「surface processing」を含む例文一覧(7705)

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  • The surface of an embedded implement is applied with a hydrophilic treatment by using a chemical processing such as electrical discharge machining such as plasma treatment, corona discharge, light radiation such as ultraviolet ray or the like, oxidation decomposition by an oxidizing agent, coating by hydrophilic material or the like.
    プラズマ処理やコロナ放電などの放電加工,紫外線等の光照射,酸化剤による酸化分解などの薬剤処理,親水性物質でのコーティング等を利用して埋設器具の表面を親水性処理する。 - 特許庁
  • To provide a substrate processing device capable of effectively removing the roughness of the surface on the fringe of a substrate and films which stick to the fringe and contaminate the substrate in the process of manufacturing a semiconductor device.
    半導体装置の製造工程などにおいて、基板の周縁部等に発生する表面荒れや基板の周縁部等に付着し汚染源となる膜を効果的に除去することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁
  • While a galvanometer scanner 3 is driven to allow the irradiation points of the light beams from the sources 12 and 13 to two-dimensionally scan the surface of the sample W, the signals from the photodiode 51 and the color CCD are sent to a signal processing circuit 8.
    そして、両者12,13からの光の照射点が試料Wの表面を二次元的に走査するようにガルバノメータスキャナ3を駆動しつつ、フォトダイオード51及びカラーCCDからの信号を信号処理回路8に送る。 - 特許庁
  • At the time of forming the multilayer film on the substrate in a film forming device, the surface state of the metal film can be managed during a processing process of the metal film without exposing the substrate to air and the metal film can be processed neither too much nor too little.
    成膜装置内で基板に多層膜を形成するとき、基板を大気に晒すことなく、金属膜の処理工程中に、当該金属膜の表面状態を管理でき、その金属膜の処理を過不足なく行える。 - 特許庁
  • In the hose reel, the outer peripheral surface 17a of the body 17 of the drum 15 and opposed inner side surfaces 18a of both flangs, i.e., a part slide-contacted with the hose 14 in winding are subjected to texture processing and are formed into recessed/projected surfaces having wrinkle-like recesses/projections.
    ドラム15の胴部17の外周面17a及び両鍔部18の対向する内側面18a、すなわち巻取り時にホース14が摺接する部位をしぼ加工し、皺状の凹凸を有する凹凸面を形成する。 - 特許庁
  • To provide a method and an apparatus for processing a substrate, in which defects and contamination are prevented, while enhancing the yield and characteristics by removing dust adhering to the surface of a substrate and the cost can be reduced by increasing the number of times of utilizing a ply-sheet.
    基板の表面に付着したダストを除去して欠陥やコンタミを防止し、歩留りや特性を向上させ、合紙の利用回数を増やしてコストを低減できる基板処理方法およ基板処理装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a roller member production method by which bend of the roller member is reduced even when its circumferential surface is roughened, and mechanical trouble is not caused, and to provide the roller member, a development roller, a development device, a processing cartridge, and an image forming apparatus.
    外周面に粗面化処理をおこなう場合であってもフレが少なく機能的な不具合の発生しないローラ部材の製造方法、ローラ部材、現像ローラ、現像装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。 - 特許庁
  • The rotating member for fixing characterized in that the outermost surface layer contains fluorocarbon resin and inorganic filler to which silylation processing is performed is contained in the fluorocarbon resin, a fixing device having the rotating member for fixing and an image forming apparatus are provided.
    最表面層がフッ素樹脂を含み、該フッ素樹脂中にシリル化処理された無機フィラーを含むことを特徴とする定着用回転部材、並びに該定着用回転部材を有する定着装置及び画像形成装置。 - 特許庁
  • The method for processing particles of the formulation additive comprises spraying of a liquid containing a basic or acidic stabilizing agent to a formulation additive, thereby applying a stabilization treatment to the surface of the particles of the formulation additive.
    製剤用添加剤に塩基性又は酸性の安定化剤含有液をスプレー添加することにより、製剤用添加剤の粒子表面に安定化処理を施した製剤用添加剤の粒子加工方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a method for manufacturing a silicon through-electrode substrate by which a silicon through-electrode substrate having a through electrode having sufficient strength for processing in surface mounting is easily manufactured: and to provide the silicon through-electrode substrate.
    表面実装の際の処理に対して十分な強度を有する貫通電極を備えた貫通電極基板を簡単に製造することができる貫通電極基板の製造方法及び貫通電極基板を提供すること。 - 特許庁
  • The photoelectric conversion element at least includes: a first electrode which is the stainless-steel grid electrode subjected to acid cleaning processing and having a surface layer containing a semiconductive compound; the photoelectric conversion layer; a hole transport layer; and a second electrode.
