「surface processing」を含む例文一覧(7705)
＜前へ 1 2 .... 121 122 123 124 125 126 127 128 129 .... 154 155 次へ＞- In this setting processing, the normal direction histogram of the whole of a surface to be inspected is formed using CAD data which indicates that the surface shape of the workpiece is expressed as the aggregate of a triangular plane and a plane becoming a predetermined tolerance value or below in the angle difference with respect to the normal line direction of an imaging center point is extracted from the histogram to recognize an inspectable range.
この設定処理では、ワークの表面形状を三角平面の集合体として表したＣＡＤデータを用いて被検査面全体の法線方向ヒストグラムを作成し、そのヒストグラムから撮像中心点の法線方向に対する角度差が所定の許容値以内になる平面を抽出することにより、検査可能範囲を認識する。 - 特許庁 - This manufacturing method for the electrooptical device includes a forming process for forming a pattern including wires, TFTs, etc., on the TFT array substrate, a process for flattening the top surface of a laminated body on the substrate including the pattern, and a process for forming the projections by processing the flattened top surface by photolithography and etching.
このような電気光学装置の製造方法は、ＴＦＴアレイ基板上に、配線やＴＦＴ等を含むパターンを形成する形成工程と、このパターンを含む基板上の積層体の上面を平坦化する工程と、この平坦化された上面に対してフォトリソグラフィ及びエッチングを行うことにより、凸部を形成する工程とを含む。 - 特許庁 - To provide a radiation temperature measuring method and a radiation temperature indicator, capable of accurately measuring a temperature of an object to be processed such as a semiconductor substrate, on the surface of which a thin film is formed and which is subjected to a surface treatment wherein emissivity varies every moment, by using a noncontact way without being affected by variations in the emissivity, and to provide a substrate processing apparatus employing them.
表面に薄膜が成膜されている半導体基板のように、放射率が刻々変化する表面処理中の被処理物の温度を、放射率の変動の影響を受けずに非接触で正確に測温することのできる温度測定方法と放射温度計、および、それを用いた基板処理装置を提供すること。 - 特許庁 - In a circular bearing seal in which an expanding portion of an elastic seal layer is formed at a periphery of the outside and inside of the bearing seal by means of punching press working after integrating the rubber-made elastic seal layer with a sheet steel, the elastic seal layer is set to reform its surface layer by using a reactive chemical surface processing agent of a chloride series after applying punching press working.
ゴム製の弾性シール層を鋼板に一体化させた後の打抜きプレス加工により、その外及び内の周縁部に弾性シール層の膨出部が形成されているリング状の軸受用シールにおいて、弾性シール層は、打抜きプレス加工の後に、その表面層が、クロル系の反応性化学表面処理剤を用いて改質されたものである。 - 特許庁 - To provide a chemically reinforced plate glass which is improved in brittleness inherent in glass, and is prevented from the occurrence of the extension of unavoidable remaining cracks that are formed during processing, and in which a deep surface stress layer is likely to be produced to enable the easy incorporation of the remaining cracks into the surface compression stress layer, and scratches are hardly formed by external forces.
ガラスそのものの脆さを改善し加工時に発生する不可避な残存クラックの伸展を防ぎつつ、また深い表面応力層を得やすくすることにより発生した残存クラックを表面圧縮応力層に容易に取り込むことが可能で、かつ外力による傷の発生がしにくい化学強化板ガラスの提供。 - 特許庁 - A surface analyzing apparatus includes a means for irradiating a sample surface with two types of ions having different sizes; an instrument for measuring mass spectra of ions emitted from the sample surface by a time-of-flight secondary ion mass spectrometer; and an information processing device for outputting the difference between two mass spectra measured by irradiation with different types of ions from the measured mass spectra.
試料表面にサイズの異なる少なくとも２種類のイオンをそれぞれ照射する手段、前記試料表面から放出されるイオンの質量スペクトルを飛行時間型二次イオン質量分析器により計測する計測器、および計測された質量スペクトルから異なる種類のイオン照射で計測された２つの質量スペクトルの差を出力する情報処理装置を有することを特徴とする表面解析装置。 - 特許庁 - In the process for fabricating a solid electrolytic capacitor element comprising a step for forming a masking on a part of a positive electrode substrate having a dielectric film on the surface to section that surface, and forming a solid electrolyte layer in at least a partial region on the surface of the positive electrode substrate sectioned by masking, a step performing formation processing in a region including the fringe of masking after forming the masking is included.
