「surface processing」を含む例文一覧(7705)

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  • To provide a piezoelectric single crystal element capable of obtaining an electromechanical coupling coefficient of 65% and more which exceeds a value (about 60%) in a conventional plate-like piezoelectric element by applying prescribed processing to an element surface as to a piezoelectric element utilizing a vibration mode of a direction parallel with a polarization direction.
    分極方向に平行な方向の振動モードを利用する圧電素子において、素子面に対し所定の処理を施すことにより、該振動方向の電気機械結合係数を従来の平板状圧電素子における値(約60%)を超える65%以上の値が得られる単結晶素子を提供する。 - 特許庁
  • To provide an automatic generating method which can easily generate external wall panel processing information making it possible to precut a proper number of external wall panels in proper shapes corresponding to a wall even when a wall surface where external wall panels such as siding materials should be fitted is not precisely formed as designed.
    サイディング材等の外壁パネルを取り付けるべき壁面が設計通りに精度良く形成されていない場合であっても、その壁面に応じ、適切な個数の外壁パネルを適切な形状にプレカットできる外壁パネル加工情報を、容易に作成できる外壁パネル加工情報の自動作成方法を提供すること。 - 特許庁
  • Each pixel processing module has a circuit for interpolating the polygon rendering data, and a circuit for generating "s/q" and "t/q, " reading texture data from the corresponding storage module through the secondary memory using the texture address corresponding to the "s/q" and "t/q, " and mapping the texture data on the surface of the graphic element of the display data.
    各ピクセル処理モジュールが、ポリゴンレンダリングデータを補間する回路と、「s/q」および「t/q」を生成してこれらに応じたテクスチャアドレスを用いて2次メモリを介して対応する記憶モジュールからテクスチャデータを読み出し、表示データの図形要素の表面へのテクスチャデータの張り付け処理を行う回路とを有する。 - 特許庁
  • The method for printing the pattern on a processing base comprises the steps of placing a screen formed with a screen print pattern mask on the base, then coating the overall surface of the screen with an ink, thereafter spraying the ink by a high pressure gas from a mesh part of the screen to a printer material, and dropping the ink on the base, thereby printing the pattern on the base.
    スクリーン印刷パターンマスクを形成したスクリーンを加工基板上に載せ、その後スクリーンの全面にインクを塗布し、そしてその後、高圧ガスによりインクを前記スクリーンにおけるメッシュ部分から機材に吹き付け、これによりインクを加工基板上に落として、加工基板上にパターン印刷を行うことを特徴とする。 - 特許庁
  • The RGB multi-value data after correction is transformed into CMYK binary data, and outputted from the data processing part 24 to a process control part 25, together with the CMYK binary data obtained by transforming the RGB multi-value data for forming the toner image into a part not to be corrected, other than the part to be corrected in the surface of the photoreceptive drum 5.
    補正後のRGB多値データは、CMYK2値データに変換され、感光ドラム5の表面における補正対象部分以外の非対象部分にトナー像を形成するためのRGB多値データを変換して得られるCMYK2値データとともに、データ処理部24からプロセス制御部25に出力される。 - 特許庁
  • A cable 24 is inserted from the smaller-diameter hole 12a side followed by making a shrink processing of the cylindrical body 10 to effect pressure contact of the inner circumferential surface of the smaller-diameter hole 12a against the circumference of the cable 24, and the wires at the end 24a of the cable 24 are disaggregated and made divergent inside the larger-diameter hole 12b.
    その小径孔12a側からケーブル24を挿入し、その挿入状態で筒体10を縮径加工することにより、当該筒体10の小径孔12aの内周面を前記ケーブル24の周囲に縮径圧着しかつ前記大径孔12b内でケーブル末端24aの素線をばらして広がらせる。 - 特許庁
  • The temperature states of the clinical thermometer main body 10 and the environment are estimated on the basis of temperatures T2 and T3 measured by the first temperature sensor 2 integrally provided along with the infrared sensor 1 provided to the leading end of a probe and the second temperature sensor 3 arranged on the bottom surface of a probe holder 12 to perform the processing fitted to the respective temperature states.
