「surface processing」を含む例文一覧(7705)
＜前へ 1 2 .... 112 113 114 115 116 117 118 119 120 .... 154 155 次へ＞- The processing unit 9 includes a plurality of irradiation sections 32a and base material holding mechanisms 27b and 28b for holding the base material so as to hold the plurality of irradiation sections 32a therebetween in timing for the irradiation sections to irradiate the surface of the base material with ultraviolet rays.
処理部９は、複数の照射部３２ａと、照射部が紫外線を照射するタイミングで複数の照射部３２ａを挟持するように基材を保持する基材保持機構２７ｂ，２８ｂと、を備える。 - 特許庁 - A straight line setting section 22 sets straight lines corresponding respectively to two upper and lower broken bones of a fracture section 54 of the bone 52 on the basis of the surface point 60 extracted by the echo tracking processing section 20.
直線設定部２２は、エコートラッキング処理部２０において抽出された表面ポイント６０に基づいて、骨５２の骨折部５４を挟んだ上下二つの骨片のそれぞれに対応する直線を設定する。 - 特許庁 - As a result, the number of subjects can be estimated by processing in pixel units even for a subject having a shape other than a rectangle, and an error in calculating the surface area of a subject can be reduced.
その結果、矩形以外の形状を持つ被写体に対しても、画素単位の処理によって被写体数を推定することができ、被写体の表面積算出の際の誤差を低減することが可能となる。 - 特許庁 - Heat transfer is expanded in a direction parallel to a processing surface 11a of the mounting base 11 by inserting a high-heat-conduction sheet 14 between the mounting base 11 and the back plate 12 of the heater unit 10, and an excellent soaking property is secured.
ヒータユニット１０の載置台１１と背面プレート１２の間に高熱伝導シート１４を挿入することにより、熱移動を載置台１１の処理面１１ａと平行方向に広げ、優れた均熱性を確保する。 - 特許庁 - The gas supply hole of a shower plate is arranged in the region of low electric field in which the electric field is equal to or lower than a predetermined electric field strength on the basis of electromagnetic field distribution in the shower plate surface of an electromagnetic field introduced in the plasma processing chamber.
プラズマ処理室内に導入される電磁界のシャワープレート面内における電磁界分布に従い、所定の電界強度以下となる電界の弱い領域にシャワープレートのガス供給孔を配置する。 - 特許庁 - To make it possible to perform foreign matter removal processing for a surface of an intermediate transfer body by a cleaning blade appropriately for a long period without deteriorating image productivity unnecessarily in a cycle type color image forming apparatus.
サイクル型カラー画像形成装置において、クリーニングブレードによる中間転写体表面の異物除去処理を、画像生産性を徒に低下させることなく、長期にわたり適切に行えるようにする。 - 特許庁 - To enable each position on the body surface of an examinee responding to a sliced position under processing of an image reconstruction from collection data and/or a sliced position of a reconstructed image displayed on a monitor, to be directly displayed.
収集データから画像再構成処理中のスライス位置及び又は再構成された画像のモニタに表示中のスライス位置にそれぞれ対応する被検体の体表上の位置を直接表示可能とする。 - 特許庁 - To provide a tipped saw for timber processing, the tipped saw achieving a small cut depth per one tip blade, generating less vibration and having superior linearity regardless of rip sawing and cross sawing and easily providing light and clean sawn surface.
１刃当たりの切り込み深さを小さくし得て、縦挽きや横挽きに拘わらず、振動が少なく直線性に優れると共に軽く綺麗な挽き肌が容易に得られる木材加工用チップソーを提供する。 - 特許庁 - In a system for removing foreign matter or the like sticking to the surface of a strip by providing the brush rolls on a continuous strip processing line and rotating the brush rolls, the brush rolls are released when the line is stopped.
帯板連続処理ライン内にブラシロールを設け、該ブラシロールを回転させることにより帯板表面に付着している異物等を除去するものにおいて、ライン停止時には前記ブラシロールを開放すること。 - 特許庁 - To provide a manufacturing arrangement of a semiconductor device capable of efficiently processing a substrate to be treated with heat, using a heat ray in a short time, regardless of the size of a surface area of the substrate to be treated.