表面に誘電体皮膜を有する陽極基材の一部にその表面を区画するようにマスキングを形成し、マスキングで区画された陽極基材表面の少なくとも一部の領域に固体電解質層を形成する工程を含む固体電解コンデンサ素子の製造方法において、前記マスキングの形成後にマスキングの縁部を含む領域に化成処理を施す工程を含むことを特徴とする固体電解コンデンサ素子の製造方法。 - 特許庁 - In this plasma processing device and this plasma CVD device, an electrode includes a metallic electrode body, and a plurality of dielectric materials embedded in a surface of the metallic electrode body facing a substrate holder, the surface of the metallic electrode body facing the substrate holder is flat, and end surfaces of the plurality of dielectric materials embedded in the surface are located in the same plane as that of the metallic electrode body.
本発明によるプラズマ処理装置又はプラズマＣＶＤ装置では、電極が、金属製電極本体と、基板ホルダーに対向する金属製電極本体の表面に埋め込まれた複数個の誘電体とで構成され、基板ホルダーに対向する金属製電極本体の表面が平坦であり、該表面に埋め込まれる複数個の誘電体の端表面が金属製電極本体の表面と同じ平面内に位置している。 - 特許庁 - An elevated substrate W is exposed to the drying gas and pure water adhering to the surface is dried by the drying gas but since the drying gas is mixed with the vapor of isopropyl alcohol which reduces surface tension of pure water, liquid level of pure water stored in the processing tank 1 or surface tension of pure water adhering to the substrate W is reduced thus preventing collapse of a pattern formed on the substrate W.
上昇された基板Ｗは、乾燥用気体を浴び、表面に付着している純水が乾燥用気体で乾燥されるが、乾燥用気体には純水の表面張力を低減させるイソプロピルアルコールの蒸気が混合されているので、処理槽１に貯留している純水の液面や、基板Ｗに付着している純水の表面張力が低減され、基板Ｗに形成されているパターンの倒壊を防止できる。 - 特許庁 - When the read circuit 14 cannot read valid image information from any backside of originals, the image information on the surface side of the original is transmitted to a receiver through a one-side transmission processing and a warning message denoting it is outputted.
読取回路１４により原稿のいずれの裏面からも有効な画情報を読取れなかった場合は、原稿の表面のみの画情報を片面伝送処理により受信機に送信するとともに、その旨の警告メッセージを出力する。 - 特許庁 - To provide an electrifying device which has a means not only for removing toner left after transfer on the surface of an image carrier by electric attraction but also for electrifying the image carrier, and whose efficiency of removing the toner left after transfer is not lowered even when processing speed is increased.
像担持体表面の転写残りトナーを電気的吸着により除去すると共に像担持体を帯電させる手段を有し、プロセススピードが上がっても転写残りトナーのクリーニング効率が低下しない帯電装置を提供する。 - 特許庁 - To obtain a semiconductor device, in which the connecting terminal of a semiconductor chip and the connecting terminal of an electronic component accompanying the chip are easily and connected immediately to a conductor pad on the surface of a wiring board, without using Pb-containing solder without requiring much processing.
半導体チップと該チップに付随する電子部品との接続端子を配線基板表面の導体パッドに、公害の元凶となるＰｂ入りのはんだを用いずに手数を掛けずに容易かつ迅速に接続できる半導体装置を得る。 - 特許庁 - To provide a substrate processing method capable of pre-cleaning the front surface of a low dielectric constant film and effecting further hydrogen termination without giving damage to the low dielectric constant film, without inviting the increase of a specific inductive capacity, and, further, without generating the spatter of a metallic film.
低誘電率膜にダメージを与えることなく、また比誘電率の増大を招くことなく、さらに金属膜のスパッタを生じることなく、低誘電率膜表面をプレクリーンし、さらに水素終端できる基板処理方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a fine particle fixing device which can fix fine particles to a substrate in a liquid environment with a low load to the substrate, and can be applied to processing of patterning and film formation on the surface of various kinds of substrates, and the like.
