「surface roughness」を含む例文一覧(4887)
＜前へ 1 2 .... 6 7 8 9 10 11 12 13 14 .... 97 98 次へ＞- The axial surface roughness in the outer peripheral face 5a of the roller 5 is set to be larger than the circumferential surface roughness in the outer peripheral face 5a of the roller 5 and be 1.0 or larger and 2.0 or smaller at the ten point average roughness (Rz).
ローラ５の外周面５ａにおける軸方向での表面粗さを、ローラ５の外周面５ａにおける円周方向での表面粗さよりも大きくかつ十点平均粗さ（Ｒｚ）で１．０以上、２．０以下に設定している。 - 特許庁 - It is preferable that surface roughness (Rz) of the conveyance belt is within a predetermined scope.
また、搬送ベルトの表面粗さ（Ｒｚ）が所定の範囲内であることが好ましい。 - 特許庁 - To grind an optical element with high grinding efficiency for giving excellent surface roughness.
高い研削能率で、良好な表面粗さとなるように光学素子を研削する。 - 特許庁 - FERRITIC STAINLESS STEEL SHEET HARDLY CAUSING SURFACE ROUGHNESS AT BENDING, AND ITS MANUFACTURING METHOD
曲げ加工時に肌荒れの発生し難いフェライト系ステンレス鋼板およびその製造方法 - 特許庁 - The developer image carrier 21 has roughness forming particles 104 on the surface thereof.
その現像剤像担持体２１は、表面に、粗さ形成粒子１０４を有している。 - 特許庁 - The surface roughness of the front layer parts of the raceway surfaces 3a1, 3b1 is not less than HRC57.
軌道面３ａ１、３ｂ１の表層部の表面硬度はＨＲＣ５７以上である。 - 特許庁 - Equation (1), the surface roughness (μm) of the forced feeding crimp imparting rollers/the fineness of the single filament (dtex)≤2.5.
押込捲縮付与ローラの表面粗度（μｍ）／単糸繊度（ｄｔｅｘ）≦２．５ - 特許庁 - To enable manufacturing of a press formed article with high precision and extremely minute surface roughness.
高精度かつ表面粗さの極めて小さいプレス成形品の作製を可能とする。 - 特許庁 - Ra value regarding surface roughness is desirably 0.1 to 0.5 μm.
表面粗さについてのＲａ値が０．１μｍ以上、０．５μｍ以下であるのが望ましい。 - 特許庁 - A range of a maximum surface roughness Rz×D is >0.1μm and ≤1.0μm.
また、最大表面粗さＲｚ・Ｄの範囲を０．１μｍ＜Ｒｚ・Ｄ≦１．０μｍとする。 - 特許庁 - Further, it is desirable to make the surface roughness 2-12 μm by Ra or 2-6 μm by Ra.
さらに、Ｒａで２〜１２μｍ、またはＲａで２〜６μｍとするのが望ましい。 - 特許庁 - Preferably, the end surfaces 10c have a surface roughness larger than the outer circumference 20a.
好ましくは、端面１０ｃの表面粗さを外周面２０ａよりも大きくする。 - 特許庁 - The roughness is formed, for example, by sandblasting of the surface of a protection layer 4.
凹凸は例えば保護層４表面にサンドブラスト方法などによって形成される。 - 特許庁 - A surface roughness Ra of the sliding face of the pin member 44 is 0.10 μm or less.
前記ピン部材４４の摺動面の表面粗さＲａは、０．１０μｍ以下である。 - 特許庁 - The surface roughness of the inner diameter face 9a of the counter bore portion 9 is 3.2 Ra or less.
前記カウンタボア部９の内径面９ａの表面粗さを３．２Ｒａ以下とした。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a laminated wafer which can effectively improve surface roughness.
表面ラフネスを効果的に改善できる貼り合わせウェーハの製造方法を提案する。 - 特許庁 - The ratio of the diameter of a discharge wire to the surface roughness of the discharge wire is set to ≥50.
放電ワイヤの直径と放電ワイヤの表面粗さの比を５０以上とする。 - 特許庁 - To prevent generation of wrinkles even when winding a material of small surface roughness.
表面粗さの小さい材料を巻き取る際にも、しわを発生させないようにする。 - 特許庁 - In this way, there is increase in machining speed and decrease in surface roughness when low powered.
これにより、低出力時における加工速度や面粗度の改善を図ることができる。 - 特許庁 - Thus a mixed layer is hardly formed on the interface and the roughness of the surface is prevented when the clear paint is applied.
クリヤ塗装時に界面に混層が形成されにくく、表面の荒れが防止される。 - 特許庁 - Preferably, the surface roughness is not more than 0.4 μm, and more preferably, it is not more than 0.2 μm.
好ましくは、表面粗さは０．４μｍ以下、さらに好ましくは、０．２μｍ以下である。 - 特許庁 - Further, a roughness Ra of a surface of a cutting chips discharge groove is set to 0.01-0.11 μm.
併せて、切屑排出溝表面の粗度Ｒａを０．０１〜０．１１μｍにする。 - 特許庁 - LOW CARBON COMPOSITE FREE-CUTTING STEEL PRODUCT HAVING EXCELLENT ROUGHNESS OF FINISHED SURFACE AND METHOD FOR PRODUCTION THEREOF
仕上面粗さに優れた低炭素複合快削鋼材およびその製造方法 - 特許庁 - To form a gate insulation film having uniform film thickness in which local surface roughness is small.
