「surface processing」を含む例文一覧(7705)
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その表面を覆うように透明導電膜１２を形成し、その上に平坦化膜１３を形成し、貫通孔および凹所以外の領域のアクリル系樹脂膜１０が露出するまで全面エッチングすることで画素電極１２ａをパターニングし、コンタクトホール加工と画素電極パターニングを１枚のフォトマスクで行う。 - 特許庁 - With respect to the processing method for a recording sheet S which can be recycled by removing printing toner stuck to the surface, the surface of the recording sheet S to which toner is stuck is subjected to unreadability treatment by an unreadability treatment part, for example, a heat roll 13 of an unreadability treatment device 10 so that secret information cannot be seen from the outside.
表面に付着された印字用トナーを除去することにより再生可能な記録シートＳの処理方法において、トナーが付着した記録シートＳの表面に、不読化処理装置１０の不読化処理部、たとえば加熱ローラ１３等により不読化処理を施し、外部から機密情報が見えないようにする。 - 特許庁 - At the surface processing, the table 10 is rotated in a state that the substrates 12 are placed on a plurality of portions of the table 10, respectively apart from the base end of the protrusion 13 to the direction of an outer peripheral end portion of the table 10 with an equal distance from the tip of the protrusion 13, while each surface to be processed is horizontally supported.
表面処理時には、突起部１３の基端からテーブル１０の外周端部方向に所定距離だけ離れ、且つ、それぞれ突起部１３の先端から等距離となるテーブル１０上の複数の部位に、基板１２をその被処理面が水平になるように支持した状態でテーブル１０を回転させる。 - 特許庁 - To provide a surface protection polypropylene based resin film roll which excels in heat-resistant dimensional stability and flatness, excels in impact resistance and lamination processability, reduces fish eyes, has good transparency, furthermore does not vary the external appearance, and is suited in each step of pressure-sensitive adhesive application, adhesion processing, and peeling and a surface protection film roll.
耐熱寸法安定性や平面性に優れ、耐衝撃性や貼り合わせ加工性に優れ、フィッシュアイが少なく、透明性がよく、さらに外観変動がなく、粘着剤塗布・粘着加工・剥離の各工程に適した表面保護用ポリプロピレン系樹脂フィルムロールおよび保護フィルムロールを提供することにある。 - 特許庁 - The main surface key 4a is formed on the main surface of the operation casing 5, and the end face key 4b is formed on the end face of the operation casing 5, so that a user can easily understand a group of operation keys to be operated in order to execute processing related to respective display regions 20a, 20b, and hence improving the operability.
主面キー４ａは操作筐体５の主面に形成され、端面キー４ｂは操作筐体５の端面に形成されているので、各表示領域２０ａ，２０ｂに関する処理を実行させるためにいずれの操作キー群を操作すればよいかがユーザにとって分かりやすく、操作性が向上する。 - 特許庁 - The adhesive sheet 10 for pattern transfer includes a substrate 11 and an adhesive layer 12 laminated on one surface side of the substrate, in which the substrate has a peeling processing layer 11a composed of a projection section having a height of 5-200 μm and a width of 10-1,000 μm on the other surface side.
基材１１と、該基材の一面側に積層された粘着剤層１２とを備えたパターン転写用粘着シート１０であって、前記基材は、他面側表面に高さ５〜２００μｍ及び幅１０〜１０００μｍの凸部による剥離処理層１１ａを有することを特徴とするパターン転写用粘着シート。 - 特許庁 - The image processing device is equipped with a shading correction processor 22 which performs the shading correction when scanning a manuscript by light from the luminous source and a scanning surface density correction means 50 to which shading correction data are input from the shading correction processor 22 to correct the variation in density on the scanned surface of the manuscript based on the shading correction data.
光源からの光により原稿を読み取る際にシェーディング補正を行うシェーディング補正処理部２２と、シェーディング補正処理部２２からのシェーディング補正データが入力され、このシェーディング補正データに基づいて原稿の読取面における濃度ばらつきを補正する読取面内濃度補正手段５０とを備える。 - 特許庁 - In one embodiment, the method for low temperature aerosol deposition includes forming an aerosol of fine particles in an aerosol generator, dispensing the aerosol from the aerosol generator into a processing chamber toward a surface of a substrate, maintaining the substrate temperature at between 0 degrees Celsius and 50 degrees Celsius, and depositing a layer from a material in the aerosol on the substrate surface.
