correctly.
この表面実装機１００（基板処理装置）は、プリント基板１１０を搬送する基板搬送部１０と、運転を開始する際に、基板搬送部１０におけるプリント基板１１０に関する「段取り」の状態を検出するレーザ測長器２５と、この「段取り」の良否を判別する演算処理部７１とを備えている。 - 特許庁 - This fabric contains ultra-fine fibers having a fiber diameter of 700 nm or less, and has the whole or partial surface of the fabric has a filmy shape formed by uniting the ultra-fine fibers, and the filmy part is formed by compressing by performing calender-processing and/or emboss-processing, and the method for producing the same is also provided.
繊維径が７００ｎｍ未満の極細繊維を含む布帛であって、該布帛の全面もしくは一部分が超極細繊維が合一してなるフィルム状であって、該フィルム状の部分がカレンダー加工および／またはエンボス加工を施すことによる押圧加工により形成されたことを特徴とする布帛、その製造方法。 - 特許庁 - The program to be used for the printing processing system and the recording medium storing the program allow the printing instructing device to determine in accordance with the set printing conditions whether surface printing or reverse printing is executed for every printing page and to generate the printing data adaptable for printing processing.
また、その印刷処理システムに用いられるプログラムとそのプログラムを格納した記録媒体であって、印刷指示装置に、設定される印刷条件に基づき、印刷ページ毎に表面印刷か、裏面印刷かを判断させ、印刷処理を行うことが可能となる印刷データを生成させるようにする。 - 特許庁 - To enhance cleaning power by employing a cleaning liquid for semiconductor substrate composed of ammonia, hydrogen peroxide and ultrapure water and specifying the relationship between the processing temperature, processing time and the mol concentration ratio between ammonia and hydrogen peroxide thereby suppressing roughness on the surface of the substrate.
半導体装置等の製造プロセスにおいて、基板の表面あれを発生させずに基板表面から異物を効果的に除去できる半導体基板表面の洗浄液、および当該洗浄液を用い処理後の基板表面状態を厳密に制御できる基板表面の処理方法を提供する。 - 特許庁 - A determining means 25 compares positions in the light extraction surface of the bright pixel region extracted by the first processing means 23 and the dark pixel region extracted by the second processing means 24 to determine the region to be a defective region where the flaw eliminates irregularity if the positions of both correspond to each other.
判定手段２５は、第１の処理手段２３で抽出された明画素領域と第２の処理手段２４で抽出された暗画素領域との光取出面内での位置を比較し、両者の位置が合致した場合に当該領域を傷により凹凸が欠損している欠陥領域と判定する。 - 特許庁 - The heat treatment apparatus 1 comprises a furnace body 5, a heater 18A provided on the inner peripheral surface of the furnace body 5, a processing container 3 arranged in the furnace body 5, a cooling medium supply blower 53 and a cooling medium exhaust blower 63 connected with the furnace body 5, and a temperature sensor 50 provided in the processing container 3.
熱処理装置１は炉本体５と、炉本体５内周面に設けられたヒータ１８Ａと、炉本体５内に配置された処理容器３と、炉本体５に接続された冷却媒体供給ブロア５３および冷却媒体排気ブロア６３と、処理容器３内に設けられた温度センサ５０とを備えている。 - 特許庁 - In the printing processing system having a printing instructing device for giving printing instructions to a printer adaptable for double-side printing, the printing instruction device determines in accordance with set printing conditions whether surface printing or reverse printing is executed for every printing page and generates printing data adaptable for printing processing.
両面印刷が可能な印刷装置へ印刷指示を行う印刷指示装置を備えた印刷処理システムにおいて、印刷指示装置が、設定される印刷条件に基づき、印刷ページ毎に表面印刷か、裏面印刷かを判断して、印刷処理を行うことが可能となる印刷データを生成するように構成する。 - 特許庁 - Thereby, the user's eyes can be made to adapt the chromatic adaptation reference by continuously displaying the chromatic adaptation reference on the display surface and the user can be made to recognize a display image as an image of natural tones of colors only by correction based on simple arithmetic processing without executing correction requiring complicated arithmetic processing of the image signal.
