A first surface is coated with a metallic surface of first roughness, a second surface is coated with a metallic surface of second roughness, and the second roughness is adapted to be larger than the first roughness. 冒頭に述べた方式の方法において、第1の面の金属製の表面を第1の粗さで被着し、第2の面の表面を第2の粗さで被着し、第2の粗さが第1の粗さよりも大きくするようにした。 - 特許庁
EXTRACTION METHOD OF ROUGHNESS CURVE, AND EXTRACTION METHOD OF THREE-DIMENSIONAL SURFACEROUGHNESS SHAPE 粗さ曲線の抽出方法および3次元表面粗さ形状の抽出方法 - 特許庁
The surfaceroughness of the coating film 13 is specified to ≤10 μm ten-point average roughness (Rz). また,被膜13の表面粗度は,十点平均粗さ(Rz)10μm以下である。 - 特許庁
The light incident surface 3 has both end high roughness parts 15 improving the dark parts by making surfaceroughness high to diffuse light and a central low roughness part 16 having surfaceroughness lower than that of the both end high roughness parts 15. 入光面3は、表面粗さを大として光を拡散させることにより暗部を改善する両端高粗度部15と、表面粗さが前記両面高粗度部15より小である中央低粗度部16とを有する。 - 特許庁
When the surfaceroughness of the mirror surface is represented by a center-line average roughness, the center-line average roughness is less than 1.6 μm. また、前記鏡面の表面粗さを中心線平均粗さで表したとき、中心線平均粗さが1.6μm未満となるようにしている。 - 特許庁
In the release sheet 14, the surfaceroughness of the surface closely adhered to the adhesive layer 12 is 0.1 μm or less in arithmetic average roughness, and the surfaceroughness is transferred to the surface of the adhesive layer 12. 剥離シート14は、粘着層12に密着する面の表面粗さが算術平均粗さで0.1μm以下であり、この表面粗さが粘着層12の表面に転写される。 - 特許庁
The surfaceroughness on the flat surface 22 is nearly equal to that on the other outer surfaces. 平坦面22の表面粗さは他の外側面と同程度である。 - 特許庁
The texture of the outer surface has a specified surfaceroughness and/or pattern. 外面のテクスチャは、特定の表面粗さおよび/またはパターンを含む。 - 特許庁
LOW-CARBON, SULFUR-CONTAINING FREE-CUTTING STEEL HAVING EXCELLENT SURFACEROUGHNESS AND HAVING REDUCED SURFACE FLAW 面粗さに優れた表面疵の少ない低炭素硫黄快削鋼 - 特許庁
The surfaceroughness of the surface 10 is larger than the prescribed wavelength. 表面10は、所定の波長よりも大きな表面粗さである。 - 特許庁
IMPROVEMENT OF PRESSURE SENSITIVITY OF GAS GAUGE USING SURFACEROUGHNESS OF NOZZLE SURFACE ノズル面の表面粗さを使用したガスゲージの圧力感度の向上 - 特許庁
Regarding the surfaceroughness of the developing sleeve 68, the surfaceroughness Ra of the part except the parts where the grooves 74 are formed is ≤0.3 μm. 現像スリーブ68は、溝74が形成されている以外の表面粗さがRa0.3μm以下である。 - 特許庁
The center line surfaceroughness Ra of this film was 5nm.
