「surface processing」を含む例文一覧(7705)
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半導体装置の製造方法であって，所定回路が形成された半導体基板１００表面上に配線１０２，１０８を形成する工程と，前記配線上に，その表面が略平坦な樹脂層１１２を形成する工程と，前記樹脂層１１２を形成した後，前記半導体基板１００の裏面を加工する工程と，を有する。 - 特許庁 - While a semiconductor wafer W in which a carbon thin film 12 is formed on a surface of a silicon substrate 11 implanted with impurities is preheated, its surface is supplied with an oxygen gas more at a peripheral edge portion than at a center portion to perform processing such that a film thickness of the carbon thin film 12 decreases from the center portion to the peripheral edge portion.
不純物が注入されたシリコン基板１１の表面に炭素の薄膜１２を形成してなる半導体ウェハーＷを予備加熱しつつ、その表面に中心部よりも周縁部に多量の酸素ガスを供給することによって、炭素の薄膜１２の膜厚が中心部から周縁部に向けて薄くなるような加工を行う。 - 特許庁 - To provide an image forming apparatus which can determine before printing whether a paper sheet has an available printing surface, and can perform a series of processing from the determination of the printing surface to printing without manpower, thereby reducing time required for printing, and to provide a method for detecting one-side-printed sheet, and a program.
印刷する前に用紙が有効な印刷面を有するか否かの判別を行うことができ、かつ印刷面の判別から印刷に至る一連の処理を人手を介さず行うことができ、よって印刷に要する時間を短縮することが可能な画像形成装置およびその片面印刷済み用紙検出方法ならびにプログラムの提供。 - 特許庁 - To provide an image reader equipped with a first image reading part that reads an image on one surface of a document conveyed along a conveyance path, and a second image reading part for reading an image on the other surface of the document conveyed along the conveyance path, to reduce crosstalk between signals output from each image reading part to a processing part.
搬送経路に沿って搬送される原稿の一方の面の画像を読み取る第１画像読取部と、上記搬送経路に沿って搬送される上記原稿の他方の面の画像を読み取る第２画像読取部とを備えた画像読取装置において、各画像読取部から処理部に出力される信号間のクロストークを低減すること。 - 特許庁 - The substrate processing apparatus 1 is equipped with: a spin chuck 4; a SC1 nozzle 5 for supplying SC1 having a high temperature (e.g. 80°C) toward a surface of a wafer W held by the spin chuck 4; a vapor nozzle 6 for supplying water vapor to the surface of the wafer W held by the spin chuck 4; and a cup 8 accommodating the spin chuck 4.
この基板処理装置１は、スピンチャック４と、スピンチャック４に保持されたウエハＷの表面に向けて、高温（たとえば８０℃）のＳＣ１を供給するためのＳＣ１ノズル５と、スピンチャック４に保持されたウエハＷの表面に水蒸気を供給するための蒸気ノズル６と、スピンチャック４を収容するカップ８とを備えている。 - 特許庁 - In a method of processing a wafer 20 having a surface on which bumps B are formed and a surface protection film 11 is adhered, the edge face of a housing 40 placed around a table 51 for holding the wafer thereon is ground so as to be a predetermined thickness and the wafer is placed on the housing with its backside 22 being upwards.
表面にバンプＢが形成されていて該表面に表面保護フィルム１１が貼付けられているウェーハ２０を処理する処理方法においては、ウェーハを保持するテーブル５１の周りに配置された筒体４０の端面を所定の厚さまで研削し、ウェーハの裏面２２を上方に向けた状態で、ウェーハを筒体に配置する。 - 特許庁 - To provide a sterilizing detergent composition for a hard surface, of course excellent in cleansing power of oily soil and storing stability of the composition at low or high temperatures, also excellent in sterilizing property, and used suitably for cleaning the hard surface, especially the cleaning of the floor of a backyard of a supermarket, kitchen, restaurant, dining room, food processing factory, etc.
