「surface processing」を含む例文一覧(7705)
＜前へ 1 2 .... 117 118 119 120 121 122 123 124 125 .... 154 155 次へ＞- To provide the structure of a piezoelectric oscillator in which processing is carried out consistently under the state of glass or silicon wafer from manufacturing process, surface mounting is possible, and a signal of desired oscillation frequency can be outputted even if the oscillator is miniaturized, and to provide its fabrication process.
ガラスあるいはシリコンウエハ状態で製造工程から一貫して処理する表面実装可能な圧電発振器を小型化しても所望の発振周波数信号を安定して出力できる構造と製造方法の実現。 - 特許庁 - In this imaging device, an optical filter 10 has defocusing correction characteristics by processing the optical filter 10 to increase thickness of its periphery in accordance with warping of a peripheral part of the imaged surface 22 if the peripheral part is warped backward.
撮撮像面２２の周辺部が後方に反り返っている場合は、それに応じて光学フィルタ１０の周辺が厚くなるように加工することで、光学フィルタ１０に焦点ずれ補正特性を持たせることができる。 - 特許庁 - To provide a support for photographic printing paper maintaining sufficient rigidity and excellent surface quality while having high infiltration resistance to a development processing liquid, and also free from the generation of the problem on the stain of rolls in a paper making process and a resin coating process.
現像処理液に対する高い耐浸透性をもちながら、十分な剛度と優れた面質を維持し、且つ、抄紙工程及び樹脂被覆工程のロール汚れの問題を発生することなく写真印画紙用支持体を提供する。 - 特許庁 - To solve problems wherein a device constituting member in a chamber directly collided with abrasive coating is worn in a short period of time and parts have to be exchanged, when a membrane adhered on a processing object surface is scratched and removed by spraying abrasive coating in the chamber.
チャンバー内で砥粒を吹き付けて、処理物表面に付着した皮膜を研創除去するに際し、砥粒が直接衝突するチャンバー内の装置構成部材が短期間で磨滅し、部材交換を余儀なくされる。 - 特許庁 - The flash fixing means 60 is constituted of a conveying belt 61, suction fans 62a and 62b, surface heaters 63a and 63b, a preheating part 64 and a flash light projecting unit 65, and performs fixing processing to continuous paper (recording paper) 12 in a non-contact state.
フラッシュ定着装置６０は、搬送ベルト６１、吸引ファン６２ａ、６２ｂ、面状ヒータ６３ａ、６３ｂ、プレヒート部６４、フラッシュ光投射装置６５から構成され、連続用紙（記録紙）１２に非接触で定着処理する。 - 特許庁 - An image processing apparatus 100 reads multiple business cards BC arranged on a reading surface C at one time and cuts a read image G into an image of each business card BC by an image obtaining part 211 to obtain multiple business card images MG.
画像処理装置１００は、読み取り面Ｃに配置された複数の名刺ＢＣを一度に読み取り、画像取得部２１１により、読み取り画像Ｇを各名刺ＢＣの画像に切り分けて、複数の名刺画像ＭＧを取得する。 - 特許庁 - In the surface processing method of the member for OA equipment, the functional layer is peeled off by spraying a projection material to the member for OA equipment having at least one functional layer consisting mainly of resin or rubber formed on a metal base.
金属基材上に、樹脂またはゴムを主成分とする機能層を少なくとも一層備えるＯＡ機器用部材に対し、投射材を吹き付けて機能層を剥離するＯＡ機器用部材の表面処理方法である。 - 特許庁 - The variability of pressurizing force at a pressurizing point of the pressurizing member 3 which is generated by a reason such as the polishing board 1 has warpage, is relieved by deformation of the soft elastic member 4, so that pressure applied on a processing surface can be made uniform.
研磨基板１に反りがあるなどの理由で発生する加圧部材３の加圧点での加圧力のばらつきは、軟弾性部材４の変形により緩和されるので、加工面に加わる圧力を実質的に均一にできる。 - 特許庁 - The inside in the bearing breadthwise direction of the opposed surface 3a is formed as an area A, and the outside is formed as an area B, and oil repellent processing is performed only on the area B, and thereby, the lubricant 2 exists only in the area A, and is repelled in the area B.
対向面３ａの軸受幅方向内側を領域Ａ、外側を領域Ｂとし、領域Ｂのみを撥油処理することで、潤滑剤２が領域Ａにのみ存在し、境域Ｂでは弾かれるようにする。 - 特許庁 - An analytic model generating processing part 110 prepares correspondent relation data 134 showing correspondence between each of parts of a CAD model 132 expressing the surface form of an object and each of nodal points of an analytic model 136 prepared therefrom.
