Especially, on the tip part of the spray nozzle for secondary cooling used for water-cooling the surface of the cast slab in the continuous casting process, the excellent preventive effect for clogging of the water-cooling spray nozzle, is obtained by applying the metallic surface film having 10-50 μm film thickness with electrolytic plating or non-electrolytic plating processing. とりわけ、連続鋳造工程において鋳片の表面を水冷却するために用いる二次冷却用スプレーノズルのチップ部に、電解めっきまたは無電解めっき処理により、皮膜厚さが10〜50μmの金属の表面皮膜を施すことにより、水冷却スプレーノズルの優れた閉塞防止効果が得られる。 - 特許庁
The sheet post-processing means has a sheet stacking tray 20 for receiving the sheets to be discharged from a sheet discharging port 18 by a sheet stacking surface 21, and an end fence 22 in which the sheets discharged onto the sheet stacking tray are dropped along the inclination of the sheet stacking surface and rear ends of the sheets in the sheet discharging direction A are abutted thereon and arranged. シート後処理手段には、シート排出口18から排出するシートをシート積載面21で受けるシート積載トレイ20と、そのシート積載トレイ上に排出したシートをシート積載面の傾斜に沿って落下してシートのシート排出方向Aの後端を当てて揃えるエンドフェンス22とが設けられている。 - 特許庁
The micro-corner cube array 10 is produced by a process for preparing single crystal substrates 1 and 4 which consist of a cubic system crystal and have a surface being substantially in parallel with the (111) surface of the crystal and a process for performing an anisotropic etching processing concerning the surfaces of the single crystal substrates 1 and 4. マイクロコーナーキューブアレイ10は、立方晶系の結晶からなる単結晶基板1,4であって結晶の{111}面と実質的に平行な表面を有する単結晶基板1,4を用意する工程と、この単結晶基板1,4の表面に対して異方性エッチング処理を行なう工程とによって作製される。 - 特許庁
This three-dimensional image processing device inputted with three-dimensional information about the real object has a three-dimensional shape acquisition part, a surface attribute acquisition part, a three-dimensional data integration part and a control part, and performs segmentation to a surface attribute on an acquired texture map. 実在物体の三次元情報を入力する三次元画像処理装置において、三次元形状取得部、表面属性取得部、三次元データ統合部、制御部を有し、取得されたテクスチャマップ上で表面属性に対するセグメンテーションを行うことを特徴とする三次元画像処理装置を提供する。 - 特許庁
A laminate 12, which is obtained by integrally forming a synthetic resin film 12b on a nonwoven fabric 12a made of a synthetic fiber by lamination processing, is arranged on the outer surface of a resin absorbing fiber layer 11 becoming the contact side with the pipe material 2, to which the pipe lining material is applied, so that the synthetic resin film 12b becomes an outer surface side. 管ライニング材1を施す管材2に接する側となる樹脂吸収繊維層11の外表面に、合成繊維製不織布12aに合成樹脂フィルム12bをラミネート加工により一体形成した積層体12を、合成樹脂フィルム12bが外表面側になるように配設する。 - 特許庁
In accordance with unevenness status on the surface of the insulating film before polish in the CMP planarizing process, style of CMP equipment is selected from the polishing plate rotation type and the belt rotation type, so that both insurance of uniformity in the surface of the insulating film and improvement in global planarity are realized, and effect excellent in polish processing accuracy is obtained. CMP平坦化工程における研磨前の絶縁膜表面の凹凸状態に対応し、CMP装置の方式を定盤回転式とベルト回転式から選択することで、絶縁膜の面内均一性の確保とグローバル平坦性の向上を両立し、研磨加工精度に優れた効果を有する。 - 特許庁