油汚れの洗浄力と低温乃至高温時における組成物の貯蔵安定性に優れることはもとより、除菌性にも優れる、硬表面の洗浄、特に、スーパーマーケットのバックヤード、厨房、レストラン、食堂、食品加工工場等の床の洗浄に好適に用いられる硬表面用除菌洗浄剤組成物を提供する。 - 特許庁 - The flexible printed wiring board has a circuit formed by etching electrolytic copper film stuck on a polyimide resin film base material, also has the surface with the circuit thereon coated with a cover lay film, and has a contactness improvement processing layer on the circuit surface which comes into contact with the cover lay film.
ポリイミド樹脂フィルム基材と張り合わせた電解銅箔をエッチングすることにより形成した回路を備え、当該回路の存在する表面をカバーレイフィルムで被覆したフレキシブルプリント配線板において、カバーレイフィルムと接触する回路表面に密着性改良処理層を備えることを特徴としたフレキシブルプリント配線板等を採用する。 - 特許庁 - The skin covering sheet for the cosmetic impregnation is obtained by entangling and integrating a filament nonwoven fabric with staple fibers by applying a water flow entanglement processing on a laminated body prepared by laminating a fiber layer comprising the staple fibers on at least one surface of the filament nonwoven fabric with a stretching property at least in one direction so as to make at least one surface.
少なくとも一方向に伸縮性を有する長繊維不織布の少なくとも一方の面に、ステープル繊維から成る繊維層が少なくとも一表面となるように積層された積層体に、水流交絡処理を施すことにより、長繊維不織布とステープル繊維が交絡し、一体化されて化粧料含浸用皮膚被覆シートを得る。 - 特許庁 - A coil unit 20 provided with a detecting surface, a transmission block 32 for supplying a drive signal to a source coil, a reception block 32 for receiving the signal detected by the detecting surface and a controller 30 containing a control block 34 having a CPU for executing calculation processing of the endoscope shape, etc., are integrally constituted via a strut 40.
検出面２１を設けたコイルユニット２０と、ソースコイルに駆動信号を供給する送信ブロック３２、検出面２１で検出した信号を受信する受信ブロック３３及び内視鏡形状の算出処理等を行うＣＰＵを備えた制御ブロック３４を内蔵した制御装置３０とは支柱４０を介して一体的に構成されている。 - 特許庁 - After finishing printing, ink and wetting water adhering to the surface of the material P is cleaned by a cleaning device 10, thereafter, the printing area on the surface of the material P is removed by a chemical processing liquid supply roller 11 to return the material P to the initial state and to make it reusable.
印刷終了後は、クリーニング装置１０により当該印刷用版材Ｐ表面に付着したインキ、湿し水をクリーニングした後、化学処理液供給ローラ１１により、印刷用版材Ｐ表面における前記画線部を除去することによって、印刷用版材Ｐを初期の状態に戻し、これを再利用可能とするものである。 - 特許庁 - A second processing means 23A fetches the deviation A1 between the center of the photodetective surface 12 of the detector 2 and the projected aneurysm M' from a selective image photographed in an optional direction to obtain the coordinate ratio of an actual aneurysm M to the projected aneurysm M' on the photodetective surface 12 to calculate the dimension of the actual aneurysm M.
また、第２の処理手段２３Ａは、任意の方向で撮影した選択画像から、検出器２の受光面１２中心と写し出された動脈瘤Ｍ’との間のずれＡ１を取り込み、実際の動脈瘤Ｍと受光面１２上で投影される動脈瘤Ｍ’との座標比を求めて、実際の動脈瘤Ｍの寸法を算出する。 - 特許庁 - The substrate transfer robot used for receiving and delivering a substrate between processing units has a robot hand to which a substrate support A for supporting the substrate in contact with the back surface of the substrate is fixed, and a robot hand equipped with substrate flexure prevention means which includes a substrate support B for supporting the substrate in contact with the back surface of the substrate.