基材に対して負担の少ない液体環境下において微粒子を固定することができ、幅広い種類の基材の表面に対してパターニングや膜の形成を行う加工などにも適用することができる微粒子固定装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing an electrophotography photoreceptor, having such as surface as is minimally scraped and is not irregularly scraped even under such a hard processing condition of electrophotography as to impose a large abrasive force on the photoreceptor, when used in an electrograph apparatus.
電子写真装置において感光体に対する摺擦力が大きくなるような過酷な電子写真プロセスの条件でも感光体ドラム表面の削れ量が少なく、かつ、むら削れの発生がない電子写真感光体の製造を可能にする。 - 特許庁 - While applying a voltage between the silicon substrate 1 and a counter electrode 5 in the processing bath 2, the oxidizing solution 3, such as nitric acid, is made to react with the silicon substrate 1 so that a silicon dioxide film 15 is formed on the surface of the silicon substrate 1.
処理槽２内に設置した、シリコン基板１と対向電極５との間で電圧を印加した状態で、シリコン基板１に硝酸等の酸化性溶液３を作用させて、前記シリコン１の表面に二酸化シリコン膜１５を形成する。 - 特許庁 - To provide a curable resin embossed decorative panel having an embossed pattern not flattened at the time of manufacturing and printing or use even if the embossed pattern is formed to a coating film of a thermosetting resin by emboss processing to show good shape durability and having good surface durability and a high design effect.
熱硬化性樹脂の塗膜にエンボス加工で凹凸模様を賦形しても、製造時や使用時に凹凸模様が平坦化せずその形状の耐久性が良く、また表面の耐久性も良好で、高意匠も可能な化粧板を得る。 - 特許庁 - To provide an image forming apparatus for performing post-processing in a post-processor additionally set on the bottom surface of a device body of the image forming apparatus without reforming the device body by using an existing double-sided path of the device body.
画像形成装置の装置本体に有している既存の両面パスを利用することで、装置本体を改造することなく、装置本体底面に追加設置された後処理装置にて後処理を行うことができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - A thin piezoelectric oscillation element is provided, where a countermeasure to sub vibration is taken, by processing a thin board by forming a protective film on a main surface in the shape of a convex lens and soaking it in etchant for dissolving a crystal, while protecting the shape of the lens, etc.
凸レンズ形状の主面に保護膜を形成し、凸レンズ形状を保護しつつ、水晶を溶解するエッチング用液へ浸けるなどして、板厚を薄く加工することで副振動対策のなされた薄板の圧電振動素子を提供する。 - 特許庁 - At the surface side of a monocrystal silicon substrate 11, a drive circuit for driving a photoelectric conversion part 12, and an electric circuit 13 for processing a signal from the photoelectric conversion part, are arranged to be separated from a prescribed distance D in the horizontal direction from an opening 20.
単結晶シリコン基板１１の表面側において光電変換部１２を駆動する駆動回路や光電変換部からの信号を処理する電気回路１３を開口２０から水平方向に所定距離Ｄだけ離して配置する。 - 特許庁 - To provide a polished rice processing method capable of easily removing rice bran remaining in the fine grooves or the like of the surface of polished rice without damaging polished rice and holding the moisture of grains of polished rice by a simple method to prevent the lowering of eating taste, and apparatus therefor.
傷つけることなく、表面の微細溝等に残存する糠を容易に除去することができ、その上、簡易な方法で米粒の水分を保持して食味を低下させることのない精白米加工方法及びその装置を提供する。 - 特許庁 - With the reference marks put on the board surface of a game machine, the quality management of the game machine by image processing or the like can be performed in a plant, and nails of the game machine can be accurately detected in a hall to permit desired nail maintenance.
遊技機の盤面上に基準マークが付されたので、工場においては画像処理等による遊技機の品質管理を可能にすると共に、ホールにおいては遊技機の釘を正確に検出して、所望の釘整備を可能とすることができる。 - 特許庁 - To provide a correcting device of the circumference which does not cause a damage to a roller even when foreign matter ( a cut metal piece or the like ) is adhered to the surface of a metallic ring in the preceding stage ( solution heat treatment or the like ) of the corrective processing, and a decrease in yield is evaded.