従って、色順応リファレンスを表示面に表示し続けて、利用者の目を色順応リファレンスに順応させることができ、複雑な画像信号の演算処理を必要とする補正を行わなくても、簡単な演算処理による補正だけで表示画像を自然の色合いとして利用者に認識させることができる。 - 特許庁 - To provide an acrylic resin filmy material which does not whiten a molded article, when subjected to an insert molding or in-mold molding, does not whiten a molded article, when subjected to a V-cutting processing or a wrapping processing in a cold district, and satisfies surface hardness and heat resistance needed to vehicle uses and building uses.
インサート成形、またはインモールド成形を施した時に、成形品が白化しない、また、寒冷地でＶカット加工やラッピング加工を施した時に、成形品が白化しない、かつ車輌用途、建材用途に用いることができる表面硬度、耐熱性を満足するアクリル樹脂フィルム状物を提供すること。 - 特許庁 - To provide an image processor for a vehicle, the vehicle and an image processing program for the vehicle, allowing detection of a lane mark on a road on which the vehicle travels from an image with high accuracy by processing the image obtained by imaging the circumference of the vehicle so as to reduce influences of variation of local luminance and color on a road surface.
車両の周辺を撮像した画像を、路面上の局所的な輝度や色の変動の影響を低減するように処理して、該画像から車両が走行している道路上のレーンマークを精度良く検出可能な車両用画像処理装置、車両、及び車両用画像処理プログラムを提供する。 - 特許庁 - Before electro-discharge machining is performed, a machine is run idle while supplying a processing fluid jet of a predetermined set pressure toward the surface of a workpiece from upper and lower processing fluid jet nozzles.
放電加工を行なう前に所定の設定圧力の加工液噴流を上下加工液噴流ノズルから被加工物の表面に向けて供給しながら空運転を行ない、適時上下加工液噴流ノズルにおける加工液の負荷圧力を検出して相対移動軌跡上の上の相対位置と関連付けて記憶させておく。 - 特許庁 - To solve a problem that a spare area is densely arranged to suppress increase of response delay time after a reassignment processing, however, on the other hand, use efficiency of a disk is lowered when the spare area is densely arranged, with respect to a disk device to perform the reassignment processing when an unrecoverable defect is generated on a recording surface of the disk.
ディスクの記録面上に回復不可能な欠陥が発生した場合にリアサイン処理を行うディスク装置において、リアサイン処理後の応答遅延時間の増加を抑えるためにはスペア領域を密に配置する必要があるが、一方、スペア領域を密に配置するとディスクの利用効率が低下してしまう。 - 特許庁 - The induction heating device 5 is provided with a processing region 3 which is arranged so as to face the surface of the processing object and has a coil including a superconductive material built in and a power supply part consisting of a power supply 1 to flow an AC current of a frequency of 20 Hz or less to the coil and a frequency conversion device 2.
誘導加熱装置５は、加工対象物の表面に対向するように配置される、超電導材料を含むコイルを内蔵する処理領域３と、コイルに２０Ｈｚ以下の周波数の交流電流を流す、電源１と周波数変換装置２とからなる電源部とを備えている。 - 特許庁 - The manufacturing apparatus for manufacturing the semiconductor device from an object to be molded includes a molding die 142 which clamps the object to be molded for injection of molten resin, for molding, and an atmospheric pressure plasma processing apparatus 160 which reforms a parting surface of the molding die 142 to have hydrophobic property by atmospheric pressure plasma processing.
被成形品から半導体装置を製造する製造装置は、前記被成形品を型締めして溶融樹脂を注入して成形する成形金型１４２と、大気圧プラズマ処理によって成形金型１４２のパーティング面を疎水性に改質する大気圧プラズマ処理装置１６０と、を有する。 - 特許庁 - There is provided plasma etching equipment in which a sprayed film is set to be a conductor, by attaching the sprayed film to the front surface of a wall with which plasma is in contact, such as the wall of a processing chamber and mixing a conductor with the material of the sprayed film in plasma processing equipment using a plasma process by use of halogen gas for manufacturing a semiconductor device.