処理装置間で基板の受け取り、受け渡しを行う基板搬送ロボットであって、基板の裏面に接して基板を支持する基板支持体Ａを固定して備えたロボットハンドと、基板の裏面に接して基板を支持する基板支持体Ｂを有する基板たわみ防止手段を備えたロボットハンドと、を有することを特徴とする基板搬送ロボット。 - 特許庁 - The frequency adjustment method for the surface acoustic wave apparatus including a piezoelectric substrate 1 and an insulation film formed on the piezoelectric substrate 1 to cover interdigital electrodes 2 formed on the piezoelectric substrate applies plasma processing to the insulation film 3 to modify the surface of the insulation film 3 thereby changing the frequency.
圧電基板１と、圧電基板上に形成されたくし型電極２を覆うように圧電基板１上に形成された絶縁膜とを有する弾性表面波装置の周波数調整に際し、絶縁膜３をプラズマ処理し、該絶縁膜３の表面を変質させることにより、周波数を変化させる、弾性表面波装置の周波数調整方法。 - 特許庁 - The coating film surface 13 of the fitted part 2 of the stabilizer bar 1 is subjected to plasma processing by a plasma generating device 12, and then a bonding agent is applied to the coating film surface 13, and the rubber bushing formed through vulcanization molding is fitted on the fitting part 2, compressed in the radial direction and heated, and is fitted fast on the fitting part 2.
プラズマ発生装置１２を用いてスタビライザーバー１の被嵌合部２の塗装膜面１３をプラズマ処理し、その後に、被嵌合部２の塗装膜面１３に接着剤を塗布し、加硫成形したゴムブッシュを被嵌合部２に外嵌し、ゴムブッシュを径方向に圧縮するとともに加熱してゴムブッシュを被嵌合部２に外嵌固定する。 - 特許庁 - The edge processing structure of the skin surface material is composed in a way that a flexing part of each edge section comes close to each other using a first locking member 60 that holds a edge section 43 of the skin surface element 40 flexed towards the internal side and a tubular second locking member 70 that holds the first locking member 60 contained inside.
本発明の表皮材の端末処理構造は、表皮材４０の端末部４３を内面側に屈曲させた状態で保持する第１係止部材６０と、第１係止部材を内部に格納した状態で保持する筒状の第２係止部材７０とを用いて、各端末部の屈曲部分同士を近接させる。 - 特許庁 - The screen is constituted by providing an aperture part near the focus of a lenticular lens on the picture viewing side surface of a 1st component element, providing a light absorbing layer having finite width at the mutual boundary part of the aperture parts, and performing antireflection processing to the picture viewing side surface of a 2nd component element, and then coupling the 1st component element and the 2nd component element.
スクリーンとして、第１の構成要素の画像観視側面レンチキュラーレンズの焦点近傍には開口部を設け、該開口部が相互の境界部分には有限幅の光吸層を設け、また、第２の構成要素の画像観視側面には反射防止処理を施し、前記第１の構成要素と前記第２の構成要素とを結合した構成とする。 - 特許庁 - In this method of manufacturing a semiconductor wafer, when manufacturing a semiconductor wafer having a thin film on one main surface of a substrate, a sacrificial layer is provided on the other surface of the substrate before forming the thin film, and processing with an acid or alkali solution is performed, to substantially dissolve and eliminate the sacrificial layer after forming the thin film.
本発明による半導体ウエハの製造方法は、基板の一方の主面に薄膜を有する半導体ウエハを製造するにあたり、前記薄膜を形成する前に、前記基板の他方の主面に犠牲層を設け、前記薄膜を形成した後に、酸またはアルカリ溶液で処理して前記犠牲層を実質的に溶解・除去することを特徴とする。 - 特許庁 - The dielectric antenna is provided with a compact of a high dielectric elastomer composition and the electrode provided on the surface of the compact, wherein the surface of the compact of the high dielectric elastomer composition and the electrode are mutually joined via a prepreg, and the prepreg is an epoxy resin impregnated glass woven cloth film, and the electrode is the copper foil subjected to plating processing.