解析モデル生成処理部１１０は、対象物の表面形状を表すＣＡＤモデル１３２の各部位と、これから作成した解析モデル１３６の各節点との対応を示す対応関係データ１３４を作成する。 - 特許庁 - To form a moderate solidification layer on the surface of a liquid film while keeping the bulk portion of a coating film in a liquid or half-dried state moderately without using the technique of reduced pressure drying, for a film of processing liquid applied onto a substrate to be treated.
被処理基板上に塗布された処理液の膜に対して、減圧乾燥の手法を用いずに塗布膜のバルク部分を程よく液状ないし生乾き状態に保ったまま液膜の表面に適度な固化層を形成すること。 - 特許庁 - To provide a post-processing method for an electrophotographic photoreceptor which is capable of polishing the abnormally grown projections generated on the surface of the a-Si base photoreceptor to a flat or reference line or below without flawing other good segments.
ａ−Ｓｉ系感光体表面に発生した異常成長突起を他の良好な部分を傷つける事なく、平坦もしくは水準線以下にまで研磨できる良好な電子写真感光体の後処理方法を提供する。 - 特許庁 - This residual material removing device 20 scratches off residual materials after a carrier processing stuck to an internal surface of each flight 10 in the mid-way of a returning path of a flight conveyor 1 and is provided with a plurality of scratching plates 21 for scratching residual materials.
残留物除去装置２０は、フライトコンベヤ１の復路途上において各フライト１０の内面に付着した搬送処理後の残留物を掻き取るもので、残留物を掻き取るための複数の掻取板２１を備える。 - 特許庁 - In this ultrasonic flaw detector 20A, ultrasonic vibrators 42a and 42b contact a flaw detection surface 21a of the inspection object material 21, and time delay circuits 41 give time delay values to a signal processing system 45 and pulse generators 26 and 27.
超音波探傷装置２０Ａにおいて、超音波振動子４２ａ，４２ｂは被検査材２１の探傷面２１ａに接し、時間遅延回路４１は時間遅延の値を信号処理系４５およびパルス発生器２６、２７に与える。 - 特許庁 - To provide a method and a device for three-dimensional modeling for providing a highly precise model without positional deflection on the surface and providing highly precise data in reuse and processing of the model (data) by CAD or CAE.
表面の位置にずれのない高精度の３次元モデルが得られ、ＣＡＤあるいはＣＡＥ等による同モデル（データ）の再利用や加工においても高精度のデータが得られる３次元モデル化方法及び装置を提供する。 - 特許庁 - The anticorrosion coating film of a rare-earth permanent magnet is formed in such a way that a processing solution containing a silicon compound having a hydroxyl group and/or a hydrolytic group and inorganic fine particles having a means particle diameter of 1-100 nm is applied to the surface of the magnet and heat-treated.
水酸基および／または加水分解性基を有する珪素化合物と平均粒径が１ｎｍ〜１００ｎｍの無機質微粒子を含有する処理液を、磁石表面に塗布した後、熱処理することを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a method of producing an optical product or a mold for molding the optical product, by which data processing for optical surface machining is carried out in a short period of time without an error, and production costs of the optical product can be drastically reduced.
光学面加工用のデータ処理を、短時間にミスなく行うことができ、作製コストの大幅な低減化を図ることが可能となる光学製品または光学製品の成形用金型の製作方法を提供する。 - 特許庁 - When a decorative pattern variable display start timing comes, a CPU (central processing unit) 101 for performance control starts the high-speed variation in each of the patterns of a first display surface 9a facing a player and then stops the patterns in a ready-to-win display form.
演出制御用ＣＰＵ１０１は、飾り図柄の可変表示開始タイミングになると、遊技者に正対している第１表示面９ａの各図柄の高速変動を開始し、その後にリーチ表示態様で停止させる。 - 特許庁 - In this apparatus, when the low-pressure arc discharge 5 is caused between a target 1 and a striker 4, plasma 11 is generated and is made to irradiate the surface of a treated substrate 7 inside a processing chamber 6 through a first magnetic field duct 14 and a second magnetic field duct 15.
ターゲット１とストライカ４との間で低圧アーク放電５が行なわれると、プラズマ１１が発生し、第１の磁場ダクト１４，第２の磁場ダクト１５内を通って処理室６内の被処理基板７の表面に照射される。 - 特許庁 - To obtain a particle oriented or crystal oriented ceramic sintered compact and inorganic film in each of which the degree of orientation is uniform in both of the surface part and the center section with a simple operation and without requiring experienced skill, using a specific apparatus or subjecting a product to post grinding processing.