均一な膜厚でかつ局所的な表面粗さの小さいゲート絶縁膜を形成する。 - 特許庁 - Consequently, S/N of the outputted signal is improved and the blooming and the surface roughness is prevented.
したがって、出力信号のＳ／Ｎが改善され、ブルーミングおよび面ザラが防止される。 - 特許庁 - To obtain a substrate which has uniform surface roughness and no optical spot while keeping polishing efficiency.
研磨効率を維持したまま、均一な表面粗さと光学的な斑のない基板を得る - 特許庁 - The surface roughness Ra of the film 2 (outermost layer 4) exceeds 0.5 μm.
そして、この被膜２（最外層４）の表面粗さＲａは、０．５μｍ超過とされている。 - 特許庁 - The transistor is manufactured through a step of removing surface roughness smaller than a mean free path.
平均自由行程よりも小さい表面粗さを取り除く工程を経て製造する。 - 特許庁 - The surface roughness Ra of the electrolytic oxide ceramic coating is set to be ≤0.7 μm.
電解酸化セラミックス被膜の表面粗さは、Ｒａ＝０．７μｍ以下に設定されている。 - 特許庁 - To prevent defective shapes such as abrasion and surface roughness that occur on a semiconductor substrate.
半導体基板に発生する削れ及び面あれ等の形状不良を防止する。 - 特許庁 - Further preferably, the surface roughness Ra of the solder layer 8 is 0.10 μm or less.
さらに好ましくは、はんだ層８の表面粗さＲａが０．１０μｍ以下である。 - 特許庁 - The surface roughness Ra of the peeling prevention treatment section 20 is 10 to 60 μm.
剥離防止処理部２０は、表面粗さＲａが、１０μｍ以上６０μｍ以下である。 - 特許庁 - To enhance strength of a binder for providing a favorable grinding surface roughness by high grinding ability.
結合剤の強度を高め、高い研削能力で良好な研削面粗さを得る。 - 特許庁 - The margin part 19a formed on the outer peripheral part of the backing is also given the same surface roughness.
裏打ちの外周部に形成されたマージン部１９ａも同じ面粗さにしてある。 - 特許庁 - The surface roughness of the magnetic recording medium is specified to be in the range of 0.1≤Ra≤2.0 nm.
また、磁気記録媒体の表面粗さを、０．１ｎｍ≦Ｒａ≦２．０ｎｍの範囲内とする。 - 特許庁 - Therein, the plasma resistant member desirably has a surface roughness Ra of ≤5 μm.
ここで、耐プラズマ性部材は、表面粗さＲａが５μｍ以下であることが望ましい。 - 特許庁 - Preferably, the metallic surface has an average roughness SRa not larger than 0.4 μm in the center.
金属表面の中心面平均粗さＳＲａが０．４μｍ以下であると好ましい。 - 特許庁 - The surface roughness Rz of the end face of the optical fiber 3 is desirably 0.04 μm or more.
光ファイバの端面の面粗さＲｚは、好ましくは０．０４μｍ以上である。 - 特許庁 - The surface roughness of the soft magnetic backing layer is preferably 0.35 nm and less.
また、前記軟磁性裏打ち層の表面粗さは０．３５ｎｍ以下であることが好ましい。 - 特許庁 - To provide a cutting device obtaining excellent surface roughness in a short period of time.
良好な表面粗さを短時間で得ることができる切削加工装置を提供する。 - 特許庁 - To inspect a joint part having dispersion in surface roughness or jointing shape, with accuracy.
表面粗さや接合形状にばらつきがある接合部を精度よく検査可能にする。 - 特許庁 - The surface roughness of unfinished part for dry-honing is preferred to be 0.3 μmRa or less.
ドライホーニングによる非仕上加工部の表面粗さは０．３μｍＲａ以下が望ましい。 - 特許庁 - To provide a wire tool having a high degree of processing efficiency with an excellent plane roughness of a machined surface.
加工効率が高く、加工面の面粗度も良好なワイヤ工具を提供する。 - 特許庁 - In this way, the hot rolled stainless steel strip having a surface roughness Ra of 1.0 to 2.0 μm and a PPI of 180 to 300 is obtained.
これにより、表面粗さRaが1.0〜2.0μm、PPIが180〜300のステンレス熱延鋼帯を得る。 - 特許庁 - In the case of using a wire cleaning means, the ratio thereof to the surface roughness is set to ≥40.
また、ワイヤ清掃手段を用いる場合には、表面粗さの比を４０以上とする。 - 特許庁 - The cold working is desirably performed by oil lubrication since deterioration in surface roughness does not occur.
冷間加工を油潤滑により行えば、表面粗さの劣化がなく、望ましい。 - 特許庁 - Surface roughness Ra of the disk substrate 1 is lower than the film thickness of the spacer layer 5b.
前記ディスク基板１の表面粗さRaは、前記スペーサー層５ｂの膜厚以下である。 - 特許庁 - The surface roughness Ra of the galvanized steel sheet satisfies 0.7 μm≤Ra≤1.7 μm.
前記亜鉛系めっき鋼板の表面粗度Ｒａは０．７μｍ≦Ｒａ≦１．７μｍである。 - 特許庁 - In this case, the sphericity and surface roughness of this ball 10 are made excellent.
このとき、このボール１０の真球度及び表面粗度が良好になるようにする。 - 特許庁 - ELECTROCHEMICAL MACHINING PROCESS FOR FORMING SURFACE ROUGHNESS ELEMENT ON GAS TURBINE SHROUD
ガスタービンシュラウド上に表面凹凸要素を形成するための電気化学的研磨方法 - 特許庁
- 特許庁
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