高誘電性エラストマー組成物の成形体と、この成形体の表面に設けられる電極とを備えてなり、上記高誘電性エラストマー組成物の成形体の表面と電極とがプリプレグを介して相互に接着されてなり、このプリプレグがエポキシ樹脂含浸ガラス織布フィルムであり、上記電極がめっき処理を施した銅箔である。 - 特許庁 - Further, a 2nd heat treatment in an oxidizing atmosphere and/or a reducing atmosphere after the stage of injecting hydrogen ions into the surface of the SOI layer and the 1st heat treatment is performed to remove a damage layer formed as a result of the film thinning processing, recrystallize the damage layer, and improve surface roughness.
また、前記ＳＯＩ層表面に水素イオンを注入する工程と第１の熱処理の後に、酸化性雰囲気および／または還元性雰囲気で第２の熱処理を施すことをにより薄膜化処理により生じたダメージ層の除去および薄膜化処理により生じたダメージ層の再結晶化および表面ラフネスの改善をすることができる。 - 特許庁 - The information processing system 2 is provided with a road traffic information management system, which manages data about the road surface condition inside an objective area for making them available with precision matching the number of vehicles in a transmission source on the basis of the information about the skid condition among the received vehicle information, and a road surface information producing system 22.
情報処理システム２は、受信された車両情報の内のスリップ状態に関する情報に基づいてその送信元の車両台数に応じた精度で対象地域内の路面状況に関するデータを情報提供可能に管理する道路交通情報管理システム及び路面情報作成システム２２を備える。 - 特許庁 - The radio terminal and the antenna are individually attached to the rear surface side of the lid without performing the processing to the lid by providing each fixing metal fittings with a holding part for individually holding the radio terminal and the antenna on the rear surface side of the lid, an engagement part to be engaged into a part of the lid and a tightening part for hardening an engagement state.
各取付け金具は、無線端末装置及びアンテナを個別に前記蓋の裏面側に押えるための押え部と、前記蓋の一部に掛合する掛合部と、該掛合状態を堅くするための締付け部とを有することにより、前記蓋に加工を施すこと無く無線端末装置及びアンテナを個別に前記蓋の裏面側に取付けできるようにした。 - 特許庁 - In the plasma processing method, a dummy substrate D having, on a surface thereof, organic matter similar to that on the surface of the substrate W is disposed in front of the substrate W with respect to the entering direction of the substrate W, and the dummy substrate D is entered into the plasma generation area P before entering the substrate W into the plasma generation area P.
このプラズマ処理方法では、基板Ｗの表面における有機物と同様の有機物が表面にあるダミー基板Ｄを、基板Ｗの進入方向に対して、基板Ｗの前方に置き、基板Ｗにおけるプラズマ発生領域Ｐ内への進入に先立って、ダミー基板Ｄをプラズマ発生領域Ｐ内に進入させる。 - 特許庁 - The protection film of the semiconductor wafer is formed of a cured film of a curable fluoropolyether elastomer composition, the method for protecting the semiconductor wafer surface includes a step of covering one or both surfaces of the semiconductor wafer, and the method for processing the semiconductor wafer includes a step (a) of coating one surface of the semiconductor wafer with the protection film to obtain a protection film coated semiconductor wafer.
硬化性フルオロポリエーテルエラストマー組成物の硬化皮膜からなる半導体ウエハの保護膜；半導体ウエハの片面または両面を上記保護膜で被覆することを含む半導体ウエハ表面の保護方法；（ａ）半導体ウエハの片面を上記保護膜で被覆して保護膜被覆半導体ウエハを得る工程を有する半導体ウエハの加工方法。 - 特許庁 - To provide a silicon wafer heat treatment method that can suppress the level of oxygen and roughness on the surface of a silicon wafer after RTP (rapid thermal processing), greatly reduce void defects, such as COP (crystal originated particles), made on the surface layer of the wafer, and form high-density oxygen precipitate on the bulk portion of the wafer.
シリコンウェーハの表面の酸素濃度の低下及びＲＴＰ後のシリコンウェーハの表面の粗さの悪化を抑制することができると共に、ウェーハの表層部におけるＣＯＰ等のボイド欠陥を大きく低減し、かつ、ウェーハのバルク部に酸素析出物を高密度に形成することができるシリコンウェーハの熱処理方法を提供する。 - 特許庁 - A thin film pattern 10 is formed by preforming a water-soluble polymer film 4 on the surface of a film 2 to be processed, provided on a substrate 1, then performing ablation processing by irradiating the surface of the polymer film 4 with laser beam 8 through a pattern mask 7, and removing resin decomposed matters 6 and remaining water-soluble polymer film 5 by washing.
