「surface processing」を含む例文一覧(7705)
＜前へ 1 2 .... 110 111 112 113 114 115 116 117 118 .... 154 155 次へ＞- When the bobbin winding processing is performed, a default value stored in a RAM 64 is first read to lift the intermittent presser foot 6 to a position shown by the default value (5 mm above an upper surface of the throat plate 2a) (S30).
糸巻き処理を実行すると、先ず、ＲＡＭ６４に記憶されたデフォルト値を読み出して間欠押え６をデフォルト値（針板２ａの上面から５ｍｍ上方）で示す位置に上昇させる（Ｓ３０）。 - 特許庁 - To provide a screw treated producing method and apparatus which enable one to reduce a production cost by shortening processing hours and to select at random an opening position of the threading on the peripheral surface of a workpiece.
ワーク外周面へのねじ加工の開始位置を任意に設定することができるとともに、加工時間を短縮して製造コストの減少を図ることのできるねじ加工方法及びねじ加工装置を提供する。 - 特許庁 - The work W_1 is cleaned with an organic solvent as pretreatment and the UV-cleaning is then carried out while pressurizing the processing gas so that the contaminants and the organic solvent remaining on the surface of the work W_1 can be removed completely in a short time.
前処理として有機溶剤による液体洗浄後に、処理ガスを加圧してＵＶ洗浄することで、ワークＷ_1 の表面に残る汚染物質や有機溶剤を短時間で完全に除去できる。 - 特許庁 - A supporting shaft 12 is fixed in a supporting stand 11 supporting a spring 15, and the supporting shaft 12 and a frame body portion 2 of the processing apparatus 1 are connected each other by means of a wire 17 horizontally arranged in a position higher than an upper surface of the spring 15.
ばね１５を支持する支持台１１に支持軸１２を固定し、ばね１５の上面より高い位置に水平に配置したワイヤ１７により支持軸１２と加工装置１の枠体部２とを接続する。 - 特許庁 - A cross-sectional circular arc-shaped annular groove 10 having a radius of curvature close to a radius of curvature of a processing ball 25, is formed in a plurality on a surface of this abrasive grain layer 9 with the axis of the base metal as the center.
この砥粒層９の表面に、加工するボール２５の曲率半径に近い曲率半径を有する断面円弧状の環状溝１０が、台金の軸心を中心として複数形成されている。 - 特許庁 - A thin film component 5 separate from a target sample is transferred and fixed to a processing position in place of the focusing ion beam assist deposition (FIBAD) film formed on the surface of the sample heretofore at the time of machining of the sample to be used as a protective film.
従来、試料加工の際に試料表面に作製していた集束イオンビームアシストデポジション（ＦＩＢＡＤ）膜の代わりに、対象試料とは別の薄膜部品５を加工位置に移設固定して保護膜とする。 - 特許庁 - When light is radiated from a light projector 5 to a steel plate 1 positioned in the closest position to a final stand roll 2 of a finishing rolling machine, its reflected light is received by means of a line sensor camera 6 for image processing, and the surface flaw is detected.
仕上圧延機の最終スタンドロール２にできるだけ近い位置にある鋼板１に、投光器５より光を照射し、反射光をラインセンサカメラ６で受光して画像処理し、表面欠陥を検出する。 - 特許庁 - To provide a substrate treating device capable of uniformly supplying a treating liquid on the surface of a substrate without affecting the physical properties of a treating liquid and damaging the substrate in the substrate treatment such as development processing.
現像処理等の基板処理において、処理液の物性に影響を与えることなく、且つ基板を傷めることなく、基板面上に均一に処理液を供給できる基板処理装置を提供すること。 - 特許庁 - Moreover, the electrolyte copper plated layer 4 can be removed, in regions other than the internal circumferential surface 6a of the through-hole 6 and peripheral region 6b of the through-hole, and thereafter, conductive patterns 21a, 21b are formed by processing the metal foils 2a, 2b.
そして、スルーホール部６の内周面６ａおよびスルーホール周辺部６ｂの領域以外の電解銅めっき層４が除去され、その後金属箔２ａ，２ｂを加工して導体パターン２１ａ，２１ｂが形成される。 - 特許庁 - Developing bias is controlled based on output from an arithmetic operation means for processing output from a potential detection means for detecting the surface potential of a photoreceptor in an image forming stage, and at the rising time and at the falling time.