一実施形態において、低温エアロゾル堆積方法は、エアロゾル発生器において微粒子エアロゾルを形成し、エアロゾル発生器から処理チャンバへ基板表面に向かってエアロゾルを分配し、基板温度を摂氏約０度〜摂氏５０度の間に維持し、エアロゾル中の材料から基板表面に層を堆積することを含む。 - 特許庁 - The copper foil for laser perforation processing is characterized in that a surface layer, which comprises a metal or alloy with an electric resistivity at a room temperature of 50n Ωm, a melting point of 2855 K or lower and a boiling point of 2855 K or higher or both of them, is formed on the surface on laser irradiation side of a copper foil.
銅箔のレーザ照射側の表面に、室温での電気抵抗率が50n Ωm 以上であって、融点が2855K 以下であり、且つ沸点が2855K 以上である金属または合金の何れか若しくは両方からなる表面層が形成されていることを特徴とするレーザ穴あけ加工用銅箔である。 - 特許庁 - When forming, for example, the surface of a lower electrode for a capacitor on the surface of a semiconductor wafer W which is an object to be processed, a process of depositing a HSG polysilicon film (rugged polysilicon film) 16 non-selectively and a process of doping an impurity such as phosphorus into the polysilicon film are conducted continuously in one and the same processing container 28.
被処理体である半導体ウエハＷの表面に例えばキャパシタ用の下部電極の表面を形成する場合、非選択でＨＳＧポリシリコン膜（ラグドポリシリコン膜）１６を堆積させる工程と、このポリシリコン膜中に不純物、例えばリンをドープさせる工程とを、同一の処理容器２８内で連続的に行なう。 - 特許庁 - To provide a protective sheet used by sticking to a surface of a civile engineering structure and a construction structure for protecting its surface by applying waterproof processing in the civil engineering structure and the construction structure; and a technology of a protective method of the civil engineering structure and the construction structure using this protective sheet.
土木構造物及び建築構造物における防水処理を施しその表面を保護する土木構造物及び建築構造物の表面に貼付して使用される保護用シート及び前記保護用シートを使用した土木構造物及び建築構造物の保護方法の技術を提供する。 - 特許庁 - This image forming apparatus is provided with a first reading means for reading specular reflection; and a second reading means for reading diffused reflection, determines the mirror surface part from the reading result by the first reading means, and performs replacement processing on the data of the mirror surface part in an image read by the second reading means, and so on.
正反射光を読み取る第１の読み取り手段と乱反射光を読み取る第２の読み取り手段を設け第１の読み取り手段による読み取り結果から鏡面部分を判定し、第２の読み取り手段で読み取った画像における前記鏡面部分のデータの置換処理などを行う。 - 特許庁 - A surface of a workpiece W being processed is imaged by an imaging means 9, and kerf 17 formed at upper and lower, or right and left sides of a chip 13 in a captured image of the surface of the workpiece W are inspected through image processing by a control means 8 to measure the size of the chip 13, thereby confirming a cutting state.
加工中のワークＷ表面を撮像手段９により撮像し、撮像されたワークＷ表面の映像に写るチップ１３の上下または左右に形成されたカーフ１７に対し、制御手段８により画像処理による検査を行うことでチップ１３のサイズを計測して切削状態を確認する。 - 特許庁 - This woody floor material is formed by performing finishing painting on a surface of the provided grain pattern by ultraviolet-curing transparent paint, by forming a transfer printing layer 5 by performing transfer printing of the grain pattern on this hiding layer 4 by the plate roller, by forming the hiding layer 4 by all-over painting, by performing backing processing on a surface of the decorative plywood.
化粧合板の表面を下地処理し、さらにベタ塗りにより隠蔽層４を形成し、この隠蔽層４の上に木目柄を版ロールにより転写印刷して転写印刷層５を形成し、得られた木目柄の表面を紫外線硬化型透明塗料により仕上げ塗装をしてなる木質系床材。 - 特許庁 - To provide a pressure-sensitive adhesive film for surface protection of a silicon oxide film, which pressure-sensitive adhesive film has high adhesion to a surface of the silicon oxide film while attached thereto, is easily released without performing complicated treatment when peeled off and removed, and does not generate adhesive deposits derived from the pressure-sensitive adhesive film upon processing, such as cutting.