基材１上に設けられた被加工膜２の表面に、予め水溶性の高分子膜４を形成し、その高分子膜形成面にパターンマスク７を介してレーザー光８を照射してアブレーション加工を行い、その後水洗を行うことにより、樹脂分解物６と残った水溶性高分子膜５を除去し、薄膜パターン１０を形成する。 - 特許庁 - To provide a micro shape measuring apparatus capable of detecting the displacement of a probe vibration and the displacement of a cantilever caused by irregularities of a surface to be measured with a single displacement sensor, and not requiring high digital processing in separating the information of probe displacement into a component of probe vibration and a component of irregularities of the surface to be measured.
１つの変位センサによって探針振動の変位と、被測定面の凹凸によるカンチレバーの変位との検出が可能な形状測定装置において、探針の変位情報を探針振動の成分と、被測定面の凹凸の成分とに分離するに際し、高度なデジタル処理を必要としない形状測定装置を提供すること。 - 特許庁 - After the bonding surface of the disk substrate is coated with a cation polymerization type UV curing resin composition to a toric form, the surface is not irradiated with the UV rays during the standby time c after the start of the required process step time a set in a UV irradiation process step and thereafter the cation polymerization type UV curing resin composition is irradiated with the UV rays for the required processing time b.
ディスク基板の貼合わせ面にカチオン重合型紫外線硬化性組成物を円環状に塗布した後、紫外線照射工程で設定した工程所要時間ａの開始後、待機時間ｃの間だけ紫外線照射せず、その後にカチオン重合型紫外線硬化性組成物に要処理時間ｂだけ紫外線照射する。 - 特許庁 - To provide a protection film of a semiconductor wafer which has a favorable adhesive property and tackiness to a semiconductor wafer, is excellent in chemical resistance, heat resistance and low moisture permeability, and easily strippable from the wafer surface without leaving a residue after use, and a method for protecting the semiconductor wafer surface and a method for processing the semiconductor wafer using the protection film.
半導体ウエハへの良好な密着性、粘着性を有し、耐薬品性、耐熱性、低透湿性に優れ、かつ、使用後は半導体ウエハ表面に残存せずに容易に剥離できる半導体ウエハの保護膜、ならびに該保護膜を利用する半導体ウエハ表面の保護方法および半導体ウエハの加工方法を提供する。 - 特許庁 - A group III nitride semiconductor 6 is processed by bringing the surface of the group III nitride semiconductor 6 fixed to the substrate stage 4 via a first substrate holder 11 into contact with the region, where the distribution of the amount of surface processing is gently distributed in all the regions of the plasma 10 between the cylindrical rotating electrode 2 and the substrate stage 4.
上記円筒型回転電極２と基板ステージ４との間に生成されたプラズマ１０の全領域のうちの表面加工量の分布がなだらかな領域を、第１基板ホルダー１１を介して基板ステージ４に固定されたIII族窒化物半導体６の表面と接触させることによってIII族窒化物半導体６の表面を加工する。 - 特許庁 - The optical filter arranged at the observation side front surface of a display part 1 has regions relatively high in light transmittance (light transmitting regions 5) and regions relatively low in light transmittance (light absorption regions 4) arranged intermingled, and the observation side surface of the region relatively low in light transmittance is subjected to light diffusion processing (or provided with a member).
表示部１の観察側前面に配置される光学フィルタにおいて、光透過率が相対的に高い領域（光透過領域５）と相対的に低い領域（光吸収領域４）とを混在させて配置するとともに、光透過率が相対的に低い領域の観察側表面に光を拡散させる処理を施す（または部材を設ける）。 - 特許庁 - This method for manufacturing the micro lens includes processes of: forming a resist pattern on a base surface; forming a thermal contraction membrane on the surface of the resist pattern; performing thermal processing at temperature equal to or higher than glass transition temperature of the resist pattern and equal to or hither than contraction starting temperature of the thermal contraction membrane and exfoliating the thermal contraction membrane.