画像形成工程と立ち上がり時及び立ち下がり時において、感光体の表面電位を検知する電位検知手段の出力を処理する演算手段の出力に基づいて現像バイアスを制御する。 - 特許庁 - In the lottery processing for the jackpot, a fast variable display of a plurality of symbols is carried on a display surface 4a of a performance display device to suggest the result of the lottery to players.
また、上記大当たりについての抽選処理が行われるとき、演出表示装置の表示面４ａでは、同抽選の結果を遊技者に示唆すべく、複数の図柄の高速変動表示が行われる。 - 特許庁 - Processing is performed by which the substitute gas is made to flow in a space between the rear surface of the substrate and the radiation temperature sensor for a fixed time by low flow rate, so as to allow a temperature difference between the center and the outer periphery of the substrate to become not larger than a prescribed value.
前記基板裏面と前記放射温度センサとの間の空間に、前記基板の中央部と外周部との温度差が所定値以下になる低流量で一定時間置換ガスを流す処理をする。 - 特許庁 - At least a part of the surface of this conductive support with an electric resistance adjusting layer is subjected to chemical roughening processing and then is subjected to zinc phosphate treatment or iron phosphate treatment.
少なくとも電気抵抗調整層が設けられる上記導電性支持体の表面部分に、化学的粗面化処理が施され、次いでリン酸亜鉛処理あるいはリン酸鉄処理が施されている導電性支持体。 - 特許庁 - A walking pattern generation part 25 generates a reference walking pattern to be the position to land a sole part 9 by carrying out a reference walking processing to make the biped walking robot 1 walk on a flat road surface G.
歩行パターン生成部25は、平坦な路面Ｇを２足歩行ロボット１に歩行させるための基準歩行処理を実行することにより、足底部９を着地させる位置となる基準歩行パターンを生成する。 - 特許庁 - A film N drawn from a cartridge 18 is carried and heat-developed in a state such that the film N is brought into contact with the outside peripheral surface of the drum 24 heated by the heater 26 while being superposed on a processing member K for development.
パトローネ１８から引き出されたフィルムＮは、現像用処理部材Ｋと重ね合わされた状態でヒータ２６により加熱されたドラム２４の外周面と接触した状態で搬送され熱現像される。 - 特許庁 - To provide a processing method for three-dimensional shape capable of creating a draft angle body without extending off the three-dimensional shape when creating the draft angle in a bossed shape projected onto a freely- curved surface.
自由曲面上に突出したボス形状に抜き勾配を生成する際、抜き勾配体を当該３次元立体形状からはみ出すことなく生成することができる３次元形状処理方法を提供する。 - 特許庁 - When a part of the interlayer insulating film is worked by etching or milling, insulating failures are prevented by employing the design of oxidizing the surface again after the working or leaving an oxidized film even after the processing.
エッチングやミリングによって層間絶縁膜の一部を加工する場合には、加工後に再度、表面を酸化処理するか、加工後も酸化処理した膜が残るように設計することで絶縁不良を防止することができる。 - 特許庁 - The method of forming a protective film forms a protective film covering the surface of an object to be processed used for processing a cross section by an FIB device by condensing and solidifying a gaseous material that is the raw material of the protective film.
ＦＩＢ装置による断面加工に用いる加工対象物表面に被覆する保護膜を、保護膜原料となるガス状物質を凝結固化させることにより形成する保護膜形成方法。 - 特許庁 - A light shielding plate has an almost transparent light guide plate 4c to which light scattering processing 8 is applied, and light sources 9a and 9b for supplying the light inside the light guide plate 4c from an end surface of this light guide plate 4c.
遮光板は、光散乱処理８が施されたほぼ透明の導光板４ｃと、この導光板４ｃの端面から導光板４ｃの内部に光を供給する光源９ａ，９ｂとを備える。 - 特許庁 - The light scattered on the surface is photographed, nearly linear line segments in equal direction are extracted as the cracks by image processing, and the crack length total or the area total inside a prescribed area is calculated.