半導体デバイスの作成に、ハロゲン系のガスによるプラズマプロセスを用いたプラズマ処理装置において、処理室内の壁等のプラズマが接触する壁の表面に溶射膜を付け、この溶射膜の材料に導体を混入することにより、溶射膜を導体としたことを特徴とするプラズマエッチング装置。 - 特許庁 - The screw rotor processing method forms screw tooth groove by controlling workpiece revolution and tool swiveling simultaneously on the basis of a five-axis NC machine tool; wherein a special end mill is used for a finish process of tooth groove side-surface processing, the end mill having a short cutting edge, and equipped with a neck portion between the cutting edge and the shank, the neck portion being slenderized.
５軸のＮＣ加工機をベースに、ワーク回転と工具旋回とを同時に制御してスクリュー歯溝を形成するスクリューロータの加工方法であり、歯溝側面仕上げ加工工程に切れ刃長さを短くし、切れ刃部とシャンク部の間に首部を設けその部分を細くした特殊なエンドミルを用いて加工する。 - 特許庁 - In the carrier removing unit, two or more conductive recovering rollers to which bias voltage in a toner pressing direction is applied are made to abut on the toner image holding structural body, and the roller on a processing upstream side is rotated in the same surface moving direction as the toner image holding structural body and the roller on the processing downstream side is rotated in a reverse direction.
キャリア除去ユニットは、トナー画像保持構造体にトナーを押し付ける方向のバイアス電圧が印加された導電性回収ローラを２つ以上当接させ、そのプロセス上流のローラはトナー画像保持構造体と同一表面移動方向に回転させ、プロセス下流のローラは逆方向に回転させられる。 - 特許庁 - It is possible to keep a pressurized state in which a piezoelectric body is pressurized on one surface of a case 2 via an adhesive between a lower tool 23 and an upper tool 24A, and a stress is relaxed by the low temperature processing, along with pressurization to the piezoelectric body and the case 2 to be adhered with the adhesive and the low temperature processing.
下冶具２３と上冶具２４Ａとの間で、ケース２の１つの面に接着剤を介して圧電体を加圧した加圧状態を保持可能であり、この加圧状態で低温熱処理を施すことで、圧電体とケースとを接着剤により加圧接着させるとともに、低温熱処理によって応力を緩和させる。 - 特許庁 - The present invention controls a substrate rotation mechanism 70 after one round trip of ion beam irradiation processing, inputs a substrate 2 into an ion beam irradiation device 100 again after rotating the substrate by 180 degrees, and irradiates a range where ion beam irradiation processing has not yet been completed with ion beams to irradiate the whole surface of the substrate with ion beams.
イオンビーム照射処理を１往復行った後、基板回転機構７０を制御し、基板２を１８０度回転させた後、イオンビーム照射装置１００に再投入し、イオンビーム照射処理未完了の範囲をイオンビーム照射し、基板の全面にイオンビーム照射させることを特徴としたイオンビーム照射方法。 - 特許庁 - Such a wet processing apparatus 10 can reduce the wet processing liquid 8 from being adhered to the chuck facing surface 22 opposed to the chuck 1 by uniformly jetting the gas 24 jetted from the jetting port 16 from a space sandwiched between the outer peripheries 14, 15 of the objects 7 to be wet-processed and the chuck 1.
このようなウェット処理装置１０は、噴出口１６から噴出した気体２４がウェット処理対象７の外周１４、１５とチャック１とに挟まれた隙間からに均一に噴出されることにより、チャック１に対向するチャック対向面２２にウェット処理液８が付着することを低減することができる。 - 特許庁 - In the manufacturing method of a printed wiring board wherein a solder mask is formed by coating the surface of a base material having formed circuits and through holes with a liquid solder resist and by subjecting the solder resist to its exposure processing and its development processing, the solder resist remaining in each through hole after the formation of the solder mask is sublimated and removed by a laser.
回路及びスルーホールを形成した基材の表面に、液状のソルダーレジストを塗布し、露光処理、現像処理をすることによってソルダーマスクを形成するプリント配線板の製造方法において、ソルダーマスクの形成後、スルーホール内に残存したソルダーレジストをレーザーにより昇華除去するものとした。 - 特許庁 - Processing for the surfaces of contact electrifying member parts 2g and 2g or image carrier parts corresponding to image non-forming areas B and B in an abutting area (a) between the contact electrifying member 2 and the image carrier 1 is made to differ from processing for the surface of the contact electrifying member part or the image carrier part corresponding to an image forming area A.