基体表面にレジストパターンを形成する工程と、前記レジストパターン表面に、熱収縮性皮膜を形成する工程と、前記レジストパターンのガラス転移温度以上であってかつ、前記熱収縮性皮膜の収縮開始温度以上の温度で熱処理を行う工程と、前記熱収縮性皮膜を剥離する工程とを含む。 - 特許庁 - When the illuminance of light from a region to be detected in a combustion chamber 1 is lowered due to the adhesion of soot and organic or inorganic dirt to the surface of a lens 4 provided for a tip part 3 of the optical sensor 2, an image processing processor 12 of a control unit 11 energizes an interdigital electrode transducer 6 formed in the surface of the lens 4.
制御装置１１の画像処理用プロセッサ１２は、光センサ２の先端部３に設けられたレンズ４の表面に煤や有機物或いは無機物の汚れが付着することにより燃焼室１における検出対象領域からの光の照度が低下した場合は、レンズ４の表面に形成された櫛歯状電極トランスデューサ６に通電する。 - 特許庁 - The image processor has an input unit to which an image is inputted, an image processing unit which specifies a portion of an image matching the display surface shape of the television displayed on the television based upon information regarding the display surface shape of the television to display the image, and an output unit which outputs the specified image to the television.
画像が入力される入力部と、画像を表示すべきテレビの表示面形状に関する情報に基づいて、前記テレビに表示する、前記テレビの表示面形状に適合した前記画像の部分を特定する画像処理部と、前記特定された画像を前記テレビに出力する出力部とを有する画像処理装置とする。 - 特許庁 - The detector 100 for detecting dryness of a coating film has a detecting section 1 detecting electric conditions of an object consisting of a coating film 4 formed on the surface of a substrate 5 and a data-processing section 2 which accumulates past data and compares the data from the detecting section 1 with the past data to judge whether or not the surface of the coating film 4 has become flat.
塗膜乾燥検出装置１００は、対象物としての基板５の表面に設けられた塗膜４の電気的な状態を検出するための検出部１と、過去データを蓄積し、検出部１から得られるデータを過去データと比較して塗膜４表面が平坦になったかどうかを判断するためのデータ処理部２とを備える。 - 特許庁 - The method of fabricating a GeSbTe thin film includes: a first step of forming a GeSbTe thin film on a surface of a substrate by chemically reacting a first precursor including Ge, a second precursor including Sb, and a third precursor including Te in a reaction chamber; and a second step of processing the surface of the GeSbTe thin film with hydrogen plasma.
反応チャンバ内でＧｅを含む第１前駆体、Ｓｂを含む第２前駆体及びＴｅを含む第３前駆体間の化学反応により基板の表面にＧｅＳｂＴｅ薄膜を形成する第１ステップ及び前記ＧｅＳｂＴｅ薄膜の表面を水素プラズマで表面処理する第２ステップを含むＧｅＳｂＴｅ薄膜の製造方法である。 - 特許庁 - In other words, by applying a required arithmetic processing to the XY coordinate of a mounting stand 82a obtained using laser interferometers 83d and 83e and the Z coordinate of the stylus 11 obtained using a laser interferometer 91b while they are associated with each other by a controller 99, the three-dimensional surface shape of the optical surface of the optical element OE can be measured.
つまり、レーザ干渉計８３ｄ，８３ｅを利用して得た載置台８２ａのＸＹ座標と、レーザ干渉計９１ｂを利用して得た触針１１のＺ座標とを、制御装置９９で対応付けつつ必要な演算処理を行うことにより、光学素子ＯＥの光学面の３次元的な表面形状を測定することができる。 - 特許庁 - A spindle 2, a chuck 8 to which a wafer W supported by the spindle 2 is fixed, a solution nozzle 25 for supplying a wafer processing solution onto the wafer W, a gas supply path 4 for supplying gas to the rear surface of the wafer W, and a heater 30 for heating the gas supplied to the rear surface of the wafer W, are provided.