表面で散乱した散乱光を撮影し、画像処理によりほぼ直線状で同一方向の線分をクラックとして抽出し、所定面積中のクラック長総和あるいは面積の総和を算出する。 - 特許庁 - To prevent decrease in the non-defective rate, simplify the processing of a lead frame, reduce the size of a package, even if the chip size is increased, and to make an IC applicable even to a device of such a structure as to be cooled from the surface of a chip.
チップサイズを大形化した場合でも、良品率の低下を防止し、リードフレームの加工を簡単化し、パッケージサイズを小さくし、また、チップの表面から冷却する構造のデバイスにも適用可能とする。 - 特許庁 - By using a plasma processing device 100 for introducing a microwave into a chamber 1 by a flat antenna 31 having a plurality of holes, the surface of silicon is oxidized to form a silicon oxide film (step S1) and then a silicon oxide film is deposited thereon as an insulating film by CVD (step S4).
複数の孔を有する平面アンテナ３１によりチャンバ１内にマイクロ波を導入するプラズマ処理装置１００を用い、シリコン表面を酸化して酸化珪素膜を形成する（ステップＳ１）。 - 特許庁 - Such a tool member forms an intermediate layer on a base material surface, and forms the silicon-containing amorphous carbon film having an atomic ratio of Si_0.03 to 0.25C_0.30 to 0.75H_0.22 to 0.50 by using a plasma CVD (chemical vapor deposition) after applying activation processing.
このような工具部材は基材表面に中間層を形成し、活性化処理を施した後、プラズマＣＶＤを用いて原子比率がＳｉ_0.03_〜_0.25Ｃ_0.30_〜_0.75Ｈ_0.22_〜_0.50である珪素含有非晶質炭素膜を形成する。 - 特許庁 - Two-dimensional FFT processing is applied to the picked-up image picked up by the imaging means 14, and the surface state of the inspected object 10 is detected based on the extent of spectrum dispersion of the two-dimensionally FFT-processed data.
撮像手段１４により撮像された撮像画像に２次元ＦＦＴ処理を行い、２次元ＦＦＴ処理されたデータのスペクトル分散の程度に基づいて被検査物１０の表面状態を検出する。 - 特許庁 - The method has a step of defining the target number Np of films between dummies for bring the target surface into an initial state, and a step of continuing film deposition processing of the dielectric thin film, until the number Na of films between dummies reaches the target number Np of films between targets.
ターゲット表面を初期状態にするための目標ダミー間枚数Ｎｐを規定し、ダミー間枚数Ｎａが目標ダミー間枚数Ｎｐに到達するまで、誘電体薄膜の成膜処理を継続させた。 - 特許庁 - To enable a processing apparatus of a printing plate to prevent the surface of a plate holding table from being scratched, and to facilitate a placing operation on the plate holding table and a removing operation from the plate holding table to improve a workability.
刷版の加工装置において、版保持台の表面に擦れ傷を付けることがなく、かつ版保持台への載置作業および版保持台上からの取り外し作業を容易にし作業性を向上させる。 - 特許庁 - The chamfering portion 9 formed in the outer peripheral surface in the vicinity of mating surfaces 8 is processed in a plane-shaped state before dividing the ring-shaped retainer into the half ring-shaped retainer 2, and thus control of processing for the chamfering portion 9 is facilitated.
合わせ面８付近の外周面に形成される面取り部９は，円環状保持器を半円環状保持器２に二分割する前に平面状に加工し，面取り部９の加工管理を容易にする。 - 特許庁 - A medical image processing device is characterized by measuring geometrical information on the basis of a designated position by recognizing it as an object surface when this designated position is adapted to a preset condition.
この指定された位置が予め設定された条件に適合した場合、被写体表面と認識し、指定位置に基づいた幾何学的情報を計測することを特徴とする医療用画像処理装置。 - 特許庁 - Although the wafer W becomes thin as a result of hydrofluoric-nitric acid processing, since the suction base 10 is lifted, the thickness of the liquid film of hydrofluoric-nitric acid formed on the upper surface of the wafer W can be kept to be almost constant.
ふっ硝酸処理の結果ウエハＷは薄くなるが、吸着ベース１０が上昇されるために、ウエハＷの上面に形成されるふっ硝酸の液膜の厚みをほぼ一定に保つことができる。 - 特許庁 - After repeating the operations to stack a plurality of sheets on the sheet stacking surface 15, the sheet processing apparatus causes the movement member 11 to abut on the rear ends of the plurality of sheets, thereby aligning the plurality of sheets in the sheet longitudinal direction.