In the toner consisting of toner particles containing resin composition for toner containing crystalline polymer having 180 to 280°C melting point and noncrystalline polyester having 30 to 80°C glass transition temperature and silica particles adhered to the surface of the toner particles, surfaceprocessing by hexamethyldisilazane is performed to the silica particles. 融点が180〜280℃である結晶性ポリマーと、ガラス転移温度が30〜80℃である非結晶性ポリエステルとを含有するトナー用樹脂組成物を含有するトナー粒子と、前記トナー粒子の表面に付着したシリカ粒子とからなるトナーであって、前記シリカ粒子は、ヘキサメチルジシラザンによる表面処理が施されているトナー。 - 特許庁
There is provided a plant processing method using a UV curable gel, wherein a first gel of low viscosity is coated on the surface of a plant substrate to form a comparatively thin coated film of the first gel, irradiating UV to completely cure the coated film of the first gel to form the first coating layer of smooth surface. 紫外線硬化型ジェルを使用する植物の加工方法であり、粘性の低い第1のジェルを植物基材の表面に塗布して、第1のジェルの比較的薄い塗膜を形成し、紫外線照射して第1のジェルの塗膜を完全に硬化させて、表面が滑らかな第1のコーティング層を形成する。 - 特許庁
On the basis of this detection, while the distance between the surface 3 and the lens 108 is adjusted to be substantially constant so that a beam collection point P of laser beam L1 for processing is at a position a specific distance away from the surface 3, the laser beam L1 are collected by the lens 108 to form melted region 13 inside the workpiece 1. この検出により、加工用レーザ光L1の集光点Pが表面3から一定の距離の位置に合うように、表面3とレンズ108との距離を略一定に調整しながら、レーザ光L1をレンズ108で集光して、溶融処理領域13を加工対象物1の内部に形成する。 - 特許庁
The semiconductor optical detecting device 1 includes: a p-type semiconductor region 18 that is formed at the side of a surface 3a of a semiconductor substrate 3 and composes a photodiode 28 by a pn junction 26 with the semiconductor substrate 3; and a signal processing circuit section 9 formed at the side of the surface 3a of the semiconductor substrate 3. 半導体光検出装置1は、半導体基板3の表面3a側に形成されており、半導体基板3とのpn接合26によりフォトダイオード28を構成するp型半導体領域18と、半導体基板3の表面3a側に形成されている信号処理回路部9と、を備えている。 - 特許庁
A plating processing is performed to the inner surface of an original board of a cylindrical shape in which refined irregularity is formed on its inner surface, subsequently the above original board is removed, and a plating member (metal cylinder) 30 of a seamless cylindrical shape having refined irregularity is inserted into the periphery of a roll mold base material MR to form a roll mold 40. 内周面に微細な凹凸が形成された円筒形状の原盤の内周面にめっき処理を施し、ついで前記原盤をはずして、外周表面に微細な凹凸を有するシームレスの円筒形状のめっき部分(金属円筒)30をロール型母材MRの外周に嵌め込みロール金型40とする。 - 特許庁
When a reflected image R_z is detected on the light receiving surface of the Z alignment two-dimensional detection sensor 60, a Z alignment signal processing circuit acquires Z luminance distribution information, and a reflected light discrimination circuit uses the Z luminance distribution information to discriminate whether the reflected light is mirror surface reflection of the cornea or diffuse reflection on an eyelid or a cheek. Zアライメント2次元検出センサ60の受光面にて反射像R_Zが検出されると、Zアライメント信号処理回路はZ輝度分布情報を取得し、Z輝度分布情報を用いて反射光判別回路にて反射光が角膜の鏡面反射かまぶたや頬等の乱反射かを判別する。 - 特許庁
Through ADF mounted document read processing, shading correction data is updated effectively using the time up to when a front end of a top surface in a conveyance direction reaches a reading position after a reverse surface is read, and then while a decrease in a reading speed is suppressed, the shading correction data is suitably updated according to variation in light quantity. ADF載置原稿読取処理によれば、裏面の読み取り後、表面の搬送方向先端が読取位置に到達するまでの時間を有効に利用してシェーディング補正データを更新することにより、読取速度の低減を抑制しつつ、光量変動に応じてシェーディング補正データを適宜更新することができる。 - 特許庁