回転軸２と、回転軸２によって支持されウェーハＷが固定されるチャック８と、ウェーハＷ上にウェーハ処理溶液を供給するための溶液ノズル２５、ウェーハＷの裏面にガスを供給するためのガス供給通路４及びウェーハＷの裏面に供給されるガスを加熱するためのヒータ３０を含めてなる。 - 特許庁 - To provide a tire vulcanizing mold constituted so as to facilitate processing of high precision with respect to a mold or the like, to effectively prevent the early occurrence of the settling phenomenon, damage or the like of a valve disc pressing spring and to form the earth surface of a molded block as an expected flat smooth surface to also effectively prevent the occurrence of unbalanced abrasion to the block.
金型等に対する高精度の加工を容易にするとともに、弁体押圧ばねのへたり、破損等の早期の発生を有効に防止し、さらには、成形されたブロックの接地面を、所期した通りの平坦平滑面として、そのブロックへの偏摩耗の発生等をもまた有効に防止できる、タイヤ加硫金型のガス抜き装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a high ductility and high strength alloyed hot-dip galvanized steel sheet capable of obtaining satisfactory alloyed hot-dip galvanizing properties without being subjected to a complicated process, and having excellent surface properties and brittle resistance to secondary processing by suppressing slab cracking upon continuous casting and surface defects upon hot rolling, and to provide a method for producing the same.
煩雑な工程を経ることなく良好な合金化溶融亜鉛めっき性を得ることができ、連続鋳造時のスラブ割れおよび熱延時の表面欠陥を抑制した、表面性状および耐二次加工脆性に優れる高延性高強度合金化溶融亜鉛めっき鋼板およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁 - The polycarbonate resin laminate for a liquid crystal display cover is a laminate of 0.5-1.2 mm total thickness in which an acrylic resin layer of 50-120 μm thickness is laminated to one surface of a polycarbonate resin layer by coextruding, and a hard coat processing is performed on the acrylic resin layer, and the surface in which the acrylic resin is not coextruded is used for a liquid crystal side.
ポリカーボネート樹脂層の一方の面に、厚さ５０〜１２０μｍのアクリル樹脂層を共押出しによって積層した総厚さが０．５〜１．２ｍｍの積層体であって、アクリル樹脂層上にハードコート処理を施し、アクリル樹脂が共押出しされていない面が液晶側になる様に使用される液晶ディスプレーカバー用ポリカーボネート樹脂積層体。 - 特許庁 - In this ultrasonic signal processing device for emitting an ultrasonic wave to the test subject, and measuring the thickness of the test subject based on a vertical sensor signal detected by a vertical sensor, a vertical sensor parent metal inner surface detection device 2 detects the position of the test subject inner surface based on the vertical sensor signal acquired from the vertical type sensor.
超音波を被検体に発し、垂直型センサにより検出される垂直センサ信号に基づいて被検体の肉厚を計測するための超音波信号処理装置において、垂直センサ用母材内表面検出装置２は、垂直型センサから得られる垂直センサ信号に基づいて被検体内表面の位置を検出する。 - 特許庁 - In a film sticking stage of sticking a film on a display panel 1 with a glass substrate parted in a parting stage for the display panel 1, substrate processing is performed by making a glass waste inducing member 22 abut against an edge portion of a surface parted in the parting stage before a surface of the display panel 1 where the film is to be stuck is cleaned.
ガラス基板を有する表示パネル１の分断工程において分断された表示パネル１にフィルムを貼付するフィルム貼付工程において、前記表示パネル１のフィルムを貼付する面を清掃する前に、前記分断工程において分断された面のエッジ部にガラス屑誘発部材２２を当接させて基板処理を行なう。 - 特許庁 - The screen has configuration such that an opening is provided nearby the focus of a lenticular lens on an image observation side surface of a first component, the opening having a light absorption layer with a finite width at a border part between the openings, antireflection processing is applied to an image observation side surface of a second component, and the first component and second component are coupled to each other.