    プローブ先端の赤外線センサ1と一体に設けられた第1温度センサ2とプローブホルダ12の底面側に配置された第2温度センサ3によって、測定された温度T2及びT3により、体温計本体10及び環境の温度状態を推定し、それぞれの温度状態に適した処理を行う。 - 特許庁
  • This ultrasonic flaw detecting device 10 includes an ultrasonic probe 1 that is arranged on the outer surface side of the pipe P and spirally and relatively moves in the axial direction of the pipe, and a signal processing means 2 for detecting the flaw extending in the axial direction of the pipe based on a flaw detection signal output from the ultrasonic probe.
    超音波探傷装置10は、管Pの外面側に配置され該管の軸方向に螺旋状に相対移動する超音波探触子1と、該超音波探触子から出力される探傷信号に基づいて管の軸方向に延びる欠陥を検出する信号処理手段2とを備える。 - 特許庁
  • A belt tubular body has a tubular heat-resisting resin layer and a release layer formed on the outer surface of the heat-resisting resin layer, and the heat-resisting resin layer and release layer are formed by burning after the heat-resisting resin layer is coated with the release layer in a state wherein the imide processing rate of the heat-resisting resin layer is 20 to 70%.
    管状の耐熱性樹脂層と、耐熱性樹脂層の外表面に形成された離型層とを有するベルト管状体であり、耐熱性樹脂層と離型層とは、耐熱性樹脂層のイミド化率が20〜70%の状態で離型層が塗布された後、焼成されて形成されている。 - 特許庁
  • The manufacturing process of the carbon nanotube-containing structure comprises the step of applying, on at least one surface of the base material, the carbon nanotube-containing composition containing the carbon nanotube (a), the urethane compound (b), and the granular substance (c), and a step of irradiating with an active energy beam and/or leaving at an ordinary temperature or heat processing.
    基材の少なくとも一つの面上に、カーボンナノチューブ(a)と、ウレタン化合物(b)と、粒状物質(c)とを含有するカーボンナノチューブ含有組成物を塗工し、活性エネルギー線を照射及び/または常温で放置、もしくは加熱処理することを特徴とするカーボンナノチューブ含有構造体の製造方法。 - 特許庁
  • The exposure apparatus includes a plasma processing device which icnludes a first supply port capable of supplying a plasma produced from a process gas, and brings the plasma supplied from the first supply port into contact with a predetermined member coming into contact with the exposure liquid to enhance liquid repellency of a surface of the predetermined member to the exposure liquid.
    露光装置は、プロセスガスより生成されたプラズマを供給可能な第1供給口を有し、第1供給口から供給されたプラズマと露光液体と接触する所定部材とを接触させて、所定部材の表面の露光液体に対する撥液性を高めるプラズマ処理装置を備えている。 - 特許庁
  • The manufacturing (processing) method of the nozzle plate for an inkjet head has the process of preparing the nozzle plate which has the ink repellent layer 2 formed on a surface of the side where the ink is ejected in the nozzle plate 1 with the ink ejection ports 1a formed on a substrate, and, for example, the following processes succeeding the process.
    基板にインク吐出口1aを形成してなるノズルプレート1におけるインクが吐出する側の面に、撥インク層2が形成されたノズルプレートを準備する工程と、この工程に続けて、例えば以下の工程を有することを特徴とするインクジェットヘッド用のノズルプレートの製造(加工)方法。 - 特許庁
  • A flat display device includes a plurality of scanning lines Y, a plurality of signal lines X, a plurality of display pixels PX located at cross positions of the scanning lines Y and the signal lines X and including a surface conduction type electron emission element, a video processing circuit 4, a scanning line driver 3, and a signal line driver 2.
    平面表示装置は複数の走査線Yと、複数の信号線Xと、これら走査線Yおよび信号線Xとの交差位置に配置され表面伝導型電子放出素子を含む複数の表示画素PXと、映像処理回路4と、走査線ドライバ3と、信号線ドライバ2とを備える。 - 特許庁
  • This structure is achieved by the finding that a filter having unprecedented processing capacity and high flexibility can be produced by attaching rice chaff ash to the surface of a constitution fiber of a three-dimensional knit structure having interconnected holes and immobilizing a large amount of a functional material in the fine pores of the rice chaff ash.