被処理基板の表面積の大きさに拘らず、熱光線を用いて短時間で効率よく、かつ、略均一に被処理基板に加熱処理を施すことができる半導体装置の製造装置を提供する。 - 特許庁 - The semiconductor stacked structure includes a linear ridge 20 formed on a first surface, a pair of laser resonance surfaces 21 and 22 formed on the longitudinal edges of the ridge 20, and edge-face processing marks 8 formed in the lower edge portions of the laser resonance surfaces 21 and 22 continuing to a second surface of the semiconductor stacked structure.
前記半導体積層構造は、表面側に形成された直線状のリッジ２０と、リッジ２０の長手方向両端に形成された一対のレーザ共振面２１，２２と、レーザ共振面２１，２２において前記半導体積層構造の裏面に連なる下縁領域に形成された端面加工痕８とを含む。 - 特許庁 - The biological information processing apparatus includes: a biological sensor that obtains plural biological images of a user; a detection section that detects surface reflection areas in the plural biological images; and a storage that stores biological information obtained from biological images having surface reflection areas different from each other among the plural biological images.
生体情報処理装置は、ユーザの複数の生体画像を取得する生体センサと、複数の生体画像の表面反射領域を検出する検出部と、複数の生体画像のうち、表面反射領域が互いに異なる生体画像から得られる生体情報を記憶する記憶部と、を備える。 - 特許庁 - To provide a plasma processing apparatus performing surface modification by carburizing or the like an object to be treated comprising a metal material using plasma in an inside of a vacuum furnace, capable of optionally changing an electric field strength for plasma generation, thereby improving degree of freedom in surface modification of various objects to be treated.
真空炉の内部にてプラズマを用いて金属材料からなる被処理物の浸炭等による表面改質を行うプラズマ処理装置において、プラズマ生成のための電界強度を任意に変更可能とし、これによって多種多様な被処理物の表面改質における自由度を向上させる。 - 特許庁 - To provide a new antenna device capable of reducing the camber of an antenna panel, ensuring the surface accuracy of the antenna panel, and suppressing the convergence of solar beams by forming fine projecting and recessing parts on the surface and back face of the antenna panel by blast processing, and to provide a method for manufacturing this antenna device.
この発明は、アンテナパネルの表面及び裏面に微細凹凸をブラスト処理により形成することにより、アンテナパネルのそりを低減してアンテナパネルの表面精度を確保しつつ、太陽光の集光を抑制しうる新規なアンテナ装置及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a high gloss decorative sheet having a high gloss feeling, excellent in mirror surface properties and marking erasing properties and having an ionizing radiation curable resin, which suppresses the slip properties of a panel at the time of processing of the decorative sheet into a decorative panel, in its surface protective layer, and a decorative panel constituted by joining the decorative sheet and a substrate.
高光沢感を有する化粧シートにおいて、表面の鏡面性およびマジック消去性に優れ、かつ化粧板に加工した際の板のすべり性をおさえた電離放射線硬化性樹脂を表面保護層に有する化粧シート及び該シートと基板とを接合した化粧板を提供すること。 - 特許庁 - The image processing section 11 in the control section 10 processes an image signal stored at the image storing section 12 based on the surface potential of a latent image area in a photosensitive body measured by the surface potentiometer 6 or controls a light source drive section 52 to correct the intensity of a light beam being emitted therefrom.
制御部１０における画像処理部１１は、表面電位計６により測定した感光体における潜像領域の表面電位に基づいて、画像記憶部１２に格納した画像信号を処理し、または、光源駆動部５２を制御してそこから出射される光ビームの強度を補正する。 - 特許庁 - The information processing device interprets the operation received from the portable device in accordance with a mode corresponding to the relative solid angle between a display surface of the display unit of the portable device and a display surface of the stereoscopic display unit, and updates the state of the virtual object displayed on the stereoscopic display unit in accordance with the result of interpretation.