このフィルムの中心線表面粗さRaは5nmであった。 - 特許庁
Here, the surfaceroughness of the surface of the intermediate roller 405 is ≥3 μm in ten-point mean roughness Rz. ここで、中間ローラ405の表面の表面粗さを、十点平均粗さRzで3μm以上とする。 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING STEEL WIRE OF EXCELLENT SURFACEROUGHNESS 表面粗度の良好な鋼線材の製造方法 - 特許庁
To provide an evaluation method of rear surfaceroughness of a semiconductor wafer for evaluating rear surfaceroughness easily. 半導体ウェーハの裏面粗さ評価方法に関し、簡便に裏面の粗さを評価することができるようにする。 - 特許庁
To improve work surfaceroughness and work tooth profile precision. ワークの面粗度及びワーク歯形精度を向上する。 - 特許庁
ALKALI ETCHANT FOR CONTROLLING SURFACEROUGHNESS OF SEMICONDUCTOR WAFER 半導体ウェーハの表面粗さ制御用アルカリエッチャント - 特許庁
In the substrate, the surfaceroughness Ra is 0.1-0.8 micrometers. 基板は、表面粗さRaが0.1〜0.8μmである。 - 特許庁
to make the surface of something have edges or points of roughness (物の表面に)かどを作って滑らかでなくする - EDR日英対訳辞書
METHOD FOR ADJUSTING SURFACEROUGHNESS OF STEEL STRIP AND STEEL STRIP 鋼帯の表面粗さの調整方法及び鋼帯 - 特許庁
To obtain uniform machined surfaceroughness in finish-machining. 仕上げ加工時において、均一な加工面粗度を得る。 - 特許庁
To provide a roughness-measuring method and a roughness-measuring device capable of efficiently obtaining the roughness of a machining surface, in a work for forming the machining surface different in roughness. 本発明は、粗さの異なる加工面が形成されたワークにおいて、加工面の粗さを効率よく得ることができる粗さ測定方法及び粗さ測定装置を提供する。 - 特許庁
The substrate for the optical display device has surfaceroughness with ≤0.9 nm Ra (arithmetic mean roughness) and ≤1.5 nm Rms (root- mean-square roughness). 本発明の光学デバイス用基板は、Raが0.9nm以下でかつRmsが1.5nm以下の表面粗さを有する。 - 特許庁
To analyze and digitize micro roughness and macro roughness from roughness data of a road surface by means of a simple computing means. 路面の凹凸データから、簡便な演算手段を用いてミクロ粗さとマクロ粗さとを分析して数値化することができる。 - 特許庁
A lower surface 23a of the eaves section 23 is finished at a level of a surface with a mirror surface or designated surfaceroughness. 庇部23の下面23aは、鏡面または指定の表面粗さの面の仕上げとされる。 - 特許庁
The maximum surfaceroughness of the top surface of the contact plug 6 is 0.2 nm or less. コンタクトプラグ6の上面の最大表面粗さは、0.2nm以下である。 - 特許庁
The surfaceroughness Rz of the inner peripheral surface of the loading roller 11 is 4.0 to 10.0μm, and the surfaceroughness Rz of the outer peripheral surface is 3.0 to 8.0μm. ローディングローラ11の内周面の表面粗さRzは4.0〜10.0μmであり、外周面の表面粗さRzは3.0〜8.0μmである。 - 特許庁
Surfaceroughness of the side surface 7 of the second raceway plate 2 is made rougher than surfaces roughness of the side surface 6 of the first raceway plate 1. 上記第二軌道板2の側面7の表面粗さを、上記第一軌道板1の側面6の表面粗さよりも粗くする。 - 特許庁
Surfaceroughness of raceway surfaces is from 0.1 μm or more to 2.0 μm or less at average roughness (Ra). 軌道面の表面粗さを平均粗さ(Ra)で0.1μm以上2.0μm以下とする。 - 特許庁
The surfaceroughness of the head 4 is enhanced by the fibers. 繊維により、ヘッド4の表面粗度が高められている。 - 特許庁
The recording surface has an average roughness of less than about 2.5 nm. 記録表面の平均粗さは約2.5nm未満である。 - 特許庁