貼付している間はシリコン酸化膜面に対して高い密着性を有し、剥離除去の際には煩雑な処理を行うことなく容易に剥離することができ、且つ、カッティング等の加工の際には粘着フィルム由来の糊カスが発生しないシリコン酸化膜面保護用粘着フィルムを提供する。 - 特許庁 - While the application head 3 discharging processing liquid moves on the whole upper surface of the substrate 100, the control part 8 determines the presence or not of the foreign matter on the upper surface of the substrate 100 based on the result obtained by comparing between the detected data and the threshold data and controls the movement of the application head 3 based on the determination result.
制御部８は、塗布ヘッド３が処理液を吐出している状態で同じ基板１００の上面の全面に対して移動する間に、検出データと閾値データとを比較した結果に基づいて基板１００の上面における異物の有無を判別し、この判別結果に基づいて塗布ヘッド３の移動を制御する。 - 特許庁 - To provide a sheet guide device having a movable guide surface for a processing treatment machine, constituted so that the guide surface of the sheet guide device is easily moved between a sheet holding mechanism and another sheet holding mechanism on the downstream side of the sheet transfer passage of the sheet holding mechanism.
本発明は、加工処理機用の可動ガイド面を有する枚葉紙ガイド装置に関し、該枚葉紙ガイド装置のガイド面が、枚葉紙保持機構の枚葉紙移送路の下側でしかも前記枚葉紙保持機構とさらに他の枚葉紙保持機構の間において容易に動かせられる枚葉紙ガイド装置を提供することを目的とする。 - 特許庁 - The porous body having continuous pores and the microstructure that the pores continue in the area from the surface to the inside is obtained without post-processing by providing a component forming pores when it diminishes on the surface of a cavity in a molding flask, then pouring a gel casting slurry into the cavity and forming, and firing the obtained formed body.
型枠内のキャビティの表面に消失して気孔を形成する成分を配してからキャビティ内にゲルキャスティングスラリーを流し込んで成形し、得られた成形体を焼成することにより、非加工状態で表面から内部に至る領域で気孔が連続した微構造を有する連孔多孔質体を得る。 - 特許庁 - When necessary processing is performed on the glass substrate and rough polishing and then finish polishing are performed on the surface of the glass substrate, a finish polishing process comprises an ultra-precision polishing step of polishing the surface of the glass substrate by using a polishing liquid (polishing slurry) comprising colloidal silica abrasive grains produced by hydrolysis of an organosilicon compound.
ガラス基板に必要な加工処理を施し、表面を粗研磨した後に仕上研磨を行う方法において、その仕上研磨工程の中に、有機ケイ素化合物を加水分解することで生成したコロイダルシリカ砥粒を含む研磨液（スラリー）を用いて研磨する超精密研磨工程を設ける。 - 特許庁 - To provide a pressure-sensitive adhesive tape for semiconductor wafer processing which does not contain a surfactant and an organic tin compound as curing accelerator in a pressure-sensitive adhesive layer, exhibits superior prevention performance concerning the surface adhesive deposit and the lateral surface adhesive deposit and further exhibits superior prevention performance concerning the LM (Laser Mark) adhesive deposit.
本発明により、粘着剤層に、界面活性剤や、硬化促進剤としての有機スズ化合物を含まず、表面糊残り、側面糊残りにおいて優れた防止性能を発揮し、かつ、ＬＭ糊残りについても優れた防止性能を発揮する半導体ウエハ加工用粘着テープを提供する。 - 特許庁 - Further, in the arithmetic processing circuit 11, the surface reflected light component or diffused and reflected light component is changed by an expression based on a horn illumination model or Lambert reflection model and on the basis of that changed surface reflected light component or diffused and reflected light component, the pixel value is changed.