    少なくとも、酸洗処理が施され、かつ、半導電性の化合物を含有する表面層を有するステンレス製グリッド電極の第1電極と、光電変換層、正孔輸送層、第2電極を有する光電変換素子。 - 特許庁
  • To provide a radiographic imaging apparatus which can remove the moire generated by the difference between the pixel pitch of FPD and the radiation pitch projected on a light receiving surface of FPD through grids without image processing.
    画像処理を行うことなく、グリッドを介してFPDの受光面に投射される放射線のピッチとFPDの画素ピッチとの違いよって生じるモアレを取り去ることができる放射線画像撮影装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide an ozone water producer wherein the surface contact of the electrode plate with the solid electrolyte membrane is achieved by eliminating the unevenness of the contact without processing accuracy.
    より高い加工精度を不要としながらも、電極板と固形電解質膜との接触ムラを容易にかつ確実に解消し、電極板と固形電解質膜とを良好に面接触させることができるオゾン水製造装置を提供する。 - 特許庁
  • An image processing device 300 obtains voxel data by imaging the inside of an organism by the modality 100, and prepares a three-dimensional image indicating the surface of the inner wall of an intestine, for example, by the volume rendering using a ray casting technique.
    画像処理装置300は、モダリティ100が生体内部を撮像することで得られたボクセルデータを取得し、レイキャスティング手法を用いたボリュームレンダリングにより、例えば、腸管内壁表面を示す3次元画像を生成する。 - 特許庁
  • A step for introducing nitrogen to a tungsten silicide layer 110b and the step for performing rapid heat processing in the presence of ammonia gas, so as to form a tungsten nitride layer 111 on the surface of the tungsten silicide layer 110b are provided.
    タングステンシリサイド層110bに窒素を導入するステップと、前記タングステンシリサイド層の表面上に、タングステンナイトライド層111を形成するために、アンモニア・ガスの存在下で、急速な加熱処理を行うステップとを含む。 - 特許庁
  • The plasma processing apparatus 10 etches the silicon substrate 2 by bringing hydrogen plasma 6, generated between an electrode 11 put close to the silicon substrate 2 and the silicon substrate 2 in a hydrogen atmosphere, into contact with a surface of the silicon substrate 2.
    プラズマ加工処理装置10は、水素雰囲気下にてシリコン基板2に近接させた電極11とシリコン基板2との間に生成した水素プラズマ6を、シリコン基板2の表面に接触させてシリコン基板2をエッチングする。 - 特許庁
  • The method of manufacturing the nitride semiconductor device which has the mesa structure formed by the dry etching includes a stage (A) of plasma-processing a surface exposed by the dry etching in an atmosphere including nitrogen plasma.
    ドライエッチングによって形成されたメサ構造を有する窒化物半導体素子の製造方法であって、窒素プラズマを含む雰囲気中で、前記ドライエッチングにより露出した面を、プラズマ処理する工程(A)を含むことを特徴とする。 - 特許庁
  • The manufacturing method for lead storage battery is surface processing applied to lug portion of polar plate group formed with alternate lamination of positive and negative polar plates with sandblast, followed by immersing lugs of the polar plate into molten lead alloy in the mold solidifying to form straps.
    正負極板が交互に積層されてなる極板群の耳部をサンドブラストにより表面処理した後、モールド内の溶融鉛合金に極板耳を浸せき・凝固してストラップを形成する鉛蓄電池の製造方法。 - 特許庁
  • Thereafter, when the first characteristic value θ1 is within a prescribed range (S44), the second characteristic value relative to the surface structure of the measuring object is determined based on each magnetic flux density on plurality of measuring positions (S14), and processing is finished.
    その後、第1の特性値θ1が所定の範囲内にある場合に(S44)、複数の測定位置における磁束密度に基づいて、被測定物の表面の構造に関する第2の特性値を求めて(S14)、処理を終了する。 - 特許庁
  • Moreover, since the coolant gas flow rate is changed before and after forming the coagulation film FF over entire substrate surface Wf, it is possible to remove the particles and so on excellently and efficiently while reducing the time required for the processing.
    しかも、基板表面Wf全体に凝固膜FFが形成される前後で冷却ガスの流量を変更しているので、処理に要する時間を短縮しながら優れた処理性能でパーティクル等を除去することができる。 - 特許庁
  • To provide a heat treatment method of a silicon wafer which is capable of suppressing worsening of surface roughness even when rapid thermal processing (RTP) is performed at a high temperature with a high void defect annihilation power and which is further capable of suppressing occurrence of a recessed pit.