    本発明は、連続孔を有する三次元立体構造の編物の構成繊維表面に、いね籾殻灰を付着させ、該いね籾殻灰の細孔内に、機能材を大量に固定化することにより、従来にない処理能力があり、柔軟性に富んだフィルターが得られることを見出し、本発明に至ったものである。 - 特許庁
  • The the humidity near a photosensitive drum is measured before the execution of a concentration adjusting process and (i) if the humidity is below a permissible value, a first toner pattern for concentration adjustment is formed on the surface of the photosensitive drum and the developing bias voltage at the time of image formation processing is set based on the toner concentration of the toner pattern.
    濃度調整工程を実行する前に感光ドラム近傍の湿度を測定して、(i) 当該湿度が許容値以下である場合には、感光ドラムの表面に第1の濃度調整用トナーパターンを形成して、当該トナーパターンのトナー濃度に基づいて画像形成処理時の現像バイアス電圧を設定する。 - 特許庁
  • A method for manufacturing a multi-layer circuit wiring board laminating the film having a conductor layer with an adhesive comprises a process for heat-processing the surface of the film in a non-oxidation gas phase atmosphere in preferably residual oxygen concentration of 0.5 % or less, a process for performing plasma treatment, and a process for laminating by the adhesive.
    導体層を有するフィルムを接着剤により積層する多層回路配線板の製造方法において、少なくとも、フィルム表面を好ましくは残留酸素濃度0.5%以下の非酸化性気相雰囲気中で熱処理する工程、プラズマ処理を行う工程、接着剤により積層する工程、を具備する。 - 特許庁
  • The tab terminal for electrolytic capacitor is constituted by welding an aluminum core wire having a depression part to a lead wire end formed by forming a metal layer of tin on the surface of the core wire, and characterized in that whisker growth suppression processing is carried out for weld zone surfaces of the lead wire end and aluminum core wire.
    芯材表面にスズからなる金属層が形成されてなるリード線端部に、圧扁部を有するアルミ芯線が溶接されてなる電解コンデンサ用タブ端子であって、前記リード線部と前記アルミ芯線との溶接部表面に、ウィスカの成長抑制処理が施されていることを特徴とする。 - 特許庁
  • In this reed processing method of a harmonica or a keyboard harmonica, the material of the reed is copper alloy, a laser beam with a wavelength of 600 nm or shorter is radiated while air or inert gas is sprayed to the reed, and a melting section and an evaporating section are formed on the surface of the reed, thereby tuning it into a predetermined musical interval.
    ハーモニカや鍵盤ハーモニカのリード加工方法において、前記リードの材質は、銅合金からなり、前記リードに空気や不活性ガスを吹付けながら、波長が600nm以下のレーザー光線を照射して、前記リードの表面に溶融・蒸発部を形成することで所定の音程となるように調律する。 - 特許庁
  • To provide a semiconductor device that substantially eliminates an adverse effect caused by the adhesion of unnecessary matter, generated upon effecting laser processing through laser irradiation for removing part of low dielectric film wiring lamination structural part, to the insulating film or the like on the upper surface side of a semiconductor substrate, and to provide a method of manufacturing the same.
    低誘電率膜配線積層構造部の一部を除去するためのレーザ照射によるレーザ加工を行なったときに発生する不要物が半導体基板の上面側の絶縁膜等に付着することによる悪影響をほとんど皆無とすることができる半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
  • The substrate processing method is based on cutting a solid plate substrate with a cutter equipped with a blade having a V-shaped circumference and has a process of scribing a substrate in the longitudinal or lateral direction and a process of scribing the substrate on both the upper and the lower surface.
    円周部がV字形形状の刃を備えるカッターにより一枚板形状の基板を分断する基板加工方法において、前記基板の縦方向又は横方向にスクライブする工程と、 前記基板の上面及び下面の両面において前記基板をスクライブする工程と、を有することを特徴とする基板加工方法。 - 特許庁
  • A magnetic sensor is arranged on the object to be electrolysis processed; the magnetic flux density distribution is measured; the surface current density of the electrolysis object is calculated from the flux density distribution; and the film thickness of the object is measured on real time while performing the electrolysis processing.
    電解処理される対象物に磁気センサを配設し、電解処理中に磁束密度分布を計測し、磁束密度分布から電解処理対象物の表面電流密度を算出し、表面電流密度から対象物の膜厚を算出し、電解処理の実施中に対象物の膜厚をリアルタイムに測定する。 - 特許庁
  • A method of applying conversion treatment to the valve action metal material having pores to form a dielectric film on the surface of the material includes at least one time of a first conversion treatment step for executing conversion by executing electrifying processing at current density of 1 mA/cm^2-50 mA/cm^2 in an acid solution.