熟練や特殊な装置あるいは研削後加工が不要であって、単純な操作で表面と中心部とも均一な配向度を有する粒子配向または結晶配向したセラミックス焼結体および無機膜を得る。 - 特許庁 - To provide a substrate processing device for preventing turbulence of the down air flow in a device, when a substrate to be processed is carried and for preventing decrease in yield, caused by the sticking of dust to the surface of the substrate.
被処理基板の搬送時における装置内のダウンフローの気流の乱れを抑制し、被処理基板表面に塵埃が付着することに起因しての歩留りの低下を抑制することのできる基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - Because the abrasive is composed of electric rheorogiegel (ERG) 12 and abrasive grains 12A, it is possible to change the hardness of ERG in accordance with the surface roughness of work (object for processing), and to carry out polishing efficiently.
本発明の研磨材は、電気レオロジーゲル（ＥＲＧ）１２と砥粒１２Ａとを含んで構成したので、ワーク（被加工物）の表面粗度に応じてＥＲＧの硬度を変化させることができ、研磨を効率的に行うことができる。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a floor material having a cork layer as an upper layer and the composite floor material obtained thereby and to form a protective film on the surface of the cork layer at the time of molding processing to enhance the chemical resistance and gloss of the cork layer at the same time.
上層の表面にコルク層を有する床材の製造方法とそれによって得られる複合床材であって、成形加工時、コルク層の表面に保護膜を形成して耐薬品性と光沢とを同時に向上させる。 - 特許庁 - To provide a plasma processing apparatus capable of preventing an inner wall surface of a plasma section wall from being etched, suppressing the occurrence of particles and metal contamination, and increasing the amount of radical generated by increasing the electrode area.
プラズマ区画壁の内壁面がエッチングされることを防止してパーティクルや金属汚染の発生を抑制し且つ、電極面積を増大させてラジカルの発生量を増加させることが可能なプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁 - The gripper carriage 1 is energized by spring force to fit in a transfer chain, intermittently movable between each processing station 2 and has at least one stopper surface 3 on the front side in the running direction.
くわえづめキャリッジ１は、ばね力で付勢されて搬送チェーンに取り付けられ、搬送チェーンによって各処理ステーション２の間を間欠的に移動可能であり、少なくとも１つのストッパ面３を進行方向に見て前側に有している。 - 特許庁 - When the sample 6 is given in executing the analysis, a sample identification part 18 recognizes the sample number thereof, an image processing part 21 detects a defective part by the image of the analysis surface of the sample 6 obtained by a CCD camera 12.
分析実行時に試料６が与えられると試料識別部１８がその試料番号を認識し、が層処理部２１はＣＣＤカメラ１２により得られた試料６の分析面の画像により欠陥部を検出する。 - 特許庁 - To provide an interference fringe data generating device which is capable of generating the image data of interference fringes after half-zone-plate processing at high speed, even when an object is virtually arranged in front of and behind of a hologram surface.
ホログラム面に対して前方及び後方の双方に被写体を仮想的に配置しても、ハーフゾーンプレート処理を行った干渉縞の画像データを高速に生成することができる干渉縞データ生成装置を提供する。 - 特許庁 - When non-enlargement is selected by a zoom operating switch 18, an image processing circuit 49 extracts a sub-sensitivity region component (a capillary component of the mucous membrane surface layer) b' from a G pixel value g by correlative operation to an R pixel value r.
画像処理回路４９は、ズーム操作スイッチ１８で非拡大が選択されたときに、Ｒ画素値ｒとの相関演算により、Ｇ画素値ｇから副感度領域の成分（粘膜表層の毛細血管の成分）ｂ’を抽出する。 - 特許庁 - To provide a linear motion device capable of eliminating expensive devices and processing such as spattering and CVD and capable of obtaining sufficient lubrication, fatigue-resistant strength and impact-resistance at low costs, while preventing peeling of a material surface.
材料表面が剥離を生じることがなく、スパッタリングやＣＶＤ等の高価な装置、処理を不要にでき、更には、十分な潤滑性、疲労強度及び耐衝撃性を得ることができる直動装置を低コストで提供する。 - 特許庁 - Impulse wave is generated by introducing the gas for processing timely and intermittently into the plasma producing chamber 1 from the gas introducing unit 101 to remove the reaction product stagnated on the surface of the workpiece 6 by the impulse wave.