この動作を繰り返して、シート積載面１５に複数のシートを積載させた後、移動部材１１を複数のシートの後端に当接させることにより複数のシートの長さ方向での整合を行う。 - 特許庁 - Media 3 are blown against the surface of the product 1 coated with the film material 2 in a sandblasting process to roughen the processing surfaces (C), and lastly the film material 2 is removed by dissolving with an alkaline aqueous solution (D).
この被膜材で被覆した成形品の全面にサンドブラスト加工によりメデア３を噴射して粗面化し図１Ｃ、最後に被膜材２をアルカリ水溶液により溶解させ溶解して除去する図１Ｄものである。 - 特許庁 - Both sides of the gas adsorbing layer 4 are laminated with protective layers 3 and 5 by quilting processing 6, and either surface of the protective layers is laminated with the cloth 1 that comprises the thermoplastic fibers by welding 2 by the high frequency.
ガス吸着層４の両面に保護層３，５をキルティング加工６で積層し、いずれかの保護層の面に熱可塑性繊維からなる布帛１を高周波によって溶着２して積層したことを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a grinding method by a rotary grinding wheel capable of eliminating polishing processing after grinding reduced in grinding surface roughness, a molding metal mold formed by the method, and an optical element transferred by the metal mold.
研削面粗さが小さく、研削後の研磨加工を不要とできる回転砥石による研削加工方法、及びそれにより形成された成形用金型、並びにそれにより転写された光学素子を提供する。 - 特許庁 - By performing a photolithography processing on the smooth surface of the first non-magnetic body 31, influence by reflected light from a base is reduced and the forming object of excellent working accuracy is obtained.
第１の非磁性体３１のなだらかな表面上にてフォトリソグラフィ処理を行うことにより、下地からの反射光による影響が低減されるので、加工精度に優れた形成物を得ることができる。 - 特許庁 - To provide a resin molded article having a different color part capable of being easily provided to the surface thereof without applying coloring processing and excellent in appearance quality, and a method for manufacturing the same.
着色加工を施すことなく、表面に、異なる色を有する部分を容易に設けることができるとともに、外観品質にも優れた樹脂成形品および樹脂成形品の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a high-strength bolt frictional joining structure and a high-strength bolt frictional joining method, capable of improving sliding yield strength by inexpensively strengthening agglutination resistance, without requiring special surface treatment processing.
特殊な表面処理加工を必要とせず、安価に凝着抵抗を強化してすべり耐力を向上させることが可能な高力ボルト摩擦接合構造及び高力ボルト摩擦接合方法を提供する。 - 特許庁 - In addition, an operation part 54 for performing image reproduction processing based on received signals detected relative to each rotation angle signal of the elliptic cylindrical surface reflecting mirror, and operating a transmission image output signal of the target is installed.
また、楕円筒面反射鏡の回転角信号毎に検出された受信信号に基づき像再生処理をなし標的の透過映像出力信号を演算する演算部５４が設けられている。 - 特許庁 - A dry etching apparatus 11 includes a coil 36 for generating a plasma in a vacuum container 12, and a camera 45 which photoes the image of the surface to be etched of the substrate (1) which generates the plasma and is under processing by dry etching.
ドライエッチング装置１１は、真空容器１２内にプラズマを発生させるコイル３６と、プラズマが発生してドライエッチングにより加工中である基板（１）の被エッチング面の画像を撮影するカメラ４５を備える。 - 特許庁 - To provide a dicing apparatus with the structure that prevents scratches from being generated on a worked front surface by a disk-shaped pressing portion, reduce variation in a processing position of blade, and control generation of chippings at a wafer's cut edge face.
円盤状の押圧部によるワーク表面の傷の発生を防ぎ、ブレードの加工位置の変動を低減できるともに、ウエハの切削端面にチッピングが発生することを抑制できる構造のダイシング装置を提供する。 - 特許庁 - To efficiently perform heat exchange processing of an enclosed object which is sealed in a bag with a surface of the bag kept dry while the bags formed successively in a strip form are being carried.