情報処理機器は、携帯機器のディスプレイ部の表示面と立体ディスプレイ部の表示面との相対的になす立体角に応じたモードに対応して、携帯機器から受信した操作を解釈し、解釈した結果に応じて、立体ディスプレイ部に表示した仮想物体の状態を更新する。 - 特許庁 - To provide a water-containing cutting fluid composition which is excellent in surface accuracy after processing and in detergency in a cutting process of a brittle material by adjusting its viscosity and surface tension to values lower than those of conventional ones, and to provide an industrially useful method for producing a water-containing cutting fluid having such properties.
本発明は脆性材料の切削工程において、従来品より低粘度かつ表面張力を低く調整することで加工後の表面精度と洗浄性に優れた含水切削液組成物；並びにこのような特性を有する含水切削液の工業的に有益な製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - Thereafter, the semiconductor wafer 1W is so carried to a dicing apparatus without peeling therefrom the tape 3a having the adhered ring 3b to it and in the state of keeping the tape 3a adhered to the principal surface of the semiconductor wafer 1W as to divide the semiconductor wafer 1W into semiconductor chips, by subjecting the semiconductor wafer 1W to a dicing processing from its rear-surface side.
その後、そのリング３ｂ付きのテープ３ａを剥がすことなく半導体ウエハ１Ｗの主面に貼り付けたままの状態で半導体ウエハ１Ｗをダイシング装置に搬送し、半導体ウエハ１Ｗの裏面側からダイシング処理を施して、半導体ウエハ１Ｗを半導体チップに分割する。 - 特許庁 - Moreover, shield wall plates 22 are arranged in such a way as to surround the substrate mounting surface of a lower electrode 9, between the upper and lower electrodes, thereby stagnation of the gas and unevenness in the plasma on the processing substrate in the vacuum container can be prevented, and the uniformity of the etching speed and the film forming speed on the surface of a large substrate can be improved.
さらに、下部電極９の基板載置面の周囲を囲むようにして上下電極間にシールド壁板２２を配置したことにより、真空容器内における処理基板上のガスの淀みやプラズマの不均一化を防止し、大型基板上のエッチングスピードや成膜スピードの面内均一化を高める。 - 特許庁 - To surely discriminate any obstruction on a road surface from the cover of a manhole or cats eye(rivet) on the road surface on an image so as to accurately recognize an obstruction ahead of its own vehicle by image processing whose calculation quantity is much more extremely smaller than a conventional manner of the photographic image ahead of its own vehicle of a camera for obstruction survey mounted on its own vehicle.
自車に搭載した障害物探査用のカメラの自車前方の撮影画像の従来より極めて計算量の少ない画像処理により、路面上の障害物と路面のマンホールの蓋やキャッツアイ（鋲）等とを画像上で確実に区別して自車前方の障害物を精度よく認識する。 - 特許庁 - While rotating an interruption plate 5, washings are supplied to the upper surface of the interruption plate 5 from a washing nozzle so that the treating solution adhering to the interruption plate 5, the inner surface of a partition wall 11 of the processing chamber 1, a moving nozzle 4, an arm 41, and an arm supporting shaft 43, etc. may be washed away with washings.
遮断板５を回転させながら、その遮断板５の上面に洗浄ノズルから洗浄液を供給することによって、遮断板５、処理室１の隔壁１１の内面、移動ノズル４、アーム４１およびアーム支持軸４３などに付着している処理液が洗浄液で洗い流される。 - 特許庁 - The steel plate surface inspection apparatus includes: a mist spray nozzle for spraying a fine mist to the steel plate immediately after casting to cool a surface of the steel plate; an imaging device for imaging radiation light from a cooled part during cooling or immediately after cooling; and a signal processor for detecting a defect occurring on the steel plate by image processing of a picked-up image.
鋳造直後の鋼板に微細なミストをスプレーし表面を冷却するためのミストスプレーノズルと、冷却中又は冷却直後の冷却部分からの放射光を撮像する撮像装置と、撮像した画像を画像処理することにより前記鋼板に生じた欠陥を検出する信号処理装置とを具備する。 - 特許庁 - To provide a device in which a slurry additive in a slurry tank is prevented from being diffused and migrating out of the slurry tank during continuous processing operation for a long time, a distributing state of the slurry additive is stabilized, variation in the amount of the slurry additive acting on surface treatment of a fine through-hole in an axial direction is prevented, and quality of the surface treatment is stable.