    微細孔を有する弁作用金属材料を化成処理して表面に誘電体皮膜を形成する方法であって、酸性溶液中、1mA/cm^2以上50mA/cm^2以下の電流密度で通電処理して化成する第1の化成処理工程を少なくとも1回含むことを特徴とする。 - 特許庁
  • The SiCO film for example is formed on a fluorine-added carbon film by subjecting a surface of the fluorine-added carbon film on a semiconductor wafer to a nitriding processing, by exposing the same to a plasma atmosphere obtained by making nitrogen gas plasma and then exposing the semiconductor wafer to plasma obtained by making triethylsilane gas and oxygen gas for example plasma.
    半導体ウエハ上のフッ素添加カーボン膜の表面部を、窒素ガスをプラズマ化して得られるプラズマ雰囲気に曝すことにより窒化処理し、次いで半導体ウエハを例えばトリメチルシランガス及び酸素ガスをプラズマ化して得られるプラズマに曝すことによりフッ素添加カーボン膜の上に例えばSiCO膜を成膜する。 - 特許庁
  • An image read sensor 123 for reading an image on the surface of a recording material or an electrostatic transfer belt 105 is arranged in a required position, and a required algorithm is selected from a plurality of algorithms to process the output of the image read sensor 123, and required setting is performed on the basis of the processing result.
    記録材の表面または静電転写ベルト105の表面の映像を読み取る映像読取りセンサ123を所要個所に配置し、前記映像読取りセンサ123の出力を、複数のアルゴリズムから所要のアルゴリズムを選択して処理し、その処理結果に基づいて、所要の設定を行う。 - 特許庁
  • It is characterized that the lengthy substance W is subjected to a surface processing by relatively moving the lengthy substance W against a grinding material 1 in the state that the granular grinding material 1 stored in a flexible container is interposed and the lengthy substance W having a predetermined length is clamped by predetermined force.
    可撓性の容器に収納された粉粒体状の研削材1を介在させて所要大きさの力で所要長さ長尺物Wを挟持した状態のもとにこの長尺物Wを前記研削材1に対して相対的に移動させて前記長尺物Wを表面加工することを特徴とする。 - 特許庁
  • To provide a composite seal material employed for a water supply apparatus, a food-processing apparatus, a pharmaceutical manufacturing apparatus or the like, which secures high heat resistance and chemical resistance, shows no possibility of aromatization, needs not to make tightening surface pressure so high, and enables repeated uses after fastening is made once.
    水道機器、食品加工装置、医薬品製造装置などに使用される複合シール材であって、耐熱性、耐薬品性に富み、また、着香する虞もなく、さらには、締め付け面圧もそれほど高くしなくて良く、しかも、一度締め付けを行ったのちの繰り返しの使用が可能な複合シール材を提供する。 - 特許庁
  • The apparatus includes an adhesion reinforcing processing section having a nozzle 18 having a slit-like discharge port and discharging an adhesion reinforcing gas containing steam of HMDS from the discharge port toward the main surface of a substrate W; and a plurality of transfer rollers 16 for transferring the substrate W to allow it to pass through immediately below the nozzle 18.
    スリット状の吐出口を有しHMDSの蒸気を含む密着強化用ガスを吐出口から基板Wの主面に向けて吐出するノズル18と、基板Wを搬送してノズル18の直下を通過させる複数の搬送ローラ16とを有する密着強化処理部を備えた。 - 特許庁
  • A flaw kind discriminating method is equipped with a first step (S1) specifying one light detection signal from plural kinds of light detection signals and a second step (S2) performing flaw discriminating processing corresponding to the kind of the specified light detection signal to specify the kind of the flaw on the surface of a disk.
    欠陥種類の判別方法は、複数種類の受光信号から1つの受光信号を特定する第1のステップと、前記特定された受光信号の種類に応じて異なる欠陥判別処理を行うことによりディスク表面上の欠陥種類を特定する第2のステップとを具える。 - 特許庁
  • In addition, in the liquid crystal television 100, solder plating processing is performed on an area with which the LVDS cable of the relay substrate comes in contact and the LVDS cable 80 is held by the relay substrate 30 and a frame 42 attached to the rear surface of the liquid crystal panel 40 in order to reduce the spurious radiation of the LVDS cable 80.