さらに、演算処理回路１１では、表面反射光成分または拡散反射光成分が、それぞれをフォーンイルミネーションモデルまたはランベルシャンリフレクションモデルによって表現することで変更され、その変更後の表面反射光成分または拡散反射光成分に基づいて、画素値が変更される。 - 特許庁 - In the laser processing method of removing the residual defect of the photomask, the substrate is set so as to make its surface to be processed face downward, and the surface of the substrate is irradiated with a laser beam from below in an atmosphere containing halogenated hydrocarbon gas (e.g. ethyl iodide gas) to remove the residual defect.
フォトマスクの残留欠陥をレーザ加工法によって除去するレーザ加工方法において、被加工面を下向きにして、下方からレーザ光を照射する構成として、ハロゲン化炭化水素ガス（一例として沃化エチルガス）を含む雰囲気中でレーザ光を照射して、残留欠陥の除去を行う。 - 特許庁 - A processing device 3 comprises: a conversion part 33 to convert the information on the lightness and the color of every pixel extracted from the image imaged by the imaging device 2 into a surface angle of the test object 7; and a surface extract part 34 which extracts planes having a same angle by grouping the angle of the every pixel.
処理装置３は、撮像装置２から撮像した画像から抽出される画素ごとの明度と色との情報を用いて検査対象７の表面の角度に換算する換算部３３と、画素ごとの角度をグループ化することにより同じ角度を有した平面を抽出する面抽出部３４とを備える。 - 特許庁 - In the image conversion method using a computer for image conversion processing, an image picked up by a camera whose optical axis is tilted at an arbitrary angle with respect to a reference surface is converted into an image substantially equivalent to an image picked up by the camera whose optical axis is at right angles to the reference surface.
コンピュータにより画像変換処理を行う画像変換方法において、基準面に対して光軸が任意の角度傾いたカメラにより撮像した撮像画像を、基準面に対して光軸が垂直な状態のカメラにより撮像した撮像画像と実質的に等価な画像に変換するように構成する。 - 特許庁 - When a plurality of substrates are processed under the same processing conditions, a resist film being formed on the major surface of the last substrate becomes thinner as compared with a resist film being formed normally on the major surface of a substrate because the last substrate is not subjected to thermal effect when it is carried from the cooling unit to the coating unit.
複数枚の基板を同一の処理条件にて処理したとすると、最終基板については冷却ユニットから塗布処理ユニットに搬送する工程での熱影響が無いことに起因して、その主面に形成されるレジスト膜の膜厚が通常基板の主面に形成されたレジスト膜の膜厚よりも薄くなる。 - 特許庁 - In the drying processing, the substrate W is thus heated while the high-temperature nitrogen gas is supplied to the substrate back surface Wb, so even if many steam components are present at a periphery of the substrate, no drop of water sticks on the substrate surface Wf and the substrate W is securely dried.
このように乾燥処理の間、基板裏面Ｗｂに高温窒素ガスを供給して基板Ｗを加熱しているため、仮に基板の周辺に多量の水蒸気成分が存在していたとしても、基板表面Ｗｆに水滴は付着することなく、基板Ｗを確実に乾燥することができる。 - 特許庁 - The biological information processing method includes the steps of: obtaining the plural biological images of the user using the biological sensor; detecting the surface reflection areas in the plural biological images; storing the biological information, which is obtained from the biological images having surface reflection areas different from each other among the plural biological images, in the storage.
生体情報処理方法は、生体センサを用いて、ユーザの複数の生体画像を取得し、複数の生体画像の表面反射領域を検出し、複数の生体画像のうち、表面反射領域が互いに異なる生体画像から得られる生体情報を記憶部に記憶する、ものである。 - 特許庁 - A surface characteristic of the organic resin film is improved and peeling liquid is prevented from penetrating inside the organic resin film when the resist film formed on the organic resin film is peeled (including after peeling of the resist film) for patterning the organic resin film by previously plasma-processing a surface of the organic resin film.
有機樹脂膜の表面を予めプラズマ処理することにより、有機樹脂膜の表面特性を改善し、有機樹脂膜のパターニングのために有機樹脂膜上に形成されたレジスト膜を剥離する際（レジスト膜の剥離後も含む）に剥離液が有機樹脂膜内部に浸透するのを防ぐことを特徴とする。 - 特許庁 - This V ribbed belt 1 has an adhesive rubber layer 2 embedded with a conductor 3 and a compressed rubber layer 4 composed of a plurality of rib parts 5 extending in the belt lengthwise direction, and is characterized by having a surface hardened layer 7 formed on the rib part 5 surface by electron bream irradiating processing.