接触帯電部材２と像担持体１との当接域ａ内における非画像形成域Ｂ・Ｂに対応する接触帯電部材部分２ｇ・２ｇまたは像担持体部分の表面の処理を画像形成域Ａに対応する接触帯電部材部分または像担持体部分の表面の処理と異なるようにする。 - 特許庁 - To provide a substrate processing method by which a substrate wherein a laminated film with a ruthenium and tungsten compound or a tantalum compound is formed does not oxidize and deteriorate the tungsten compound or the tantalum compound, and Low-K does not deteriorate even if a device formation area surface is exposed to water or an alkaline solution; and to provide a substrate processing device.
ルテニウムとタングステン化合物又はタンタル化合物との積層膜が形成された基板を、タングステン化合物又はタンタル化合物を酸化変質させることなく、更にデバイス形成領域面が水やアルカリ溶液に曝され、ＬｏｗＫが変質することなのない基板処理方法、及び基板処理装置を提供すること。 - 特許庁 - A CPU (central processing unit) 22, a scanner ASIC (application specific integrated circuit) 32 and a printer ASIC 42 mounted on a multifunction printer 10 recognize the position of an image for material, and the like, and selects a range corresponding to the label surface from an image for processing.
マルチファンクションプリンタ１０に搭載されたＣＰＵ２２、スキャナＡＳＩＣ３２及びプリンタＡＳＩＣ４２が、素材用画像の位置等を認識して加工用画像からレーベル面相当範囲を選択するため、トレイを用いることなく素材用画像のうちユーザが希望する範囲の画像をレーベル面に印刷することができる。 - 特許庁 - To provide a processing apparatus and a processing method for a photosensitive lithographic printing version by which when a photosensitive lithographic printing version is heat-treated after exposure, a plate surface is uniformly heat-treated and the quality of the printing plate can be kept uniform, and by which photosensitive lithographic printing plates whose supports are different in thickness can be processed together.
感光性平版印刷版を露光後に、加熱処理する場合、版面を均一に加熱処理し、印刷版の品質を均一に保つことのでき、且つ、厚みの違う支持体の感光性平版印刷版を混在処理が可能な感光性平版印刷版の処理装置及び処理方法を提供する。 - 特許庁 - Preferably in the method for processing cylindrical fluoride single crystal with (100) crystal face, the processing is a cylindrical grinding process, and the surface roughness (RMS) of the ground face of single crystal cylinder after the cylindrical grinding processing is 0.1-5.0 μm.
育成された単結晶インゴットを切断して多角体を得、該多角体をアニール処理した後、さらに切断、加工する、（１００）結晶面のフッ化物単結晶の加工方法であって、上記加工が円筒研削加工であり、該円筒研削加工後の単結晶円筒研削加工面の表面粗さ（ＲＭＳ）が０．１〜５．０μｍであることを特徴とする、（１００）結晶面の円筒状フッ化物単結晶の加工方法等を採用する。 - 特許庁 - To provide an image forming device by which information (such as image density, image variable magnification ratio, image layout, the number of print output, processing regarding specification of an image printing surface)regarding a part of print processing to an information input means for inputting information regarding the print processing can not be input while a sheet detection means detects a sheet by providing the sheet detection means for detecting printed and output sheet.
印字出力されたシートを検知するシート検知手段を設けることで，シート検知手段がシートを検知している間は，印字処理に関する情報を入力する情報入力手段への一部の印字処理に関する情報（画像濃度，画像変倍率，画像レイアウト，印字出力枚数，画像印字面の指定に関する処理等）の入力ができない画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a photographic film processing device where a photographic film supplied in a state statically charged at a high level from a processing part to a container space after a prescribed processing is hardly stuck temporarily to the side wall inside surface or the like of the container space.