ガス導入部１０１からプラズマ生成室１内に時間的に間欠的に加工用ガスを導入することによって衝撃波を発生させ、この衝撃波によって被加工物６表面に滞留する反応生成物を除去する。 - 特許庁 - In the vacuum processing system 11 comprising first and second vacuum chambers 13, 15 independently, a cup-like structure 33 is provided upside down in the second vacuum chamber while surrounding the surface 27a of a substrate 27 to be treated.
この互いに独立した第１及び第２真空室１３及び１５を具える真空処理装置１１では、第２真空室内に、椀を伏せた状態に基板２７の被処理面２７ａを囲い込む椀状構造体３３を有している。 - 特許庁 - After a step of the CMP process of polishing the formed film on the semiconductor wafer by the polishing cloth, while the slurry containing polishing particles is supplied, a step of hydrophile-processing the surface of the polishing cloth is executed.
半導体装置の製造方法は、研磨粒子を含むスラリーを供給しながら研磨布により半導体ウェーハ上の成膜をポリッシングするＣＭＰ処理工程の後に、研磨布表面を親水性処理する工程を実施する。 - 特許庁 - In the image-formed paper processing device 60, a reading means 31 reading the surface and back of paper at every conveyance is disposed between a manual feed tray (paper feed apparatus) 30 and the manual feed port of the main body of an image forming apparatus.
この作像済用紙処理装置６０は、手差しトレイ（給紙装置）３０と画像形成装置本体の手差し口との間に、一度の搬送で表裏を読み取ることのできる読み取り手段３１が構成されている。 - 特許庁 - To provide a defect-inspecting method using image processing, independent of the surface state of an inspected object, and automatically and accurately detecting and inspecting the existence of defects, such as cracks.
画像処理による欠陥検査方法であり、被検査体の表面状態に依存することなく、クラック等の欠陥の有無の検出が自動的に精度よく検査できる欠陥検査方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁 - The unit 3 reaches the position P2, the read processing of the original image is completed, and when the upper surface of the platen 2 is closed after once opened, the unit 3 is made to move from the position P2 to the position P1.
光学ユニット３が基準位置Ｐ２に到達して原稿画像の読取処理が完了し、原稿台２の上面が一旦開放された後に閉鎖された時に光学ユニット３を基準位置Ｐ２から基準位置Ｐ１に移動させる。 - 特許庁 - To provide an IR-sensitive composition giving a good coated surface state of a layer and excellent in suitability to processing with an exhausted developer having lowered activity (development latitude) when used in a photosensitive layer of a planographic printing plate precursor or the like.
平版印刷版用原版の感光層等に用いた場合、その層の塗布面上が良好で、更に活性度の落ちた疲労現像液での処理性（現像ラチチュード）に優れる感赤外線感光性組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a fabric for polishing used in a texturing process for magnetic recording disc etc. capable of managing well with a lower Ra value and suppressing generation of scratches at the surface processed while a sufficient processing rate, uniformity of texture marks, and sharpness are held.
磁気記録ディスク等のテクスチャリング加工において、低Ｒａ値化に対応でき、かつ十分な加工レートや、テクスチャー痕の均一性、シャープさを保持しつつ、加工面のスクラッチ発生を抑制できる研磨用織物を提供する。 - 特許庁 - When a decorative pattern variable display start timing comes, a CPU (central processing unit) 101 for performance control starts the high-speed variation in each of the patterns of a first display surface 9a facing a player, and stops the patterns in a ready-to-win display form thereafter.
演出制御用ＣＰＵ１０１は、飾り図柄の可変表示開始タイミングになると、遊技者に正対している第１表示面９ａの各図柄の高速変動を開始し、その後にリーチ表示態様で停止させる。 - 特許庁 - To provide a panel for display which has improved window pressure resistance, appearance, and processing suitability and, in particular, has a retroreflective sheet installed on a surface thereof to have uniform appearance in daytime as well as at night.
耐風圧強度、外観及び加工適正の改善された表示用パネル、中でも、表面に再帰反射シートが設置されており昼間および夜間において均一な外観の表示用パネルを供給をすることを特徴とする。 - 特許庁 - To obtain a substrate processing equipment, facilitated in the estimation of a wafer temperature and capable of reducing overshoot in the wafer by the estimated temperature of the wafer, and capable of stabilizing a temperature in the surface of the wafer at a predetermined temperature with an excellent accuracy within a short period of time.