    また、液晶テレビジョン100では、LVDSケーブル80の不要輻射を低減するため、中継基板のLVDSケーブルが接触する領域を半田メッキ処理するとともに、中継基板30と液晶パネル40の背面に取り付けられたフレーム42とでLVDSケーブル80を狭持する。 - 特許庁
  • A nucleation layer is then deposited on the substrate surface in the same processing chamber by alternately pulsing a tungsten-containing compound (130) and a reducing gas (150) selected from the group consisting of silane (SiH_4), disilane (Si_2H_6), dichlorosilane (SiCl_2H_2), derivatives thereof and combinations thereof.
    交互にタングステン含有化合物(130)と、シラン(SiH_4)、ジシラン(Si_2H_6)、ジクロルシラン(SiCl_2H_2)、その誘導体、更に、これらの組合せから成る群から選択された還元性ガス(150)を律動的に送ることにより、その後、核形成層が同一の処理チャンバ内の基板表面上に堆積される。 - 特許庁
  • To provide a method for manufacturing a head substrate, in which the surface layer of an orifice plate is subjected to water repellent processing in order to eliminate or significantly reduce head cleaning and nozzle arrays being formed on the orifice plate are arranged two-dimensionally with high density, effectively using a thin film process while decreasing the number of process steps.
    ヘッドクリーニングの削除又は大巾な削減を可能とするために、オリフィスプレートの表面層を撥水処理するとともに、オリフィスプレートに形成されるノズル列を高密度に2次元的に配列したヘッド基板を薄膜プロセスを用いて効果的に、すなわち工程数を削減して製造できる方法を提供する。 - 特許庁
  • The fine structure is formed on the base plate by putting a mold having fine ruggedness on its surface and the base plate in contact with each other or at a regular interval, filling space between the mold and the base plate with processing solution with which a metallic oxide is deposited, and depositing the metallic oxide on the fine ruggedness of the mold and the base plate.
    表面に微細凹凸を有する型と、基板とを、接触または一定間隔に置き、前記型と前記基板との間に、金属酸化物が析出し得る処理液を満たし、型の微細凹凸上および基板上に金属酸化物を析出させて、基板上に微細構造を形成する。 - 特許庁
  • The lithographic printing plate precursor is dipped in the liquid developer, an image recording layer of the lithographic printing plate precursor is developed, and simultaneously protection processing for forming a surface protective film is performed, and a polarizing rubber roller is used as a development squeeze roller for squeezing the liquid developer adhering to the developed lithographic printing plate precursor.
    平版印刷版原版を現像液に浸漬させ、平版印刷版原版の画像記録層を現像処理するとともに表面保護膜を形成する保護処理を同時に行い、現像処理された平版印刷版原版に付着した現像液を絞る現像絞りローラとして極性ゴムローラを用いる。 - 特許庁
  • To provide a method for grinding an aspherical face which can be used for processing the high accurate aspherical face efficiently by solving the problem that the surface accuracy is low due to a pit or the like generated in an aspherical face grinding process, and the problem that the efficiency is bad due to the length of grinding time in a partial correction grinding process for an aspherical face grinding.
    非球面研磨における、非球面研削工程で生じるピット等による表面精度の低いという問題や、部分修正研磨工程の研磨時間が長く効率が悪いという問題を解決し、高精度な非球面を効率よく加工する非球面研磨方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • To provide a heat mode-type original plate for a positive type lithographic printing plate, which is suitable for a heat-mode plate making method using laser exposure, which can be made by being directly mounted on a printing press, without processing after a short-time scanning exposure, which is excellent in printing resistance, and which reduces printing scums on a printed surface.
    レーザー露光を用いるヒートモードの製版方式に適した、短時間での走査露光ののちに現像処理を行うことなく直接に印刷機に装着して製版することが可能であり、耐刷性にすぐれ、印刷面上の印刷汚れも少ないヒートモード型のポジ型平版印刷版用原板を提供する。 - 特許庁
  • To provide a heat treatment apparatus suppressing slip-displacement failures of a substrate occurring during heat treatment, the occurrence of flaws on the back surface of the substrate, and manufacturing a high quality of semiconductor device (a device) and a substrate, and to provide a manufacturing method of the semiconductor device, a manufacturing method of the substrate and a substrate processing method.