袋体の表面をドライな状態に保って袋体に封入された被封入物の熱交換処理を帯状をなすように連続して形成された袋体の搬送を行いながら効率的になし得るようにする。 - 特許庁 - In a pattern application method for forming a pattern of a coating film on the substrate film by applying a coating liquid on the substrate film, part of the substrate film is subjected to pattern-like surface reform processing.
基材フィルム上に塗布液を塗布することによって基材フィルムに塗布膜のパターンを形成するパターン塗布方法において、まず、基材フィルムの一部にパターン状の表面改質を施す加工を行う。 - 特許庁 - To provide a straightening facility for a metal plate which can lessen the occurrence of surface flaws as well as shortens lead time (processing time) by greatly reducing the number of times of handling the metal plate.
本発明は、金属板のハンドリング回数を大幅に削減して、そのリード・タイム（処理時間）を従来より短縮するだけでなく、表面疵の発生をも低減可能な金属板の矯正装置を提供すること。 - 特許庁 - A removing brush 25 removing dust sticking on the paper P is provided downstream from the contact portion T1 of the side wall surface 14 in the conveying direction and upstream from the development processing section E in the conveying direction.
側壁面１４の接触部分Ｔ１よりも搬送方向下流側であって且つ現像処理部Ｅよりも搬送方向上流側には、ペーパーＰに付着した塵埃を取り除く除去ブラシ２５が設けられている。 - 特許庁 - To provide an expansion molded product of a polyolefin resin having improved drawdown properties, loss of resilience and surface roughening during heating caused when carrying out molding processing and further sufficient impact properties and flexibility.
本発明は、成形加工時に起こる加熱時の垂れ下がり性、ヘタリや表面荒れが改善され、しかも充分な衝撃性及び柔軟性を備えたポリオレフィン系樹脂発泡成形品を提供せんとするものである。 - 特許庁 - In this image forming method, the processing liquid being the color material fixing material having usual concentration is applied on the whole surface of an image forming region of the intermediate transfer body 12 in the first image recording, and transfer recording is performed after forming primary image data.
最初の画像記録では中間転写体１２の画像形成領域の全面に色材固定材料濃度が通常濃度の処理液を付与し、１次画像データを形成したのちに転写記録を行う。 - 特許庁 - To provide a sliding member capable of improving productivity without increasing man-hours for processing having reduced frictional resistance as with recessed parts having substantially W-shaped cross sections and a method for forming fine recessed parts on a sliding surface.
加工工数を増やすことなく生産性の向上を図ることができ、且つ断面略Ｗ形状の凹部と同様、摩擦抵抗の少ない摺動部材及び摺動面への微細凹部形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a magnetic recording medium manufacturing method for stably manufacturing a high density, low noise coat-type magnetic recording medium with a high operating rate by stabilizing the surface processing state of the magnetic recording medium.
磁気記録媒体の表面処理状態を安定化することにより、低ノイズの高密度塗布型磁気記録媒体を安定的に、かつ高稼動率で製造できる磁気記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a heat treatment method of a silicon wafer which is capable of suppressing worsening of surface roughness even when rapid thermal processing (RTP) is performed at a high temperature and which is further capable of suppressing occurrence of a recessed pit, and to provide a silicon wafer.
高温下でＲＴＰを行っても、表面粗さの悪化を抑制することができ、更に、凹形状のピットの発生も抑制することができるシリコンウェーハの熱処理方法及びシリコンウェーハを提供する。 - 特許庁 - According to the manufacturing method, since the protective film 12 is formed on the side surface of the insulating pillar 6 that is a dummy pillar, chipping of the dummy pillar is prevented in processing the silicon pillar 4 for a channel as a transistor.
本製造方法によれば、ダミーピラーとしての絶縁体ピラー６の側面に保護膜１２を形成しているので、チャネル用のシリコンピラー４をトランジスタとして加工する際にダミーピラーが削られてしまうことが防止される。 - 特許庁 - When the sensor 4 detects the obstacle at the side of the user's vehicle, the image processing unit 2 superposes a boundary guide for an area ranging vertically from a road surface to a door mirror at the side where the obstacle is detected.
画像処理ユニット２は、センサ４が側方の障害物を検知した場合に、この障害物を検知した側の側方に、路面からドアミラーまでの高さの境界ガイドを重畳することを特徴とする。 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