心線３を埋設した接着ゴム層２とベルト長手方向に延在する複数のリブ部５からなる圧縮ゴム層４を有するＶリブドベルト１において、リブ部５表面に電子線照射処理によって形成される表面硬化層７を有すること特徴とするＶリブドベルト１である。 - 特許庁 - A first surface 380 of the first plate 320 and a second surface 390 of the second plate 360 include one or more corresponding configurations disposed thereon such that the plates 320 and 360 are both compressed by hydrostatic compression and formed into plates for supporting a substrate during the processing of the substrate.
第１のプレート３２０の第１の表面３８０と第２のプレート３６０の第２の表面３９０は、両プレート３２０，３６０が静水圧圧縮によって共に圧縮され、かつ基板処理時に基板を支持するためにプレート状構成に形成されるように、その上に配置されている１つ以上の対応する構成を含む。 - 特許庁 - The rewritable card processor is provided for enabling erasing of card surface printing and reprinting of a card surface, wherein a communication unit, a print head, an erasing head in this order from an insertion port are disposed on a transfer path, thereby enabling the shortest transfer path and processing without an excess reciprocating operation of a card on the transfer path.
カード表面の印刷を消去及び再印刷できるリライトカードの処理装置において、挿入口から見て、通信部、印字ヘッド、消去ヘッドの順で搬送路上に配置することにより、最短の搬送路で、搬送路上におけるカードの余分な往復動作無く処理することができる。 - 特許庁 - In the method for forming a thin film for a solar cell, by which a thin film containing a plurality of elements is formed on a surface of a workpiece, a raw material solution containing the elements is scattered as particulates in a processing space by an electric field, and the scattered particulates are deposited on the surface of the workpiece to form a thin film.
複数の元素を含む薄膜を被処理体の表面に形成する太陽電池用の薄膜形成方法において、元素を含む原料溶液を電界により微粒子として処理空間に飛散させて、飛散された前記微粒子を被処理体の表面に付着させて薄膜を形成するようにする。 - 特許庁 - To provide an optical transceiving module and an optical element used for it without requiring an optical wave-guide and even without requiring a groove processing process and an insertion process of an optical wavelength selective filter for a groove by attaching the optical wavelength selective filter on light receiving surface of a photo-detector or an end surface of an optical fiber.
受光素子の受光面或いは光ファイバの端面に光波長選択フィルタを取り付けることにより、光導波路を必要とせず、溝加工プロセスおよび溝に対する光波長選択フィルタの挿入プロセスも必要としない、光送受信モジュールおよびこれに使用される光学素子を提供する。 - 特許庁 - The method forms structures arranged on a substrate in a two-dimensional manner by forming a single layer by arranging spherical particles on the surface of the substrate so as to fill the surface with the spherical particles most densely using self-organization of the spherical bodies, and performing etching processing using the single layer formed of the spherical particles as an etching mask.
球体の自己組織化を利用して、基板表面に球状粒子を最密に充填するように配置して単層を形成し、前記球状粒子からなる単層をエッチングマスクとしてエッチング処理を行うことにより、基板上に規則的に二次元配置した構造体を形成する方法。 - 特許庁 - To provide a technology for preventing influences of a processing portion for division which is processed for dividing a printed circuit board after component mounting, when setting a reference surface which becomes a reference of a hight, to a solder point to be measured on the printed circuit board and determining a height of a solder with respect to the reference surface.
プリント板上の測定しようとするはんだ箇所に対し、高さの基準となる基準面を設定し、その基準面に対するはんだの高さを求めるときに、部品実装後のプリント板を分割するために加工された分割用加工部の影響を受けないようにする技術を提供する。 - 特許庁 - When depth information acquired by analyzing natural raw elements by a surface shape analyzing device is input from a depth information input means 10, a bypass processing means 20 removes low frequency components equivalent to non-uniform thickness or bending, and extracts only high frequency components equivalent to the surface irregularity for correction.