A tray 30 includes a tray body including a tray surface for mounting a plurality of paper bundles P output from the processing section 15, and a transport section including a belt extending in an x-axis direction on the tray surface for transporting the paper bundle P toward a positive direction side in the x-axis direction by drive of the belt. トレイ30は、処理部15から出力されてくる複数の用紙束Pが載置されるトレイ面を有するトレイ本体と、該トレイ面上においてx軸方向に延在するベルトを含む搬送部であって、ベルトの駆動によって用紙束Pをx軸方向の正方向側に向かって搬送する搬送部と、を含んでいる。 - 特許庁
In the processing mechanism 20 of the waste plastic sheet, as water is flowed from a nozzle 36 along the surface center part of the waste plastic sheet 23 drawn from a state of a winding bundle 27 to form a water flow 37, the waste plastic sheet is conveyed while the center part of the waste plastic sheet 23 is pressed to the upper surface 22a of the guide base 22. 廃プラスチックシートの処理機構20では、巻き取り束27の状態から引き出された廃プラスチックシート23の表面中央部分に沿ってノズル36から水を流すことにより水流37を形成し、廃プラスチックシート23の中央部分をガイドベース22の上面22aに押し付けた状態で搬送する。 - 特許庁
When the processing of the predetermined number of sheets are ended and the highly reactive uppermost surface is removed from the surface of the protective layer 12E, the polishing particles 40 are not supplied to the rubbing auxiliary member 22 and, therefore, there is no such a risk that the protective layer 12E is polished over the necessary amount and the performance is adversely affected. 所定の枚数を処理し終わり、反応性の高い極表層が保護層12E表面に存在しなくなった時点では摺擦補助部材22に対して研磨粒子40は供給されないので、保護層12Eが必要量を越えて研磨され、性能に影響を与える虞はない。 - 特許庁
The magnetic recording medium in which a seed layer, a nonmagnetic substrate layer and a magnetic layer are sequentially deposited on a nonmetal substrate is obtained by executing texture processing for the surface of the nonmetal substrate, forming the films in the mixture of oxygen or nitrogen and an inactive gas, setting an oxygen or nitrogen concentration in the mixed gas to a specific concentration, and processing the surface of the seed layer by oxygen or nitrogen. 非金属基板上に、シード層、非磁性下地層、および磁性層が順次成膜された磁気記録媒体において、前記非金属基板の表面にテクスチャ加工を施し、酸素または窒素および不活性ガスの混合ガス中で成膜し、かつ該混合ガス中の酸素濃度または窒素濃度を特定の濃度とし、さらに前記シード層の表面を酸素または窒素で処理することにより上記本発明の記録媒体を得る。 - 特許庁
This grinding machine is provided for grinding the work by relatively moving the rotating grinding wheel to the work set on a chuck upper surface, and includes a microscope movable in the vertical direction, a CCD camera for photographing an image of the microscope and an image processing device for measuring the vertical directional distance between a reference surface of the microscope and an observation object of the microscope by processing the image photographed by the CCD camera. チャック上面にセットされるワークに対して、回転する研削砥石を相対移動させることで当該ワークを研削する研削盤であって、鉛直方向に移動可能な顕微鏡と、前記顕微鏡の画像を撮影するCCDカメラと、前記CCDカメラで撮影された画像を処理することによって、前記顕微鏡の基準面と当該顕微鏡の観察対象物との鉛直方向距離を測定する画像処理装置と、を備える。 - 特許庁
The production method of the medical material includes a step of preparing the amnion cleared of the sponge layer, a step in which a biocompatible polymer membrane is bonded on one surface of the amnion and undergoes the crosslinking connection processing, a step of making the epithelial stem cells adhere onto the other surface of the amnion and a step of making the epithelial cells breed on the surface of the amnion from the epithelial stem cells. スポンジ層を取り除かれた羊膜を調製するステップと前記羊膜の一方の表面に生体適合性高分子膜を貼り合わせて架橋結合処理するステップと前記羊膜の他方の表面に上皮幹細胞を付着させるステップと前記羊膜表面に前記上皮幹細胞から上皮細胞を増殖させるステップとを含む前記医療用材料の製造方法。 - 特許庁