    ボイド欠陥の消滅力が高い高温下でRTPを行っても、表面粗さの悪化を抑制することができ、更に、凹形状のピットの発生も抑制することができるシリコンウェーハの熱処理方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a rotary substrate processing apparatus, in which the generation of spot or stain on a substrate is prevented by straightening the flow of a gas generated around the substrate and a substrate supporting table toward the outside to prevent it from blowing-up to the substrate surface.
    基板および基板支持台の周囲で発生する気流を外方に向けて整流することにより、基板表面への吹き上がりを防止し、基板に汚点や染みを生じさせない回転式基板処理装置を提供する。 - 特許庁
  • Light is projected on the surface of the disk by light transmitting systems (101 and 102) and the regularly reflected light and scattered light thereof are received by light receiving systems (102, 103, 104, 105 and 202) while the signals thereof are subjected to two-dimensional frequency filtering processing (4013) to actualize the flaw of the disk.
    ディスク表面を送光系(101、102)により投光し、その正反射光、散乱光を受光系(102、103、104、105、202)によって受光し、その信号に対して2次元周波数フィルタ処理(4013)により欠陥の顕在化を行う。 - 特許庁
  • A printing-setting is changed so that the rear portion of the surface may get the lowest printing-density by dividing a page area into two or more rectangular areas and judging the color information included in a drawing command, and then a drawing processing operation is performed.
    ページ領域を複数の矩形領域に分割し、描画命令中に含まれる色情報を判断して、表面の後端部分が一番低い印字濃度となるように印字設定を変更して描画処理を行う。 - 特許庁
  • Since the drop quickly occurs by excellent slipping performance of non-stick processing, the water drops condensed on the inner surface of the cover C1 are sequentially dropped and discharge through discharging holes 1 to the outside of the cover C1, proceeding quickly.
    その落下もテフロン加工のすぐれた滑性の良さにより、速やかに行われるので、カバーC_1 の内面に結露した水滴は次から次に落下して、排出孔1からカバーC_1 外へ排出されるが、これらのことが迅速に進む。 - 特許庁
  • An oxide film is removed by placing a processing gas including vapor and an auxiliary removing substance having higher capability for removing oxide film than the vapor in contact with an object to be processed including, at its front surface, a metal part where an oxide film is formed.
    水蒸気と水蒸気よりも酸化膜に対する除去能の高い除去補助物質とを含む処理ガスを表面に酸化膜が形成された金属部分を有する被処理体に接触させ、酸化膜を除去する。 - 特許庁
  • To provide a method for obtaining a resin tube which has a fine outside surface and is uniform in thickness and in circumferential length easily and stably by an apparatus simple in structure without applying secondary processing, and to provide an apparatus for the method.
    二次的な加工を施すことなく、厚さや周長が均一で、かつ外側の表面が緻密な樹脂製チューブが、簡単な構造の装置により、容易に、かつ安定して得られるようにした方法及び装置を提供する。 - 特許庁
  • The axis 7 of the two holders 2 and 3 is arranged approximately perpendicularly to the surface 5 on which the body 1 is installed, and the processing means 4 is installed movably approximately in the direction right crossing the axis 7 or the holders 2 and 3.
    一対のベルホルダ2,3は、その軸心7が加工本体1の設置面5に対して略垂直方向に配設され、加工手段4は一対のベルホルダ2,3の軸心7に対して略直交方向に移動可能に配設される。 - 特許庁
  • Alternatively, when there is a marking M at the outer circumference of the wafer 6 and exposure shot over the entire surface cannot be made, the HDP4, which is formed thick at the upper part of marking M, is deleted with the etching process as the other process, before the CMP processing.
    または、ウェーハ6外周部にマーキングMがあり、全面に露光ショットできない場合は、マーキングM上方に厚く形成されるHDP4をCMP処理前の別工程のエッチングで除去を行ってHDP4を削除する。 - 特許庁
  • That is, an image in which the suction surface of a metallic suction nozzle 18 and a pattern P are black and the electronic component D excluding the pattern P is white is picked up by the component recognition camera 18, and the recognition processing is performed in a recognition processor.
    即ち、金属製の吸着ノズル18の吸着面及びパターンPは黒く、パターンPを除く電子部品Dは白い画像が部品認識カメラ18により撮像され、認識処理装置で認識処理される。 - 特許庁
  • By making the skin touching side of the wrist band 20A, 20B of cloth and by processing the separating part 2A, 2B and band hole 3A, 3B, etc., from the back side toward the surface side, the pleasant feeling and prolonged use is enabled.