補正処理の前工程（溶体化処理等）で金属リングの表面に異物（切削金属片等）が付着していた場合でもローラに損傷を与えず、且つ、歩留まりの低下を回避できる周長補正装置を提供する。 - 特許庁 - The high-resolution area sensor camera 5 has a high resolution of 1,000×1,000 pixels or more, is installed at the upper portion of the inspection stage 3, and takes in the image of the entire surface of the work to be inspected by control from the image control processing means 2.
高解像度エリアセンサカメラ５は、１０００×１０００画素以上の高解像度のもので、検査ステージ３の上方に設置され、画像制御処理手段２からの制御によって検査対象ワークの表面全体の画像を取り込む。 - 特許庁 - To improve the holdability of a main body part and to improve the followup ability to the surface of a processing object of a head part in a motor-driven instrument (hair cutter) in which a head part with a trimmer blade for performing reciprocating linear movement is swingable to a grip part.
往復直線運動を行うトリマー刃を備えたヘッド部がグリップ部に対して揺動可能な電動器具（毛刈り機）において、本体部の把持性を向上させ、ヘッド部の処理対象物の表面への追従性を向上させる。 - 特許庁 - To provide a miniaturized diaphragm for a speaker having improved acoustic performance at low cost by developing an improved material for the diaphragm based on a mixed material consisting of a woody material subjected to special surface processing and a synthetic resin with good mass-producibility.
特殊な表面処理した木質材料と量産性に優れた合成樹脂との混合材料によって優れた振動板用の材料を開発し、小型で音響的性能が優れたスピーカ用振動板を安価に提供すること。 - 特許庁 - This rotor shaft is formed by integrally connecting a hollow rotor 1 with a pair of shafts 2 so as to block up a through part of a rotor by a frictional pressure contact construction method and a welding construction method, by coaxially processing a hollow part 1b of the rotor with a side surface 1a of the rotor as a reference.
中空ロータ１は、ロータの側面１ａを基準に、ロータの中空１ｂを同軸状に加工し、一対のシャフト２と摩擦圧接工法や、溶接工法等で、ロータの貫通部をふさぐ様に接続し一体的にロータシャフトを形成する。 - 特許庁 - The stainproof optical film is obtained by treating one side of a transparent resin film having ≥30 μm and ≤60 μm thickness with a solvent, providing the other side with a hard coat layer and subjecting the surface at the hard coat layer side to stainproof processing.
厚さ３０μｍ以上６０μｍ以下の透明樹脂フィルムの一方の面を溶剤処理した後、他方の面にハードコート層を設け、ハードコート層側の最表面に防汚加工をなしたことを特徴とする防汚性光学フィルム。 - 特許庁 - Subsequently, an n-type impurity layer 65 is formed on the surface insulating film, and a p-type impurity layer 95 is formed on the rear insulating film respectively by printing, the impurity is diffused by heat-processing, and an n++ semiconductor layer and a p++ semiconductor layer are formed.
次に，表面絶縁膜上にｎ型不純物層６５，裏面絶縁膜上にｐ型不純物層９５を，印刷法にて各々形成し，熱処理により不純物を拡散し，ｎ++半導体層及びｐ++半導体層を形成する。 - 特許庁 - When maintenance operation is performed under a state where the quantity of air in the subtank on the upstream side of a filter member 48a is appropriate, suction recovery processing is effected in a second suction mode where the differential pressure of the filter member 48a does not exceed a surface tension of ink.
フィルタ部材４８ａの上流側のサブタンク内の空気量が適正な場合のメンテナンス動作時には、フィルタ部材４８ａでの差圧がインクの表面張力を越えない第２吸引モードで吸引回復処理を実行する。 - 特許庁 - The method further comprises the steps of calculating the height of the object from the relationship between the slit light reflected image of each image and the slit light reflected reference image formed on the reference surface to be measured, and processing the three-dimensional image to recognize the height side of the object.
各画像におけるスリット光反射像とスリット光が測定基準面上につくるスリット光反射基準像との関係から物体の高さが算出され、物体の高さ寸法を認識する３次元画像処理が行なわれる。 - 特許庁 - Therefore, a measured signal is inputted to a differential amplifier 81 of a measurement processing part 2 from the surface electrodes Hp and Lp pasted on a human body B through the operation amplifiers 13a and 13b via measuring cables 11b and 11c.