To provide a reformer capable of reforming a surface in response to a change in a thickness of a workpiece, an image forming device having this reformer and a postprocessing device of the image forming device, in the reformer for reforming the surface by contacting plasma with a processing object surface of the sheet-like workpiece formed by applying the image formation in the image forming device. 画像形成装置において画像形成が施されること等により形成されたシート状の被加工物の被加工面にプラズマを接触させて同面の改質を行う改質装置であって、被加工物の厚みの変化に対応して表面改質を行うことが可能な改質装置、この改質装置を備えた画像形成装置、画像形成装置の後処理装置を提供する。 - 特許庁
The method for manufacturing the substrate for the lithographic printing plate comprising a surface-roughening processing in which an aluminum alloy sheet is electrolytically surface-roughened by using AC in an acidic solution and an anodizing treatment process characterized by using an AC wave shape with a time of 1.5-6 msec from 0 to the peak in the electrolitically surface-roughening process is provided. 酸性溶液中で交流電流を使用してアルミニウム合金板を電解粗面化処理する粗面化処理工程および陽極酸化処理工程を含む平版印刷版用支持体の製造方法であって、前記電解粗面化処理において、0からピークまでに達する時間が1.5〜6msecの交流電流波形を使用することを特徴とする平版印刷版用支持体の製造方法である。 - 特許庁
To provide a light-emitting device in which a circuit pattern having a glossy surface can be obtained without requiring plating or etching processing, and processes can be reduced and simplified as a result, a high-density circuit pattern can be easily formed, and the circuit pattern having the glossy surface can be efficiently formed by avoiding the formation of a glossy surface on a circuit pattern which does not need gloss. めっき加工やエッチング加工を行うことなく光沢面を有する回路パターンを得ることができて工程を数少なくして簡略化することができ、また、高密度の回路パターンを容易に形成することができ、さらに、光沢が不要な回路パターンには光沢面が形成されないようにして効率よく回路パターンの表面を光沢面に形成することができる発光装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
This road surface condition detecting method for processing an image photographed by a TV camera to detect a wet condition and a frozen condition of a road surface, is characterized in that a brightness addition value is found in a differential image provided by differentiating images before and after a photographed time, and the road surface condition is detected based on the photographed image when the brightness addition value is smaller than a preset brightness value. テレビカメラにより撮影した画像を処理し路面の濡れや凍結などを検出する路面状態検出方法において、撮影した時間的に前後する画像どうしを差分した差分画像における輝度加算値を求め、該輝度加算値が予め設定した輝度値より小さい場合に、上記の撮影した画像による路面状態検出を行うことを特徴とする路面状態検出方法である。 - 特許庁
A hole 5 that contains a groove cut on the surface of a silicon substrate W as an object of processing is filled through a filling method comprising a titanium film forming process in which a titanium metal film 6 is formed on the surface of the substrate, an etching process in which the surface of the titanium metal film 6 is uniformly removed as thick as prescribed excluding its part that combines with the ground material. シリコン基板Wよりなる被処理体の表面に形成されている溝を含むホール5を埋め込む埋め込み方法において、前記被処理体の表面にチタン金属膜6を形成するチタン膜形成工程と、前記チタン金属膜の表面を、チタン塩化物ガスをエッチングガスとして下地と化合した部分を除いて所定の厚さだけ略均一に除去するエッチング工程とを有する。 - 特許庁