    本発明の目的は、熱処理中に発生する基板のスリップ転位欠陥、基板裏面傷の発生を抑制し、高品質な半導体装置(デバイス)や基板を製造することができる熱処理装置、半導体装置の製造方法、基板の製造方法及び基板処理方法を提供することを目的としている。 - 特許庁
  • The ceiling joist 20 is obtained by folding and processing a steel strip plate 21 into a nearly square barrel shape, in which end parts along the longitudinal direction of the steel strip plate 21 in the upper surface 22 are caulked and joined to each other and horizontal groove parts 24 and 24 for locking one row joist support are formed in both sides 23 and 23, respectively.
    天井野縁20は、帯状の鋼板21を略角筒状に折り曲げ加工してなるものであって、その上面22において鋼板21の長手方向に沿った端部同士をカシメ接合するとともに、両側面23、23において1列の野縁支持具係止用の横溝部24、24を夫々形成している。 - 特許庁
  • The method comprises a step of processing irregularities and a movable part of a semiconductor device with a liquid, substituting the liquid with pure water, substituting the pure water with a solvent, involving a sublimable substance in the solvent, evaporating the solvent to deposit the sublimable substance on the semiconductor device surface, and sublimating the sublimable substance to remove it.
    半導体装置の凹凸部や可動部を液体処理し、この液体を純水で置換した後、純水を溶剤で置換し、この溶剤中に昇華性物質を含ませ、溶剤を蒸発して半導体装置の表面に昇華性物質を析出せしめ、この昇華性物質を昇華により除去することからなる。 - 特許庁
  • Then, the element-forming surface of the silicon substrate 101 in which the opening 115 is formed is subjected to plasma processing and deposits 113, attached to the sidewall of the opening 115 in the process of forming the opening 115, are removed, the silicon substrate 101 is selectively removed to form a concave portion by using the SiN film 129 as a mask.
    そして、開口部115が形成されたシリコン基板101の素子形成面をプラズマに曝し、開口部115を形成する工程で開口部115の側壁に付着した堆積物113を除去した後、SiN膜129をマスクとしてシリコン基板101を選択的に除去して凹部を形成する。 - 特許庁
  • A read image having a size of, for example, 64×64 dots (about 4 mm×about 4 mm), obtained by reading a surface of a collating paper by a sensor is fetched (150), data within a comparison area having an origin position as one corner is extracted from registration image data (152 and 154), and comparison processing thereof is performed (156).
    センサにより、照合用紙の表面を読み取ることにより得られた、例えば64×64ドット(約4mm×約4mm)のサイズの読取画像を取り込み(150)、原点位置を一隅とする比較領域内のデータを比較データとして登録画像データから抽出し(152,154)、比較処理を行う(156)。 - 特許庁
  • After a resist mask for the injection of impurities into the lower electrode 38 is peeled by plasma ashing, dilute hydrofluoric acid processing for removing a damage layer formed in the surface of a 1st insulating film 41 is carried out and then a gate insulating film part 43 in the 1st insulating film 41 has no damage, so the thin film transistor 23 has no characteristic deterioration.
    下部電極38への不純物の注入の際のレジストマスクをプラズマアッシングして剥離した後に、第1の絶縁膜41の表面に入ったダメージ層を除去する希フッ酸処理をすることにより、第1の絶縁膜41中のゲート絶縁膜部43にダメージがないため薄膜トランジスタ23の特性劣化は発生しない。 - 特許庁
  • The fluid jet apparatus is equipped with the head which ejects a fluid in the form of droplets towards a predetermined processing surface position, an ejection adjusting part for adjusting at least one of a weight per droplet of the fluid ejected from the head and an emission speed, and a fluid collecting part which collects the fluid ejected from the head.
    流体噴射装置は、所定の処理面位置に向けて、流体を滴状に吐出するヘッドと、ヘッドから吐出される流体の一滴あたりの重量と射出速度とのうち、少なくとも一方を調整するための吐出調整部と、ヘッドから吐出された流体を回収する流体回収部と、を備えている。 - 特許庁
  • The inspection apparatus is provided with an inspection unit ST1 for supplying a first liquid LQ to the image surface side of the projection optical system PL to perform inspection, and a processing unit ST 2 for causing a second liquid LQ' to contact a liquid of the projection optical system PL after subjected to the inspection which contacts the first liquid LQ.