したがって、測定信号は、人体Ｂに貼り付けられた表面電極Ｈｐ，Ｌｐからオペアンプ１３ａ，１３ｂを通り、測定ケーブル１１ｂ，１１ｃを介して測定処理部２の差動増幅器８１に入力されるように構成されている。 - 特許庁 - In a processing method of granulated blast furnace slag intended for waste molten slag W, aluminum in the slag W is brought into contact with a fluid R capable of readily forming film to form a film so that hydrogen gas is hardly generated from the surface of aluminum.
廃棄物溶融スラグＷを対象として処理する水砕スラグ処理方法において、スラグＷ中のアルミニウムに、皮膜形成自在な流体Ｒを接触させてアルミニウム表面から水素ガスが発生し難い皮膜を形成する。 - 特許庁 - To provide a surface light-diffusing polyester film having excellent heat resistance, mechanical strength, thickness accuracy and the like, achieving both total light transmittance and light diffusivity, suppressing curling due to heat originating from a bimetal structure, and having excellent post-processing property.
優れた耐熱性、機械的強度、厚み精度等を有し全光線透過率と光拡散性を両立し、バイメタル構造に由来する加熱カールの発生が抑制され、後加工性にも優れた表面光拡散性ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁 - The production process of a silicon single crystal wafer comprises a first heat treatment process performing heat treatment on a silicon wafer obtained by processing a single crystal grown by Czochralski method, and a step for polishing the heat treated wafer surface until a device active layer becomes a predetermined thickness.
チョクラルスキー法によって育成された単結晶から加工されたシリコンウェーハに熱処理を施す第１熱処理工程と、熱処理が施されたウェーハ表面を、所定厚さのデバイス活性層を残すように研磨する工程とを有する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method capable of forming an optical waveguide with an optical path conversion function directly on a substrate by a simple process, the optical waveguide allowing fine processing and having high surface accuracy, and to provide the optical waveguide manufactured by the manufacturing method.
微細な加工が可能で、面精度が高い、光路変換機能を有する光導波路を、簡略な工程で直接基板上に直接形成できる製造方法及び該製造方法により製造した光導波路を提供すること。 - 特許庁 - The additional processing step is either a step wherein, after nickel plating, a surface onto which nickel is deposited is covered by plating having a higher covering power than that of nickel plating, a step wherein the nickel plating is passivated or a step wherein the nickel plating is replaced by another metal.
すなわちその処理工程とは、ニッケルめっき後にニッケルめっきよりつきまわりの良いめっきを施しニッケルの析出面を覆う工程、ニッケルめっきを不動態化する工程、ニッケルめっきを他の金属で置換する工程である。 - 特許庁 - To provide a method and apparatus of plasma surface treatment which can execute large area/equalizing processing by effectively solving a standing wave problem in application of VHF plasma and UHF plasma to a large area/equalization process.
ＶＨＦプラズマ及びＵＨＦプラズマの大面積・均一化プロセスへの応用において、定在波問題を効果的に解決することにより、大面積・均一化処理が可能なプラズマ表面処理方法及び表面処理装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a surface processing method of printed circuit board for forming a fine circuit pattern and enhancing adhesive force between a circuit pattern and printed circuit board resin, and provide printed circuit board resin processed by this method.
微細な回路パターンを形成でき、かつ回路パターンと印刷回路基板樹脂との接着力を向上させることができる印刷回路基板樹脂の表面処理方法及びこの方法で処理した印刷回路基板樹脂を提供する。 - 特許庁 - Then the entire surface including the interlayer insulating film 22D is subjected to metal oxidation processing and then subjected to ashing using oxidation reaction to remove the part (remaining film 22E) of the interlayer insulating film 22D corresponding to the predetermined region.
次に、層間絶縁膜２２Ｄを含む表面全体に対して金属酸化処理を行ったのち、酸化反応を利用したアッシングを行うことにより層間絶縁膜２２Ｄのうち上記所定の領域に対応する部分（残膜２２Ｅ）を除去する。 - 特許庁 - To provide a rolling mechanical element capable of easily and effectively preventing surface damage of contact surfaces without using special material and applying processing such as special heat treatment even when the rolling mechanical element has poor lubrication.