    また前記リストバンド20A、20Bの肌に触れる側を布帛とし、切り離し部2A、2Bおよびバンド穴3A、3Bなどを裏面から表面に向けて加工することにより、肌ざわりが良く、長期間の使用を可能とした。 - 特許庁
  • The image processing apparatus processes images so that an advertisement image is arranged on an area other than the first area on the surface of the sheet to be output, and an area other than the second area on the backside of the sheet to be output (S15).
    画像処理装置は、出力する用紙の表面の第1の領域以外の領域、および出力する用紙の裏面の第2の領域以外の領域に広告画像が配置されるように画像を処理する(S15)。 - 特許庁
  • The enhancement of detection sensitivity due to an increase in the number of labels is enhanced by suppressing the steric hindrance between the labelling substances by applying uneven processing to the surface of the substrate for performing the detection of the bio-sample using the hybridization reaction.
    ハイブリダイゼーション反応を用いて生体試料検出を行う基板表面上に凹凸加工を施すことにより、標識物質間の立体障害を抑制し、標識数の増加による検出感度の向上を実現する。 - 特許庁
  • An inclination angle sensor 4 detects the inclination angle θ from the reference position of the detection axis of the angular velocity sensor 3 (for example, vertical direction with respect to the road surface), and gives it to an angle variation arithmetic part 7 in the frequency arithmetic processing circuit 5.
    傾斜角センサ4は、角速度センサ3の検出軸の基準位置(例えば路面に対する鉛直方向)からの傾斜角度θを検出して周波数演算処理回路5内の角度変化演算部7に与える。 - 特許庁
  • Based on a binding margin position indicated by the response data, the control section 1 rotates any one of odd page or even page image data by 180° about the surface of print sheet as the plane of rotation and performs image processing for making upside down.
    制御部1は応答データの指示する綴じ代位置に基づいて、奇数または偶数ページの画像データのどちらか一方を、印刷用紙面を回転面として180度回転し、上下を逆向きにする画像処理を施す。 - 特許庁
  • The plate making method for the flexographic printing plate is characterized in performing (5) surface processing for carrying out irradiation with ultraviolet rays of 200 to 300 nm in wavelength by 3.6 J/cm^2 after (1) back exposure, (2) main exposure, (3) development, and (4) drying.
    1)裏露光、2)主露光、3)現像、4)乾燥の後に、5)波長200〜300nmの紫外線を3.6J/cm^2以上照射する表面処理を行うことを特徴とするフレキソ印刷版の製版方法。 - 特許庁
  • Thus, even the optical disk device 101 can appropriately play back the optical disk 100 that is in the poor state of a data recording surface and in which video is broken or a voice is broken during playing, through offset adjustment processing.
    よって、データ記録面の状態が悪く、再生中に映像が途切れてしまったり音声が途切れてしまったりする光ディスク100でも、光ディスク装置101ではオフセット調整処理によって適正に再生できるようになる。 - 特許庁
  • By this, since a predetermined processing operation (for example, change of a set value regarding the device, or the like) can be executed just by holding the information display medium S1 on the writing surface, a handy device can be provided.
    これにより、筆記面上に情報表示媒体S1を保持するだけで所定の処理動作(例えば、当該装置に関する設定値の変更等)を実行することができるので、使い勝手の良い装置を提供することができる。 - 特許庁
  • The image forming apparatus A rotates the photoreceptor 11 to stabilize the charged potential of the photoreceptor 11 by the charger 12, and performs pre-rotation processing of the photoreceptor 11 for charging the surface of the photoreceptor by the charger 12.
    感光体11の帯電器12による帯電電位の安定化のために感光体11を回転させるとともに感光体表面を帯電器12で帯電させる感光体11の前回転処理を行う画像形成装置。 - 特許庁
  • To not only irradiate a prescribed area of a living body such as the hand with light by positioning the living body with respect to a surface light emitting part but also to facilitate processing after imaging such as comparing images obtained by an imaging part with each other.
    手等の生体を面発光部に対して位置決めすることによって、生体の所定領域に光を照射できるだけでなく、撮像部により得られた画像を比較する等の撮像後の処理を容易化する。 - 特許庁
  • To eliminate the influence of warp of a substrate and to accurately perform binarization processing by dividing image data on an inputted object surface into areas in a recessed/projecting part unit and setting a binarization threshold in each divided unit area.
    入力された対象物表面の画像データを凹凸単位で領域分割し、分割された各単位領域ごとに2値化閾値を設定することにより、基板の反りの影響をなくして正確に2値化処理を図る。 - 特許庁
  • The photoluminescent display board for disaster prevention is constituted of forming a recessed groove on the surface of a base material formed by a metal by etching processing and forming a white paint layer, a photoluminescent agent layer and a glass film layer in the recessed groove.