天然素材を表面形状分析装置により分析して得た深度情報を、深度情報入力手段１０から入力すると、ハイパス処理手段２０が、不均一な厚みもしくはたわみに相当する低周波成分を除去して、表面凹凸に相当する高周波成分のみを抽出する補正を行う。 - 特許庁 - The method of manufacturing a nitride-based semiconductor layer includes a step of applying nitride processing to one main surface of the sapphire substrate at a temperature of 800-1,200°C before forming the nitride-based semiconductor layer, and a step of forming the nitride semiconductor layer by an organic metal vapor phase growing method on the surface of the nitride-processed sapphire substrate.
窒化物系半導体層の形成方法は、窒化物系半導体層の形成前にサファイア基板の一主面を８００℃から１２００℃の範囲の温度で窒化処理し、その窒化処理されたサファイア基板面上に有機金属気相成長法により窒化物半導体層を結晶成長させる。 - 特許庁 - An angle between a component Gds along the surface of a screen S in a gravity direction Gd detected by a gravity sensor 20a and a component Pds along the surface of the screen S in the installation direction Pd of the projector is calculated, and image processing is performed so as to rotate the image only by the calculated angle, then, the image is projected to the screen S.
重力センサ２０ａの検出による重力方向ＧｄのスクリーンＳ面に沿う成分Ｇｄｓと、当該プロジェクタの設置方向ＰｄのスクリーンＳ面に沿う成分Ｐｄｓとの間の角度を算出し、この角度だけ、画像を回転するように画像処理してスクリーンＳに投影する。 - 特許庁 - To provide an electrolytic processing apparatus where an electrically conductive material provided on the surface of a substrate can be flatly processed, and further, depositions deposited on the surface of the object to be processed such as a substrate can be subjected to removing (washing) while, e.g., obviating CMP (Chemical Mechanical Polishing) or reducing the load in the CMP treatment as possible.
例えばＣＭＰ処理そのものを省略したり、ＣＭＰ処理の負荷を極力低減しつつ、基板表面に設けられた導電性材料を平坦に加工したり、更には基板等の被加工物の表面に付着した付着物を除去（洗浄）できるようにした電解加工装置を提供する。 - 特許庁 - When receiving a subsequent print request during the falling sequence from determination that there may be no subsequent print request at the falling determination timing till stopping of the photoreceptor surface move, the printer shifts to a control for performing the subsequent image formation processing according to the subsequent print request without stopping the photoreceptor surface move.
立ち下げ判断タイミングに次の印刷要求が存在しないと判断してから感光体表面移動を停止させるまでの立ち下げシーケンス中に次の印刷要求を受けた場合、感光体表面移動を停止させることなく、次の印刷要求に従った次の画像形成処理を行うための制御へ移行する。 - 特許庁 - In a dividing process of dividing the silicon substrate 10 into element chips with an external force, stress concentrates on the surface processing trace 11a which connects with the internal crack 12, and then the substrate top surface 11 is securely divided along a division schedule line, so that precise division is carried out.
外力によってシリコン基板１０を素子チップに分割する割断工程で、表面加工痕１１ａに応力が集中して表面加工痕１１ａと内部亀裂１２が連結することで、基板表面１１は確実に割断予定線に沿って分断されるため、精密な割断を行うことができる。 - 特許庁 - The method for processing the substrate comprises a first step for jetting droplet generated by mixing alkaline fluid with gas by a first two-fluid nozzle 48 to the surface of a substrate W, and a second step for jetting droplets generated by mixing hydrochloric acid or etching fluid with gas by a second two-fluid nozzle 80 to the surface of the substrate.
第１の二流体ノズル４８により、アルカリ性液と気体とを混合して生成される液滴を基板Ｗの表面へ噴射する第１の工程と、第２の二流体ノズル８０により、塩酸またはエッチング液と気体とを混合して生成される液滴を基板表面へ噴射する第２の工程とを有する。 - 特許庁 - In a touch panel 1 of an automatic processing apparatus, an antibacterial layer 1b having antibacterial properties is formed on the operation surface for displaying an operation image which indicates predetermined process contents and being contacted with by the operation image, and a transparent insulating substrate 1a comprising conductive members 1c on the surface of the antibacterial layer 1b is provided.