In an ashing processing in the semiconductor manufacturing process by the plasma processing, a solid dielectric is installed on the opposing surface of at least one of a pair of electrodes opposing each other in the atmosphere under a pressure near the atmospheric pressure, and discharge plasmas obtained by introducing the processing gas between the pair of the electrodes and applying a pulse-like electric field are brought into contact with a base material to be processed. プラズマ処理による半導体製造工程におけるアッシング処理において、大気圧近傍の圧力下、雰囲気中で、対向する一対の電極の少なくとも一方の対向面に固体誘電体を設置し、当該一対の電極間に処理ガスを導入してパルス状の電界を印加することにより得られる放電プラズマを被処理基材に接触させることを特徴とする半導体素子の処理方法及び装置。 - 特許庁
To prevent a film from being formed on an inner surface of a sidewall part 14 of a dielectric wall vessel 11 by a scattering substance associated with sputter etching to hinder supply of high-frequency power, in an inductively-coupled plasma processing device. 誘導結合形プラズマ処理装置において、スパッタエッチングに伴う飛散物によって誘電体壁容器11の側壁部14内面へ膜が形成され、高周波電力の供給が阻害されることを防止する。 - 特許庁
Furthermore, this bending processing provides the spacer 5 with an annular inner tube holding portion 6 wrapped around the circumference of the inner tube 2 and an annular interval holding portion 7 contacting the inside surface of the outer tube 1, facing the axial direction of the ventilation passage 3 in parallel. そして、この曲げ加工により、スペーサ5に、内管2の周囲に巻き付ける環状の内管保持部6と、通気路3の軸方向に平行に向いて外管1の内面に当接する環状の間隔保持部7とを設ける。 - 特許庁
An etch resistant heater for use in a wafer processing assembly has a superior ramp rate of at least 20°C per minute, maximum temperature difference across the surface (for example, >100°C over 300 mm), and at least one electrode. ウェーハ処理アセンブリ中で使用され、少なくとも1分につき20℃の優れた温度上昇率と、表面にわたる最大温度差(例えば>300mmにわたり100℃)と、少なくとも1個の電極とを有する耐腐食性ヒータ。 - 特許庁
To provide a metal roller for providing a base material such as a high-quality film without wrinkle, by improving a mold release characteristic (roller separation) and directivity of the base material such as the film, by reforming a metal roller surface installed in a processing machine. 加工機械に設置する金属ローラ表面の改質を行い、フィルム等基材の離型性(ローラ離れ)と指向性の向上を図り、皺のない高品質のフィルム等基材を得るための金属ローラを提供する。 - 特許庁
After the user picks up an image of the bar code 193, when a surface of the information processing terminal 1 whereon a projection part is provided is turned toward a fossil sample 192, at a position of the fossil sample 192, an image of dinosaur whose body and substance are given is projected. ユーザがバーコード193を撮像した後に、情報処理端末1の投影部が設けられている面を化石標本192に向けた場合、化石標本192の位置に、肉付けされた恐竜の画像が投影される。 - 特許庁
To stably achieve faithful color reproduction without being affected by a secular change over the entire part of a display screen of an image display device by performing a color processing in consideration of the intra-surface unevenness and secular change of the luminance and chromaticity of the image display device. 画像表示装置の輝度や色度の面内むら、経時変化を考慮した色処理を行うことで、画像表示装置の表示画面全体において、経時変化に影響されず、忠実な色再現を安定して実現する。 - 特許庁
To provide a silver halide color photographic sensitive material capable of diminishing an auxiliary solvent to be used and ensuring high scratch resistance and excellent fastness in storage even under a high humidity condition for the surface of a printed material after processing. 補助溶剤を減らすことが可能であり、かつ、処理後のプリント材料の表面が引掻に対する耐性が強く、高湿条件下で保存時の堅牢性に優れたハロゲン化銀カラー写真感光材料を提供すること。 - 特許庁