    検査装置は、投影光学系PLの像面側に第1液体LQを供給して検査を行う検査部ST1と、検査後の投影光学系PLのうち第1液体LQに接触した液体接触面に第2液体LQ’を接触させる処理部ST2とを備えている。 - 特許庁
  • To provide a face image processing device creating a three-dimensional face image of a target person in which, based on a two-dimensional face image of the target person, feature parts are satisfactorily placed as a real face of the target person by using a three-dimensional shape model indicating a three-dimensional shape of a face without using a special surface measuring device.
    特殊な表面計測装置を用いることなく、顔の3次元形状を表す3次元形状モデルを用いて、対象者の2次元の顔画像から特徴的な部位の位置をその対象者の顔により良好に一致させた3次元顔画像を作成する顔画像処理装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a lubricating oil composition for a plastic processing such as a press-forming, bend-forming, draw-forming, stroke-forming, not containing a chlorine compound and gentle for the earth, and exhibiting a good lubricating property for, a steel plate, a stainless steel plate, a surface-treated steel plate, an aluminum alloy plate.
    塩素化合物を含有しない地球環境に優しい潤滑油組成物であって、鋼板、ステンレス鋼板、表面処理鋼板、アルミ合金板などに、プレス成形、曲げ成形、引き抜き成形、しごき成形などの塑性加工を施す際に、良好な潤滑性を発揮する塑性加工用潤滑油組成物の提供。 - 特許庁
  • To provide a resist material for manufacturing a substrate having a nanoscale rugged structure by patterning a resin composition applied to the surface of a substrate to be processed by a nanoimprinting method to form a resin layer having a rugged structure and then processing the substrate by a dry etching method using the resin layer as a resist.
    被加工基材上に塗布した樹脂組成物をナノインプリント法にてパターニングを行い、凹凸構造を有する樹脂層を形成し、この樹脂層をレジストとしてドライエッチング法にて加工することによりナノスケールの凹凸構造を有する基材を製造するためのレジスト材料を提供すること。 - 特許庁
  • The photosensitive material treating apparatus has the coating means for the processing liquid and the support member for a photosensitive material arranged opposite apart from the coating means, wherein a surface of the support member which faces the coating means is formed of a previously heat-treated resin member.
    処理液の塗布手段と該塗布手段に対向する位置に離間して配置される感光材料の支持部材を有する感光材料処理装置において、前記支持部材の前記塗布手段に対向する面が予め加熱処理された樹脂部材で構成されたことを特徴とする感光材料処理装置。 - 特許庁
  • The etching method includes: a step of forming a solid layer, such as a metal fluoride layer 3, at least as one portion of an etching mask on the surface of substrates 1, 2; a step of processing the solid layer by a resist composition, or the like; and a step of etching the substrates with the solid layer as a mask.
    基体(1,2)の表面に、エッチングマスクの少なくとも一部として、金属フッ化物層3等の固体層を形成する工程と、前記固体層をレジスト組成物等で処理する工程と、前記固体層をマスクとして、前記基体をエッチングする工程とを有することを特徴とするエッチング方法。 - 特許庁
  • To provide a surface protective film having no unconfirmable fine stain let alone no visibly confirmable residual matter relating to the stain to the body to be bonded after removing the protective film, excellent in secondary processing such as printing, and excellent in blocking resistance with no blocking when unwinding again after winding around in a role shape.
    保護フィルム剥離後の被着体表面への汚染に関し、目視確認できる残留物はもちろん、確認不可能な微量な汚染も無く、印刷等の二次加工適性が良好で、かつロール状に巻き取った後、再び巻き戻しをする際、ブロッキングがなく耐ブロッキング性に優れた表面保護フィルムを提供する。 - 特許庁
  • To improve absorption of noise based upon the engine sound of an automobile, operation sound of suspensions during a road-surface travel, squeak noise of the whole automobile body, etc., by an easy method without using a processing agent which tends to emit harmful gas such as formaldehyde in consideration of demands for improvement of confortableness in the cabin of the automobile.
    自動車の室内に於ける居住性向上の要求に鑑み、ホルムアルデヒドなど有害なガスを発生させやすい加工剤を用いることなく、簡便な方法で、自動車のエンジン音、路面走行時のサスペンションの作動音、車体全体の軋み音などに基づく騒音の吸音性を向上させることである。 - 特許庁
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