スクリーンとして、第１の構成要素の画像観視側面のレンチキュラーレンズの焦点近傍には開口部を設け、該開口部が相互の境界部分には有限幅の光吸層を設け、また、第２の構成要素の画像観視側面には反射防止処理を施し、前記第１の構成要素と前記第２の構成要素とを結合した構成とする。 - 特許庁 - At the time, the image processing device 300 generates the three-dimensional medical image, in which the abnormal region invasively manifested inside the inner wall of the intestine is discriminably displayed, while maintaining the clear shade display on the surface of the inner wall of the intestine by using color information corresponding to the voxel data at a position displaced from the surface by a presdetermined value.
このとき、画像処理装置３００は、当該表面から所定値分ずらした位置のボクセルデータに対応する色情報を用いることで、腸管内壁表面の明確な陰影表示を維持しつつ、当該腸管内壁の内部に浸潤的に発現した異状部位を識別可能に表示する３次元医用画像を生成する。 - 特許庁 - The container storage box is characterized in that, it comprises at least one rigid lateral wall surface that prevents random deformation of a deformable container while storing it, with the rigid lateral wall surface regulating the shape of the deformable container into the shape of the place where the container is stored in, when the deformable container is fitted into an image processing device.
易変形性容器のランダムな変形を防ぎ収納保管する剛性側壁面を少なくとも１部有し、該剛性側壁面は、前記易変形性容器が前記画像処理装置に投入された際に、その容器搭載箇所に収納される形に該易変形性容器の形を規制するものであることを特徴とする容器収納箱。 - 特許庁 - To provide a high pressure processor and a high pressure processing method which stably applies a cleaning process having a superior cleaning effect to the surface of a target object while a treating fluid of high pressure carbon dioxide or a mixture of carbon dioxide with chemicals are contacted to the surface of the work.
高圧二酸化炭素あるいは高圧二酸化炭素と薬剤との混合物を処理流体として被処理体の表面に接触させて被処理体の表面に対して洗浄処理を施すに際して、優れた洗浄効果で、しかも安定して洗浄処理を行うことができる高圧処理装置および高圧処理方法を提供する。 - 特許庁 - In the member for the semiconductor processing apparatus, super-fine solid particles mainly consisting of carbon and hydrogen are allowed to enter an undercoat layer in a surface of a base material having the undercoat layer composed of a plating film, a PVD film or the like, and a film consisting of the aggregate of the super-fine solid particles is formed to cover a surface of the undercoat layer.
めっき皮膜やＰＶＤ皮膜等からなるアンダーコート層を有する基材の表面に、そのアンダーコート層中に炭素と水素を主成分とする超微小固体粒子を侵入させると共に、該アンダーコート層材表面にも、これらの超微小固体粒子の集合体からなる皮膜を被覆形成してなる半導体加工装置用部材である。 - 特許庁 - The method and device for three-dimensional image processing derives the data which presents the normal direction of each part of the object's surface based on the image information obtained by photographing the object 10 that is projected by structure light from a projecting means 40 and estimates the surface attribute of the real object using the data which presents the normal direction.
本発明の三次元画像処理方法および三次元画像処理装置では、投影手段４０からの構造光が投影された実物体１０を撮影して得られた画像情報に基づいて、実物体の表面各部の法線方向を示すデータを取得し、この法線方向を示すデータを用いて実物体の表面属性を推定する。 - 特許庁 - A substrate processing apparatus 1 comprises a first process liquid supply unit 6 which supplies a first process liquid onto the surface of a substrate W having a metal layer formed of a transition metal, and a second process liquid supply unit 7 which supplies a second process liquid, containing molecules having the adsorption characteristics for a transition metal, onto the surface of the substrate W.
基板処理装置１は、遷移金属により形成された金属層を有する基板Ｗの表面に第１の処理液を供給する第１の処理液供給装置６と、基板Ｗの表面に遷移金属に対して吸着特性を有する分子を含む第２の処理液を供給する第２の処理液供給装置７とを備える。 - 特許庁
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