The device dependent part 12 includes a drawing function group 120 composed of a plurality of drawing functions and each drawing function is a program for writing pixels in a surface operation processing part 111 in accordance with the specifications of hardware on which the system is mounted. デバイス依存部12は、複数の描画関数からなる描画関数群120を含み、各描画関数は、システムが実装されるハードウェアの仕様に応じてサーフェス操作処理部111に対して画素書き込みを行うプログラムである。 - 特許庁
With this processing method, a dielectrics 23 coated on the first electrode 22 functions as an aggregate of micro capacitors so that no electric discharge is converged on a specific position, giving no damage on the hole formation surface and the like. この処理方法によれば、第1電極22に被覆された誘電体23が微小コンデンサの集合体として機能し、放電を特定の位置に集中させない役割を果たすため、孔形成面等に損傷を与えることがない。 - 特許庁
A shielding material M of a long shape (wire-like), supplied from the supply wheel 101, is bridged and supported in between the pair of support wheels 102, and the shielding material M of that part is arranged above the processingsurface SA of the sample S. 供給ホイール101から供給された長尺状(ワイヤ状)の遮蔽材Mは、一対の支持ホイール102の間で架橋されて支持され、この部分の遮蔽材Mが試料Sの加工面SAの上方に配置される。 - 特許庁
In addition, the image reader includes a CPU 400 which determines whether or not the front and rear of the document is reversed based on whether the image data exists on a surface read by the front face reading part 209 and the rear face reading part 19, and an image processing part 410. また、表面読取部209及び裏面読取部19で読み取った面の画像データの有無から原稿の表裏が反転しているか否かを判定するCPU400及び画像処理部410を備える。 - 特許庁
By providing a curved part 28 at the end surface of the mask 25 facing a boundary part 26 between the pre-exposure part 23 and the unexposed part 22, light sneaking permission processing for permitting the sneaking of light into the boundary part 26 is executed. 事前露光部23と未露光部22との境界部分26に臨む遮光マスク25の端面に湾曲部28を設けることにより、境界部分26への光の回り込みを許容する光回り込み許容処理を施す。 - 特許庁
The plant processing method further comprises forming a film of a liquid polysilazane-containing coating material on the surface of a plant base material, converting the polysilazane to silica, to form a primary coating layer, and forming a secondary coating layer of an organic material on the primary coating layer. また、植物基材の表面に液状のポリシラザン含有コーティング材の膜を形成し、ポリシラザンをシリカ転化して一次コーティング層を形成し、当該一次コーティング層の上に有機材料の二次コーティング層を形成する。 - 特許庁
In the manufacturing method of the copper damascine multilayer wiring in a semiconductor integrated circuit device, heating at 300-400°C is executed in a reductive gas atmosphere or plasma annealing is executed in a reductive gas plasma atmosphere after oxidation processing is executed on the surface of the copper. 半導体集積回路装置における銅ダマシン多層配線の形成方法であって、銅表面の酸化処理を行った後に、還元性ガス雰囲気にて300〜400℃の加熱あるいは還元性ガスプラズマ雰囲気にてプラズマアニールを行う。 - 特許庁
To suppress an occurrence of a crystal defect, an interface state density or the like at a main surface side of a semiconductor substrate in a method for manufacturing an element isolation in a semiconductor memory or a semiconductor arithmetic processing unit. 本発明は半導体記憶装置や半導体演算処理装置における素子分離の製造方法に関し、半導体基板の主表面側における結晶欠陥や界面準位等の発生を抑制することを目的とする。 - 特許庁
The curved surfaceprocessing part 45 calculates a coordinate on the plane buffer 44 corresponding to one point on a circular frame buffer 50, and image information stored in the coordinate is read out and is stored in a corresponding position of the circular frame buffer 50. 曲面処理部45は、円形フレームバッファ50上の一点に対応する平面バッファ44上の座標を計算し、この座標に格納された画像情報を読み出して、円形フレームバッファ50の対応位置に格納する。 - 特許庁