写真フィルムに現像と乾燥などの処理等を施す処理部と、処理部から供給される乾燥された写真フィルムを一時的に格納する空間を有する写真フィルム処理装置において、所定の処理を終えて、高レベルの静電気を帯電した状態で処理部から格納空間に供給された写真フィルムが、一時格納空間を構成する側壁内面等に付着し難い写真フィルム処理装置を提供する。 - 特許庁 - The method for analyzing the depth direction element distribution of a sample consists of a process subjecting the surface of a sample to precise cross-sectional processing by converged ion beam 2', a process for measuring fine particles 3 generated from the cross section 17 obtained by the precise cross-sectional processing and a process for processing the measured value as a function of the depth direction scanning position of the converged ion beam.
収束イオンビーム（２’）により試料表面を精密断面加工する工程と、前記精密断面加工により得られた断面（１７）から発生する微粒子（３）を測定する工程と、前記測定によって得た値を前記収束イオンビームの深さ方向走査位置の関数として処理する工程と、を具備することを特徴とする、試料の深さ方向元素分布分析を行う方法。 - 特許庁 - To position a long-sized magnet body, while reducing a level difference between the long-sized magnet body and the circumferential surface of a magnet roller in the radial direction, regarding a magnet roller unit for a development processing apparatus used for an image forming apparatus.
画像形成装置に用いる現像装置のマグネットローラユニットにおいて、長尺磁石体とマグネットローラの円周表面との半径方向での段差を低減しながら、長尺磁石体の位置決めを行う。 - 特許庁 - The control device 5, on the whole, corrects the reference walking pattern generated by the reference walking processing using the course correction pattern, generates the correction walking pattern, and adapts the biped walking robot 1 to the irregular road surface.
制御装置５は、全体として、軌道修正パターンを用いて前記基準歩行処理により生成した基準歩行パターンを修正して、修正歩行パターンを生成し、２足歩行ロボット１を不整路面に適応させる。 - 特許庁 - An end face 6 of the optical waveguide 1 is formed into a reflecting surface inclined at about 45 degrees by dicing processing, and the optical waveguide 1 is optically coupled to an optical element 26 via reflection by the inclined end face 6.
光導波路１の端面６は、ダイサー加工によって、おおよそ４５度に傾斜した反射面に形成し、傾斜端面６による反射を介して、光導波路１を光素子２６と光結合する。 - 特許庁 - By computing an irradiation area irradiated with a radio wave in the target object surface, a shadow processing means 10d specifies patches contained in the irradiation area and transmits them to the radio wave scattering field computing means 10e.
陰影処理手段１０ｄは、対象物体表面において、電波が照射される照射領域を算定し、この領域に含まれているパッチを特定して散乱界算出手段１０ｅに通知する。 - 特許庁 - To provide a plasma processing device in which the duration of plasma generated between electrodes is made long and the distance of plasma that can be reached is made long, thereby the height difference of concavo-convex on the surface of the treating object is made large.
プラズマ処理装置において、電極間で発生されたプラズマの持続時間を長くしてプラズマの到達可能距離を長くし、それによって被処理物の表面の凹凸の高低差を大きくする。 - 特許庁 - An orifice 25 is bored by means of oxygen plasma 33 using a helicon wave etching system and O2 gas for processing and a Ti oxide film 32-2 is formed, as a hydrophilic region 28, on the surface of the Ti film 32.
ヘリコン波エッチング装置と処理用Ｏ_2 ガスを用い、酸素プラズマ３３によるオリフィス２５の孔空けを行なうと共にＴｉ膜３２表面に酸化Ｔｉ膜３２−２を形成し、これを親水性領域２８とする。 - 特許庁 - For example, when creating m-pieces of booklets by stapling a printing job of six pages by the post-processing device, a head page delivery/surface upside loading mode is set as the loading mode of the image forming apparatus onto the stacker.
例えば、６ページの印刷ジョブを後処理装置でステイプル処理して冊子をｍ部作成する場合、画像形成装置のスタッカへの積載モードとして、先頭ページ排紙・表面上積載モードが設定される。 - 特許庁 - Then, in condition that the processing container 10c is shut off with a shutter 10h, the water at the surface of the semiconductor substrate wafer 100 is washed off by the steam of chemicals for drying in high concentration, for example, IPA steam 25.
その後、処理槽１０ｃをシャッター１０ｈで遮断した状態で高濃度の乾燥用薬液の蒸気、例えばＩＰＡ蒸気２５により半導体基板ウェハ１００の表面の水を洗い落とす。 - 特許庁
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