潤滑が希薄な転がり機械要素においても、特殊な材料の使用や、特殊な熱処理や表面処理等の加工を施すことなく、接触面の表面損傷を容易かつ効果的に防止できる転がり機械要素を提供すること。 - 特許庁 - The mold 1 for manufacturing the fly-eye lens sheet is equipped with a main body 2 having a cylindrical outer peripheral surface and the ceramics layer 4 provided to the outer periphery of the main body 2 and having a large number of lens forming recessed parts 6 subjected to laser processing.
本発明のフライアイレンズシート製造用型１は、円筒状の外周面を有する本体２と、該本体の外周に設けられ、レーザ加工された多数のレンズ形成用凹部６を有するセラミックス層４と、を備えていることを特徴とする。 - 特許庁 - The chemical processing solution contains hydrofluoric acid and at least one inorganic acid selected from among hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, and nitric acid and/or a reattachment prevention agent to prevent the reattachment of the reaction products on the surface of the glass substrates.
化学加工液は、フッ酸、並びに塩酸、硫酸、リン酸および硝酸から選ばれる１種以上の無機酸、及び／又は、ガラス基板表面に反応生成物が再付着することを防止する再付着防止剤を含有する液が使用される。 - 特許庁 - Since the bonding regions are pressed and bonded with each other in the cleaned processing chamber, bonding of firm and high durability can be performed while preventing oxidation and degradation caused by pollution of the cleaned surface of the bonding regions.
これにより、清浄化した同じ処理室内において接合部位どうしを圧接して接合するので、接合部位の清浄化された表面の酸化や汚染による劣化を防ぎつつ、強固で耐用性の高い接合を行うことができる。 - 特許庁 - In a single piezoelectric ceramic material, only a part corresponding to a peripheral part of the ultrasonic radiation surface RP is subjected to polarization processing, to thereby form the dummy element block 131C and the piezoelectric element block 131S, integrally in the element plate 131.
単一の圧電セラミック性素材において、超音波放射面ＲＰの周辺部に対応する部分のみに分極処理を施すことにより、ダミー素子ブロック１３１Ｃと圧電素子ブロック１３１Ｓとが素子板１３１内に一体形成されている。 - 特許庁 - This semiconductor board includes an underlayer wire 13 on a base film 11, and a position detecting channels 15 indicating a reference position of the processing pattern as well as a contact hole 14 is pattern-formed on an interlayer insulation film 12 formed on the upper surface.
この半導体基板は、下地膜１１上に下層配線１３を有し、その上面に形成された層間絶縁膜１２には、コンタクトホール１４とともにその加工パターンの基準位置を示す位置検出溝１５がパターン形成されている。 - 特許庁 - To provide a disk having a smooth surface for producing powder which allows efficient production of impalpable powder for applications such as solder powder, precision metal powder injection molding (MIM) parts, powder for thermal spraying, and shot powder for micro processing.
はんだ粉末や精密金属粉末射出成型（ＭＩＭ）部品、溶射用粉末、微細加工用ショット粉等の用途向け微粉末を効率よく製造することを可能とした表面平滑化してなる粉末作製用ディスクを提供する。 - 特許庁 - The adhesive film for processing a semiconductor wafer in which a bump electrode is formed to protrude from a main surface contains a separation layer and an adhesive layer on a base material tape in this order.
本発明の半導体ウェハ加工用接着フィルムは、突出電極が主面から突出して形成された半導体ウェハの加工用接着フィルムであって、基材テープ上に分離層及び接着剤層をこの順に有してなることを特徴とする。 - 特許庁 - First and second extension electrodes 91 and 92 which are connected with the first and second electrodes 41 and 42 at the piezoelectric element side at least during the polarization processing of the piezoelectric element 4 are formed at a circumferential fringe on the surface of the substrate 2.
そして、基板２の表面の周端縁には、少なくとも圧電素子４の分極処理の際に第１および第２圧電素子側電極４１，４２と接続されている第１および第２延設電極９１，９２が形成されている。 - 特許庁 - To reduce a growth lag time at the time of forming a boron containing amorphous silicon film on a substrate even when a natural oxide film is formed on the surface of a silicon substrate for film formation to improve productivity of substrate processing.
成膜対象のシリコン基板の表面上に自然酸化膜が形成されている場合であっても、基板上にホウ素含有アモルファスシリコン膜を形成する際の成長遅れ時間を短縮させ、基板処理の生産性を向上させる。 - 特許庁
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