長時間の連続加工運転時に、スラリータンク内のスラリー添加物が拡散しスラリータンク外に移動することを防止し、スラリー添加物の分布状態が安定し、軸方向貫通微細穴の表面処理に作用するスラリー添加物の量がばらつきかず、表面処理品質が安定した装置を提供。 - 特許庁 - Recording paper P on which only a monochrome image is formed by image forming processing of an electrophotographic system in a 1st image forming part 20 is housed in an external paper ejection tray 39B or 39C in a facedown state where its image surface is turned downward when the one-sided image is formed and its 1st surface is turned downward when the double-sided image is formed.
第１画像形成部２０での電子写真方式の画像形成処理によるモノクロ画像のみが形成された記録用紙Ｐを片面画像形成時には画像面が下向きになり、両面画像形成時には第１面が下向きになるフェイスダウン状態で外部排紙トレイ３９Ｂ又は３９Ｃに収納する。 - 特許庁 - An image sensor and reference marks are placed at the mirror reflection positions on the surface of the measurement object, the mirror images of the reference marks imaged by the surface of the measurement object are picked up, the positional coordinates of the reference marks are calculated by image processing, and the difference from the standard positional coordinates is obtained, and thereby, the value of the difference is converted into the value of the warp.
画像センサと基準マークを測定対象物表面でミラー反射する位置に設置し、画像センサで測定対象物表面に映り込んだ基準マークの鏡像を撮像し、画像処理することで基準マークの位置座標を算出し、標準位置座標との差異を求め、その値を反り量に換算する。 - 特許庁 - In a base material (10) for a multilayer wiring board, the insulating adhesive layer (15) with the tops (12A) of the bumps exposed or projected therefrom by optically processing a photosensitive insulating material (13) having adhesive properties is formed on the bump forming surface of a metallic layer (11), in which the bumps (12) for the inter-layer conduction are formed to one surface.
多層配線板用基材（１０）は、片面に層間導通用のバンプ（１２）が形成された金属層（１１）のバンプ形成面に、接着性を有する感光性絶縁材料（１３）を光学処理することでバンプの頂部（１２Ａ）が露出または突出した絶縁接着層（１５）を形成した。 - 特許庁 - This visual inspection device includes a linear light source 2 for obliquely illuminating the surface of an inspecting object 5 sent in a fixed direction, a line sensor type camera 1 for capturing reflected light on the surface of the inspecting object of the light from the light source, and an image processing circuit 3 for detecting a defect from the contrast of an output image from the camera.
一定方向に送られる被検査物５の表面に斜光照明を行うライン状光源２と、該光源からの光の被検査物表面での反射光を捕らえるラインセンサ型カメラ１と、上記カメラの出力画像の明暗から欠陥を検出する画像処理回路３とからなる。 - 特許庁 - A silicon substrate processing method, wherein hydrogen is introduced from the surface of a silicon substrate to inactivate the defect of the silicon substrate, comprises a process for heating the silicon substrate, a process for quickly cooling the silicon substrate, and a process for irradiating hydrogen against the surface of the silicon substrate.
本発明のシリコン基板の処理方法は、シリコン基板の表面から水素を導入し、シリコン基板の欠陥を不活性化する処理方法であって、シリコン基板を加熱する工程と、シリコン基板を急冷する工程と、シリコン基板の表面に水素を照射する工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a 3-D configuration measurement device capable of reducing or inhibiting the abnormal phenomena in height measurement caused by saturation phenomena generating in the PSD (position sensing device) and its signal processing circuit by very strong reflection light from measurement object of the almost mirror surface like as metallic surface at the time of height measurement with the triangulation method.