ウェーハ温度の推定が容易であり、ウェーハの推定温度によりウェーハでのオーバーシュートが軽減でき、ウェーハ面内の温度を精度良く、短期間で所定の温度に安定させることができる基板処理装置を得る。 - 特許庁 - To perfectly remove an organic matter deposited on a surface of a dielectric film and/or inside a bump hole, and a resolvable matter of polyamid, consisting of carbon as a main component, which is deposited in the bump hole and its surroundings and is produced by laser processing.
絶縁性フィルムの表面及び／又はバンプホール内に付着した有機物や、レーザ加工により生じバンプホール及びその周辺に付着するカーボンを主成分とするポリイミド分解物質などを完全に除去する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a semiconductor device capable of preventing deterioration of the surface morphology of an Ni-containing film caused by dependence on an under layer and of forming a continuous film in a thin film region, and to provide a method and an apparatus of processing a substrate.
Ｎｉを含む膜の下地依存性による表面モフォロジ劣化を解決し、薄膜領域で連続膜を形成することができる半導体装置の製造方法、基板処理方法及び基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - Scattered light from the sample 3 surface enters a CCD 5 through an image formation lens 4, to be converted into an electric signal, and image processing thereof is executed by a personal computer 11, and a CCD image corresponding to a scattered light intensity distribution is displayed on a monitor 12.
試料３表面からの散乱光は、結像レンズ４を経て、ＣＣＤ５に入り、電気信号に変換され、パソコン１１により、画像処理され、モニター１２に、散乱光強度分布に応じたＣＣＤ画像を表示する。 - 特許庁 - A distance operation part 110 of a setting/display processing part 11 arithmetically operates a distance between a bucket and a target excavating surface on the basis of a signal from angle detectors 8a, 8b, 8c for detecting a state quantity on a position and an attitude of a work machine.
設定・表示処理部１１の距離演算部１１０は、作業機の位置と姿勢に関する状態量を検出する角度検出器８ａ，８ｂ，８ｃからの信号に基づきバケットと目標掘削面の距離を演算する。 - 特許庁 - To provide a processing process of a wafer in which backside grinding and splitting along a street of the wafer can be carried out without reducing productivity, and adhesion of cut waste to the surface of a device can be prevented.
生産性を低下させることなく、ウエーハの裏面研削およびストリートに沿った分割を実施することができるとともに、切削屑のデバイスの表面への付着を防止することができるウエーハの加工方法を提供する。 - 特許庁 - In an exposure part 18, an exposure processing is performed by emitting laser light from the exit surface 42 of a condensing lens 40 toward a printing plate 12 wound around the outer periphery of a rotary drum 24 while rotating the rotary drum 24.
露光部１８では、回転ドラム２４を回転させた状態で回転ドラム２４外周に巻き付けた印刷版１２へ集光レンズ４０の出射面４２からレーザ光を印刷版１２へ照射することで露光処理を行う。 - 特許庁 - To provide a ball bearing 1 for a strut structured so that at least one of the races 3 is formed with thin wall and equipped with a raceway surface having a sufficient mechanical strength, capable of reducing the material cost and facilitating the processing.
ストラット用玉軸受１において、少なくともいずれか一方のレース３について薄肉としたうえで十分な機械的強度を有する軌道面を備えた構成とし、材料コストを低減するとともに、加工容易化を図る。 - 特許庁 - To output heat suitable for transmitting and processing causing no loss of the heat, by generating an eddy current with uniform density, on the entire or selected area of the outside surface of a roll jacket.
ロールジャケットの外側表面の全体または適切に選択可能な領域に、均一な密度の渦電流を発生させることによって、加熱出力の損失のない伝達とプロセスに適応した加熱出力を発生させる。 - 特許庁 - The carburizing method comprises a removing step (step S2) for removing a processing-deteriorated layer formed on the surface of steel containing Cr in a content of ≥1.5 mass%, and a step (step S3) for carburizing the steel after the removing step.
浸炭方法は、１．５質量％以上のＣｒを含む鋼の表面に形成された加工変質層を除去する除去工程（ステップＳ２）と、除去工程後に鋼を浸炭する工程（ステップＳ３）とを備えている。 - 特許庁 - To provide an optical device wafer processing method which makes it possible to move an optical device layer laminated on the surface of an epitaxy substrate constituting an optical device wafer smoothly from there to a transfer substrate without causing damage to the optical device layer.
光デバイスウエーハを構成するエピタキシー基板の表面に積層された光デバイス層に損傷を与えることなく光デバイス層を移設基板に円滑に移し変えることができる光デバイスウエーハの加工方法を提供する。 - 特許庁
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