The ratio of RF electronic currents radiated, respectively, from the central portion and the peripheral portion of the major surface of the susceptor 12 toward a processing space S can be adjusted arbitrarily and variably at the central and peripheral impedance adjusting portions 64 and 66. サセプタ12主面の中心部および周辺部より処理空間Sに向けてそれぞれ放射されるRF電子電流の比を中心および周辺インピーダンス調整部64,66により任意に可変調整することができる。 - 特許庁
To provide a surfaceprocessing method of nuclear power plant structure and a nuclear power plant capable of lowering corrosion potential of the nuclear power plant structure, regardless of the presence of injection of hydrogen. 本発明の目的は、原子力プラントにおいて、水素注入の有無にかかわらず、原子力プラント構造物の腐食電位を低下できる原子力プラント構造物の表面処理方法及び原子力プラントを提供することである。 - 特許庁
To easily and surely eliminating small projections of a crystal level regarding a device and a method for processing a magnetic head slider, designed to eliminate small projections stuck to the floating surface of the magnetic head slider by polishing. 本発明は磁気ヘッドスライダの浮上面に付着した微小突起を研磨により除去する磁気ヘッドスライダの加工装置及び加工方法に関し、結晶レベルの微小突起を簡単かつ確実に除去することを課題とする。 - 特許庁
The chemically resistant gloves are each structured as follows: a layer of rubber selected from diene-based rubber, isoprene rubber, butyl rubber, and natural rubber is formed on the inner surface of a glove base body made of chloroprene rubber; and the layer of rubber is subjected to slide processing. クロロプレンゴムからなる手袋基体の内面に、ジエン系ゴム、イソプレンゴム、ゴチルゴム、天然ゴムから選ばれるゴム層が設けられ、該ゴム層に滑り加工処理が施されていることを特徴とする耐薬品性手袋である。 - 特許庁
The image processing system and the method are provided to remove and smooth out irregularities from 3D image information reproduced from one scene, specially, multiple 2D image views from a uniform surface of an object in the scene. 本発明によれば、1つのシーン、特にそのシーン内のオブジェクトの均一の表面からの複数個の2Dビューから再現させた3D画像情報からの不規則性を平滑化させる画像処理システム及び方法が提供される。 - 特許庁
To provide a plasma processing device that makes the unevenness of electric field distribution on a surface of an electrode small so that etching rate distribution is uniform in a plasma process using a high density plasma that can correspond to further fining. より微細化に対応可能な高密度プラズマを用いたプラズマ処理において、電極表面における電界分布の不均一を小さくすることが可能であり、エッチングレート分布が均一なプラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁
When a Schottky diode is equipped with an electrode which is formed by processing an Al-Si thin film that is formed under conditions where a magnetic field is controlled as mentioned above, the Schottky diode can be restrained from varying in electrical properties within the surface of the work 8. このように磁場が制御された状況下で成膜されたAl−Si薄膜を加工して得られる電極をショットキーダイオードが有する場合、ショットキーダイオードの電気的特性の面内ばらつきが押えられる。 - 特許庁
To provide a substrate support boat which is hardly warped even if thin pillars are used, excellent in processing precision, and capable of preventing the occurrence of particles and shortening the time required for making a semiconductor substrate uniform in temperature through its surface. 本発明の目的は、細い柱でも反りが生じず、加工精度が高く、パーティクルの発生を防止し、かつ半導体基板面内の温度が均一になるまでの時間が短縮される基板支持ボートを与えることである。 - 特許庁
To obtain a rubber composition to prevent a molded article from tearing caused by rapid pressure release at the cracked surface of a mold in a mold processing of a rubber molded part such as insulating tube or the like used at an intermediate connecting portion of a power cable. 電力ケーブルの中間接続部に用いられる絶縁筒などのゴムモールド部品をモールド成形する際に、金型割れ面での圧力の急激な開放に起因して、成型品が裂けるのを防止するためのゴム組成物を得る。 - 特許庁