三角測量法で高さ測定を行う場合に、測定対象が金属面などの鏡面に近く非常に強い反射光により、ＰＳＤおよびその信号処理回路で発生する飽和現象による高さ測定異常を、低減・抑制することのできる、立体形状測定装置を提供する。 - 特許庁 - A sample retaining tray used in the tissue sample processing system comprises a reagent-holding portion that defines a reagent-retaining recess; a sample-holding portion that defines a platen that includes a reagent surface; and a fluid flow portion that is configured to place the reagent-retaining recess that is in fluid communication with the reagent surface.
組織サンプル処理システムにおいて用いられるサンプル保持トレイであって：試薬保持凹部を規定する試薬保持部分；試薬表面を含むプラテンを規定するサンプル保持部分；および該試薬保持凹部を該試薬表面と流体連絡に置くような形態である流体流れ部分を備える、サンプル保持トレイ。 - 特許庁 - This method of processing a thin plate cut out from a nearly cylindrical or prismatic block, and when defects occur in the outer periphery or surface of the thin plate in the process, the thin plate having defects on its surface or periphery is processed into a product in a smaller size and a smaller thickness than the initial target product standards.
略円筒状または角柱状の塊状物から切り出された薄板を加工する方法であって、加工工程において前記薄板の外周部もしくは表層に不良が生じた薄板を、初期に目的とした製品規格より小さい大きさで厚さの薄い規格の製品に加工する。 - 特許庁 - A capacitor is housed or built in a multilayered printed wiring board, in which at least a part of its surface makes a contact angle of 7 to 45° with respect to water, and at least a part of its surface is subjected to at least plasma processing, cleaning, or an acid treatment.
多層プリント配線板に収納または内蔵させるコンデンサであって、その表面の少なくとも一部は、水に対する接触角が７〜４５°であることを特徴とするコンデンサであって、その表面の少くとも一部にはプラズマ処理、洗浄処理および酸処理のうちの少くとも一の処理が施されている。 - 特許庁 - The plasma processing apparatus includes one or more antenna openings 22 formed in a wall surface of a vacuum container 4; a lid 24 for covering an external surface of the vacuum container; antenna conductors 26 provided inside the respective antenna openings 22; and dielectric cups 30 that cover the antenna conductors 26 in the respective antenna openings 22.
このプラズマ処理装置は、真空容器４の壁面に設けられた１以上のアンテナ用開口２２と、その真空容器外側の面を塞いでいる蓋２４と、各アンテナ用開口２２内に設けられたアンテナ導体２６と、各アンテナ用開口２２内においてアンテナ導体２６を覆っている誘電体カップ３０とを備えている。 - 特許庁 - The plasma processing apparatus includes an electrode for applying an excitation voltage to a discharge gas to generate plasma; a jetting mechanism provided relatively movably with the surface to be processed and jetting the plasma to the surface to be processed; and a rotary mechanism configured to rotate and move the electrode such that the axis of rotation is in the jetting direction of the plasma.
放電用ガスに励起電圧を印加してプラズマを発生させる電極と、被処理面との間で相対的に移動可能に設けられ、前記プラズマを前記被処理面に噴射する噴射機構と、前記プラズマの噴射方向を回転軸方向として前記電極を回転移動させる回転機構とを備える。 - 特許庁 - The image processing device 101 formed on the upper surface of an image forming device 103 is provided with a first paper discharge unit 204 for discharging record papers to a paper receiving space 210, and a second paper discharge unit 205 for discharging record papers except the paper receiving space 210 provided in the side surface of the image forming device 103.
画像処理装置１０１は、画像形成装置１０３の上面に設けられ、記録用紙を用紙受取空間２１０に排出する第１排紙部２０４と、画像形成装置１０３の側面に設けられ、記録用紙を用紙受取空間２１０以外に排出する第２排紙部２０５とを備える。 - 特許庁 - The plasma processing device includes: a UV irradiation means 1 for irradiating ultraviolet rays UV on the surface of an object S to be processed; and a plasma supply means 2 for supplying plasma P on the surface of the object S with the ultraviolet rays UV irradiated by the UV irradiation means 1, both means arranged adjacent to each other.