The surfaceroughness required for an antenna substrate of microwaves is satisfied because the surfaceroughness of the sintered compact is small. また焼結体の表面粗さが小さいので、マイクロ波のアンテナ基板などに要求される表面粗さを満足する。 - 特許庁
Mean surfaceroughness is appropriately from 5 to 50 μm. 表面粗さは平均粗さ5〜50μmが適当である。 - 特許庁
The cartridge is formed, in such a way that the surfaceroughness of a predetermined region is larger than a predetermined surfaceroughness. そのカートリッジは、所定領域の表面粗さが所定の表面粗さより大きくなるように、形成されている。 - 特許庁
In the insulating film 2, a surfaceroughness Ra and another surfaceroughness Rz satisfy the inequalities: Ra<0.20 μm and Rz<2.0 μm. 絶縁膜2の表面粗さRaおよびRzは、Ra<0.20μmおよびRz<2.0μmの関係を満たす。 - 特許庁
As a result, the surfaceroughness of the wafer can be improved. その結果、ウェーハ表面粗さを改善することができる。 - 特許庁
MANUFACTURE OF CONCRETE-PAVING PLATE HAVING ROUGHNESS ON SURFACE 表面に粗さを施したコンクリート舗装板の製造方法 - 特許庁
The height difference of the surfaceroughness is in the range of 0.3-1.5 μm. 表面粗さの高低差は0.3〜1.5μmの範囲内にある。 - 特許庁
To further reduce the surfaceroughness of a semiconductor substrate. 半導体基板の表面粗さをより一層低減する。 - 特許庁
having a surface free from roughness or bumps or ridges or irregularities
粗さ、隆起、うねまたは不連続性のない表面を持つ - 日本語WordNet
METHOD FOR FORMING FERRITIC STAINLESS STEEL SHEET HAVING LITTLE SURFACEROUGHNESS 肌荒れの少ないフェライト系ステンレス鋼板の成形方法 - 特許庁
The maximum height Ry of the surfaceroughness is ≤0.5 μm. 表面粗さの最大高さRyが0.5μm以下である。 - 特許庁
To analyze behavior of a particle coming into contact with a member while taking a geometric shape of set surfaceroughness into consideration by setting the surfaceroughness when a surface of the member has the surfaceroughness. 部材の表面に表面粗さがある場合について、表面粗さの設定を行い、設定した表面粗さの幾何形状を考慮した部材と接触する粒子の挙動を解析する。 - 特許庁
To improve a machined surfaceroughness by preventing the machined surfaceroughness from becoming rougher than an ideal surfaceroughness due to an error at a connecting point position of an arced cutting edge ridge and a straight cutting edge ridge. 円弧状切れ刃稜と直線状切れ刃稜の接続点位置の誤差により、仕上面粗度が理想面粗さより粗くなるのを防ぎ、同面粗度を向上させる。 - 特許庁
Then, processing for improving surfaceroughness Ra (reducing surfaceroughness Ra) is applied only to a surface-roughness improving processing region which is part of the conical orbit face 153. そして、円すい状軌道面153の一部分である面粗度向上加工領域のみに対して面粗度Raを向上する(面粗度Raを小さくする)加工を施している。 - 特許庁
Additionally, the pulley sheave surfaces 1C, 1D, 2C, 2D are formed by continuously changing surfaceroughness from the inner-diameter end having small surfaceroughness to the outer-diameter end having large surfaceroughness. また、プーリシーブ面1C、1D、2C、2Dは、表面粗さが小さい内径端から表面粗さが大きい外径端に向かって連続的に表面粗さを変化させて形成した。 - 特許庁
The surfaceroughness of the print receptive layer 4 is 0.10-0.50 μm in a mean roughness of a center line and 1.0-5.0 μm in a maximum roughness. 印刷受容層4の表面の粗さは中心線平均粗さ0.10〜0.50μm、最大粗さ1.0〜5.0μmにされている。 - 特許庁
The surface relative roughness on the metal surface is in the range of Ra=5 to 50 μm. 金属表面の表面粗度をRa=5〜50μmの範囲内とする。 - 特許庁
Surfaceroughness of the curved surface 4 is taken as 0.1 μm or less in terms of a maximum height (Ry). 曲面4の面荒さは、最大高さ(Ry)で0.1μm以下とする。 - 特許庁