自動処理装置のタッチパネル１において、所定の処理内容を示す操作画像を表示して当該操作画像に接触される操作面に抗菌性を備える抗菌層１ｂが形成され、抗菌層１ｂの表面に導電部材１ｃが設けられた透明絶縁基板１ａが具備されている。 - 特許庁 - To provide a developing unit or a developing method less liable to cause stain as well as to provide a heat developable material which reduces fog as a photographic performance, makes the surface of a processed film free from a surface working mark of the hot drum of a developing machine even in mass processing and suppresses printout under light for observation after development.
写真性能のカブリを低減し、大量の処理においても、処理膜面上に現像機の熱ドラムの表面加工跡がでず、現像後の観察光でプリントアウトしにくい熱現像材料を提供すると共に、汚れの発生の少ない現像装置または現像方法を提供することにある。 - 特許庁 - The method for manufacturing the golf ball including the golf ball body, the marks printed on the surface of the ball body, and a coating film formed to cover the ball body and the marks, includes plasma processing only to a predetermined area of the surface of the ball body, and printing the marks on at least a portion of the plasma processed area.
ゴルフボール本体と、該ゴルフボール本体の上に印刷されるマークと、該ゴルフボール本体及び該マークを覆って形成される塗膜とを含むゴルフボールの製造方法において、該ゴルフボール本体の表面における所定領域のみにプラズマ処理を施した後、該プラズマ処理した領域の少なくとも一部に該マークを印刷する。 - 特許庁 - In this drill and router of high toughness used in processing the printed board, compressive residual stress to a surface is enriched by giving a physical and/or physicochemical impact to a part or the whole of the surface of the cemented carbide drill or router manufactured by grinding work or cutting work.
研削加工又は切削加工で製造した超硬ドリル又はルータの表面の一部又は全部に、更に物理的及び／又は物理化学的な衝撃を与えることで、表面にいっそうの圧縮残留応力を富化したことを特徴とするプリント基板加工用高靭性ドリル及びルーター。 - 特許庁 - Furthermore, the present invention relates to a micro-optical element manufacturing method characterized in including a surface light emission laser production step of producing a surface light emission layer by performing step formation processing to form the plurality of steps on the substrate, and a lens formation step of integrally forming the lens over all the top face of each of the steps.
また、基板上に複数の段差部を形成する段差部形成処理を行い、面発光レーザを作製する面発光レーザ作製工程と、それぞれの前記段差部の頂上面の全面にレンズを一体的に形成するレンズ形成工程とを含むことを特徴とする微小光学素子の製造方法である。 - 特許庁 - Strands 21d of a shield material 20d are formed flat along the surface (flat surface) of the shield material 20d by cutting a cylindrical shield material, into which three wires are inserted, into appropriate length, expanding the tip of the shield material thus cut, and then pressing (compression processing) the tip thus expanded.
３本の電線が挿入される円筒状のシールド材を適切な長さに切断し、切断したシールド材の先端を拡開し、拡開した先端部分にプレス加工（圧縮加工）を施すことによりシールド材２０ｄの素線２１ｄをシールド材２０ｄの表面（扁平な面）に沿って扁平に形成する。 - 特許庁 - The electrode contact member of the vacuum circuit breaker comprises the Cu-Cr alloy base metal 1 containing 40-80 wt.% of Cu and 20-60 wt.% of Cr, and the Cr fine dispersion layer 2 of 500 μm to 3 mm in thickness formed on the surface of the base metal 1 through surface treatment by friction stir processing.
真空遮断器の電極接点部材は、Ｃｕの含有量が４０〜８０重量％とＣｒの含有量が２０から６０重量％とを含むＣｕ−Ｃｒ合金母材１の表面に、摩擦攪拌による表面処理で形成した厚さ５００μｍ〜３ｍｍのＣｒ微細分散層２を形成する。 - 特許庁 - To provide a water-containing cutting fluid composition excellent in surface accuracy and detergency after processing by adjusting viscosity and surface tension to be lower than those of conventional ones in the cutting step of a brittle material, and to provide an industrially advantageous method for producing the water-containing cutting fluid having such characteristics.
本発明は脆性材料の切削工程において、従来品より低粘度かつ表面張力を低く調整することで加工後の表面精度と洗浄性に優れた含水切削液組成物；並びにこのような特性を有する含水切削液の工業的に有益な製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
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