被処理物Ｓの表面に紫外線ＵＶを照射するための紫外線照射手段１と、紫外線照射手段１で紫外線ＵＶが照射された被処理物Ｓの表面にプラズマＰを供給するためのプラズマ供給手段２とを隣り合って配置したプラズマ処理装置に関する。 - 特許庁 - While the surface of the semiconductor wafer W is held at a nearly constant processing temperature T2, even a position a little deeper than the surface is raised in temperature to some extent, so the activation of implanted ions and the recovery of an introduced defect are both achieved without thermally damaging the semiconductor wafer W.
半導体ウェハーＷの表面温度を概ね一定の処理温度Ｔ２に維持しつつも、表面よりやや深い位置をもある程度昇温することができるため、半導体ウェハーＷに熱的なダメージを与えることなく、注入されたイオンの活性化および導入された欠陥の回復の双方を行うことができる。 - 特許庁 - The steering switch comprises a load detection switch 30 disposed along a surface of a steering wheel 20, a plurality of switch units 40a-40j disposed on the surface of the steering wheel 20 at the position of arranging the load detection switch 30, and a processing unit 7 to receive the input based on the detection signal from the load detection switch 30.
ステアリングホイール２０の表面に沿って配設された荷重検出スイッチ３０と、ステアリングホイール２０の表面であって荷重検出スイッチ３０の配設位置上に設けられた複数のスイッチ部４０ａ〜４０ｊと、荷重検出スイッチ３０からの検出信号に基づいて入力を受付ける処理部７とを備えている。 - 特許庁 - The measured surface shape of the evaporation pipe 4 is superimposed on a reference surface shape for the evaporation pipe 4, including the reference mark and having no reduction in thickness, which has been stored previously in a storage means, and the amount of the reduction in thickness of the evaporation pipe 4 is calculated from the difference between both by the signal processing device 16.
計測された蒸発管４の表面形状を、信号処理装置１６によって、記憶手段に予め記憶された減肉がない状態における、前記基準マークを含む蒸発管４の基準表面形状に重ね合わせて、両者の差分から蒸発管４の減肉量を算出する。 - 特許庁 - A construction method division determination part 16a determines, on the basis of information showing finished states of a side surface in respective stages and finished states of a bottom surface in respective stages, which are indicated by hole information, construction method divisions suitable for processing of a hole represented by the hole information per stage in accordance with stored contents in an HDD 10d.
工法区分決定部１６ａが、穴情報が示す各段毎の側面の仕上がり状態を表す情報、及び各段毎の底面の仕上がり状態を表す情報に基づいて、この穴情報が示す穴の加工に適した工法区分をＨＤＤ１０ｄに記憶された記憶内容から各段毎に決定する。 - 特許庁 - The correction function creation step creates the optical condition correction function that corrects a lighting parameter other than an exposure amount to be used in exposure processing onto the first substrate based on exposure coordinates within the first substrate surface on the basis of a substrate in-surface size distribution of a pattern formed on a second substrate.
補正関数作成ステップでは、第１の基板上への露光処理に用いる露光量以外の照明パラメータを前記第１の基板面内の露光座標に基づいて補正する光学条件補正関数を、第２の基板上に形成したパターンの基板面内寸法分布に基づいて作成する。 - 特許庁 - To provide an image forming apparatus and image forming system which can execute coating processing such as varnish and a film onto a fixed surface of a transfer material on which the toner image is fixed, while avoiding a drop in operating efficiency and high cost of production, and can improve correctivity on the fixed surface of the transfer material.
作業効率の低下及びコスト高を回避しつつ、トナー画像が定着された定着済みの転写材の表面へのニス、フィルム等のコート処理を良好に行うことができ、当該定着済みの転写材の表面における加筆性を向上させることができる画像形成装置及び画像形成システムを提供する。 - 特許庁 - By subjecting a mother substrate 6 to a chemical strengthening treatment, a compression stress layer of 15 to 50 μm in thickness is formed on the surface; after a desired processing tretament is carried out on at least one surface of the mother substrate 6, the mther substrate 6 is cut along imaginary lines 10 into individual glass substrates 1.