    本発明の災防災用蓄光表示板は、金属で形成された基材表面に、エッチング加工により凹溝を形成すると共に、かかる凹溝内に、白色ペイント層、蓄光剤層、ガラス膜層とを施したことを特徴とする。 - 特許庁
  • To overcome the processing difficulty owing to a high hardness after a heat treatment, establish a fine outside appearance owing to the structure in which no through hole of the round-flow hole remains at the outside surface of the nut, give good dust-proof effect, and reduce the emission of noises.
    熱処理した後の高硬度による加工困難が克服でき、且つ当該ナットの外周面に回流孔の貫通孔が残らないことにより、外観が綺麗になり、防塵効果が得られ、騒音の発生を低減できる。 - 特許庁
  • The image processing system includes a means/step for recognizing the illuminating light applied to a display surface on which the display image is displayed, and a means/step for subjecting the display image to a predetermined process according to information about the illuminating light recognized.
    表示画像が表示される表示面に照射された照射光を認識する手段/ステップと、当該認識された照射光に関する情報に応じて表示画像に所定の処理を施す手段/ステップとを備える。 - 特許庁
  • To manufacture an artificial marble of superior flexibility capable of coping with the post-processing or bending in correspondence with the deformation of a wall or the like and a profile base on a job site, and also provided with cushioning properties on its surface.
    本発明は、壁などの変形や異形基体に対応させた後加工や曲げ加工が、現場にて対応可能な柔軟性に優れ、且つ表面にもクッション性を有する人工大理石製品を提供することを目的としている。 - 特許庁
  • To provide a coated steel plate superior in bending processability, press processability, coating adhesion properties after processing, solvent resistance, chemical resistant, stain resistance, weather resistance, electrical conductivity and corrosion resistance, and having good surface appearance and sufficient coating hardness.
    特に、曲げ加工性、プレス加工性、加工後塗膜密着性、耐溶剤性、耐薬品性、耐汚染性、耐候性、導電性および耐食性に優れ、良好な表面外観と十分な塗膜硬度をもつ塗装鋼板を提供する。 - 特許庁
  • When determining that the vibratory excitation prediction time comes during a period of exposure processing being performed by an image-forming unit 13, the controller 80 stops the exposure processing, to clean the image-forming unit 13 and clean a surface of an intermediate transfer belt 41 with a belt cleaner 49.
    そして、制御部80は、画像形成ユニット13が行っている露光処理が終了するまでの間に振動発生予測時期が到来すると判定した場合には、制御部80は、その露光処理を中止し、画像形成ユニット13をクリーニングするとともに、ベルトクリーナ49によって、中間転写ベルト41の表面をクリーニングする。 - 特許庁
  • To provide a method for inspecting a clad layer formed by laser clad processing for inspecting even the flaw caused by hard particles being internal quality other than a surface flaw such as a crack or a pinhole without performing cutting with respect to the clad layer formed by the laser clad processing performed with respect to a part made of pig iron and enhancing inspection quality.
    鋳鉄製の部品に対して行われるレーザクラッド加工によって形成されたクラッド層について、切断を行うことなく、割れやピンホール等の表面的な欠陥のほか、内部品質である硬質粒子による欠陥についても検査することができ、検査品質を向上することができるレーザクラッド加工によるクラッド層の検査方法を提供する。 - 特許庁
  • Once a processing indication signal is received from outside, a processing means processes a recording area on a magnetic surface 206 into an unusable state almost in synchronism with rotations of the disk recording medium to disable all recording areas to be read or written, so the disk recording medium can sufficiently be processed into the unusable state.
    外部から処理指示信号を受信すると、処理手段により磁性面206の記録領域をディスク状記録媒体の回転にほぼ期して使用不能に処理させることにより、全ての記録領域が読み出し不能もしくは書き込み不能になるので、ディスク状記録媒体を十分に使用不能に処理することができる。 - 特許庁
  • This decorative processing method comprises a step to form a cutout part 15 on a surface cloth 10 by carbon dioxide gas laser processing, a step to bond a backing cloth 20 of a different kind or different color from those of the front cloth 10 to the lower part of the cutout front cloth 10 and a step to integrally trimming the bonded front cloth 10 and backing cloth 20 to form a prescribed edge form.
    炭酸ガスレーザー加工によって表布10に切り抜き部15を形成する工程と、前記切り抜き加工された表布10の下部に該表布10と異種又は異色の裏布20を接着する工程と、前記接着された表布10と裏布20とを所定縁部形状となるように一体にトリミング加工する工程とからなる。 - 特許庁
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