マザー基板６に化学強化処理を施すことにより、表面に１５〜５０μｍの厚さの圧縮応力層を形成し、前記マザー基板６の少なくとも一方の面に所望の加工処理を行った後、前記マザー基板６を仮想の切断線１０に沿って個片のガラス基板１に切断することを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a photosensitive dry film which can be developed with a water-based developer, ensures good surface smoothness, flame retardancy, adhesion and surface hardness of a cured film after an alkali processing step, and avoids bleed-out of a flame retardant from the cured film; and to provide a printed wiring board using the photosensitive dry film.
本願発明の課題は、水系現像が可能で、アルカリ処理工程後の硬化膜表面平滑性、難燃性、密着性、表面硬度が良好で、かつ、硬化膜からの難燃剤のブリードアウトが発生しない優れた感光性ドライフィルム、及びこれを用いたプリント配線板を提供することにある。 - 特許庁 - To provide a method for producing a permanent protective coating for a printed wiring board using an excellent photosensitive resin composition which can be developed with a water-based developer, ensures good surface smoothness, flame retardancy, adhesion and surface hardness of a cured film after alkali processing, and avoids bleed-out of a flame retardant from the cured film.
本願発明の課題は、水系現像が可能で、アルカリ処理後の硬化膜表面平滑性、難燃性、密着性、表面硬度が良好で、かつ、硬化膜からの難燃剤のブリードアウトが発生しない優れた感光性樹脂組成物を用いたプリント配線板用永久保護膜の製造方法を提供することにある。 - 特許庁 - First and second openings 440, 450 are formed in the first and second metal plates, respectively, and first and second inclined surfaces 441, 451 are formed at first and second opening peripheral units 44, 45, respectively for dividing and forming the first and second openings 440, 450 by press surface processing to allow exposure to a surface side of the dial 4.
第１、第２金属板には、第１、第２開口４４０，４５０がそれぞれ形成され、第１、第２開口４４０，４５０を区画形成する第１、第２開口周縁部４４，４５には、文字板４の表面側に露出するようにプレス面押し加工により第１、第２傾斜面４４１，４５１がそれぞれ形成される。 - 特許庁 - To provide a polishing method of a semiconductor substrate which can be obtained with high yield by optimizing a center line average roughness on a polishing pad surface for CMP and processing pressure at the time of polishing, reducing the total number of defects on the semiconductor substrate surface after polishing, and also reducing the ratio of scratches in the defects.
ＣＭＰ用研磨パッド表面の中心線平均表面粗さおよび研磨時の加工圧力を適正化し、半導体基板表面の研磨後の総欠陥数を減らしかつ欠陥に占めるスクラッチの割合を低減して、高い歩留まりを得ることが可能な半導体基板の研磨方法を提供すること。 - 特許庁 - The processing region T2 includes: a lower chuck 100 for placing the lower wafer W_L on an upper surface for holding; an upper chuck 101 for holding the upper wafer W_U on a lower surface; and a pressing member 120 for allowing one edge of the lower wafer W_L to abut on one edge of the upper wafer W_U for pressing when the wafers W_U, W_L are joined.
処理領域Ｔ２には、上面に下ウェハＷ_Ｌを載置して保持する下部チャック１００と、下面に上ウェハＷ_Ｕを保持する上部チャック１０１と、ウェハＷ_Ｕ、Ｗ_Ｌの接合時に下ウェハＷ_Ｌの一端部と上ウェハＷ_Ｕの一端部とを当接させて押圧する押動部材１２０とが設けられている。 - 特許庁 - To provide an apparatus capable of eliminating a cause of particle generation and the necessity of a substrate cooling mechanism by eliminating the necessity of heating a substrate in coating an adhesion reinforcing agent on the main surface of a substrate in substrate processing of forming an application film after coating the adhesion reinforcing agent on the main surface of the substrate.
基板の主面に密着強化剤を被着させた後に塗布膜を形成する基板処理において、基板の主面に密着強化剤を被着させる際に基板を加熱する必要を無くし、パーティクル発生の原因を取り除くとともに、基板冷却機構を不要とすることができる装置を提供する。 - 特許庁
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