「surface roughness」を含む例文一覧(4887)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 97 98 次へ＞- The surface after etching with the solution is so polished that the surface roughness is 1 nm in RMS.
水溶液でのエッチング後の表面粗さをＲＭＳで１ｎｍに抑える研磨を行う。 - 特許庁 - In the surface roughness control process, fine dimple-shaped unevennesses are imparted to the plated surface.
前記粗さ調整工程は、めっき表面にディンプル状の微細凹凸を付与する。 - 特許庁 - The thickness of the surface layer of the belt is ≤20 μm and the surface roughness (Rz) thereof is ≤10.
ベルト表層の厚みは２０μｍ以下で且つ表面粗さ（Ｒｚ）が１０以下である。 - 特許庁 - A surface roughness Ra of a raceway surface 10a of the outer ring 11 is 0.12-0.25 μm, a surface roughness Ra of a raceway surface 11a of the inner ring 12 is 0.02-0.04 μm, a surface roughness Ra of a raceway surface 13a of the needle roller 13 is 0.02 μm or smaller.
外輪１１の軌道面１０ａの面粗さＲａが０．１２〜０．２５μｍであり、内輪１２の軌道面１１ａの面粗さＲａが０．０２〜０．０４μｍであり、針状ころ１３の転動面１３ａの面粗さが０．０２μｍＲａ以下である。 - 特許庁 - In addition, the surface roughness of the flat surface body is preferably within a range of 0.01-1.0 nm.
また、平坦表面体の表面粗さは、0.01〜1.0 nmの範囲内にあることが好ましい。 - 特許庁 - The oil tempered steel wire has scale on the surface of a steel wire, and its surface roughness is ≤5.0 μm by Rz.
オイルテンパー線は、鋼線表面にスケールを有し、表面粗さがRzで5.0μm以下である。 - 特許庁 - The surface of the glass substrate is polished and its surface roughness Ra is no larger than 2 nm.
ガラス基板の表面が研磨され、その表面粗さＲａが２ｎｍ以下とされた。 - 特許庁 - A surface roughness of a surface of a cell vessel 5 is set at Ra=5 μm by a sand blast treatment.
電池容器５表面は、サンドブラスト処理により表面粗さＲａ＝５μｍとした。 - 特許庁 - Thereby, the surface of the aluminum alloy has a surface roughness of Ra=2.0 to 4.0 μm.
これにより、アルミニウム合金の表面について、表面粗さＲａ＝２．０〜４．０μｍとなる。 - 特許庁 - The surface roughness, RMS, of the barrier layer 7 is not more than 3.0 nm.
バリア層７の表面粗さＲＭＳが３．０ｎｍ以下である。 - 特許庁 - NONCONTACT SURFACE ROUGHNESS EVALUATING METHOD AND SYSTEM
非接触面粗さ評価方法および非接触面粗さ評価装置 - 特許庁 - The surface roughness of the substrate is preferably ≤0.5 μm.
前記基板の表面粗さは、０．５μｍ以下であることが好ましい。 - 特許庁 - The coating (12) has an average surface roughness of less than approximately 5 microns.
コーティング（１２）は、約５ミクロン未満の平均表面粗さを有する。 - 特許庁 - The surface roughness of the porous SiO2 film 22 is controlled to ≥2 nm.
多孔質ＳｉＯ_２膜２２の表面粗さを２ｎｍ以上にする。 - 特許庁 - The surface roughness was measured by using a high precision surface roughness meter ZZ produced by XX manufacturing Co. Ltd. under the conditions of cut-off value 0.25mm and ZX.
表面粗さは(株)××製作所の高精度表面粗さ計△△を用いて測定し、カットオフ0.25mm、及び△×の条件で測定した。 - 特許庁 - Surface roughness Ra of the barrier layer 40 is 0.2 μm or less.
また、バリア層４０の表面粗度Ｒａは０．２μｍ以下である。 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING MICROSTRUCTURE HAVING SURFACE ROUGHNESS OF NANO SCALE
ナノスケールの表面粗度を有するマイクロ構造物の形成方法 - 特許庁 - For the surface roughness Ra of the rear surface, a ratio (Rz/Ra) of Rz (ten-point average roughness) to Ra lies, preferably, in a range of 1 to 40.
裏面の表面粗さにおいて、Ｒｚ（十点平均粗さ）とＲａとの比（Ｒｚ／Ｒａ）が１以上４０以下であるとよい。 - 特許庁 - DEVICE FOR AUTOMATICALLY SETTING MEASUREMENT CONDITION OF SURFACE ROUGHNESS STATE MEASURING MACHINE
表面粗さ形状測定機の測定条件自動設定装置 - 特許庁 - SURFACE ROUGHNESS/SHAPE-MEASURING APPARATUS AND PROGRAM FOR CONTROLLING THE SAME
表面粗さ／形状測定装置及びそれを制御するプログラム - 特許庁 - The thermal molding die has a degree of surface roughness (Ra) of 0.10 μm or less.
表面租度（Ｒａ）が０．１０μｍ以下である熱成形型。 - 特許庁 - A surface roughness Ra of the substrate 2 is 0.1 to 0.8 μm.
基板２の表面粗さＲａは０．１μｍ〜０．８μｍである。 - 特許庁 - Surface roughness Ys in the Y direction is, formed so that Ys/Xs which is a ratio to the surface roughness Xs becomes at most 0.7.
そして、Ｙ方向の表面粗さＹｓを、表面粗さＸｓに対する比Ｙｓ／Ｘｓが０．７以下になるように形成する。 - 特許庁 - To avoid deterioration of surface roughness of an inner circumference forming a pump chamber.
ポンプ室を形成する内周面の面粗さの悪化を回避する。 - 特許庁 - SURFACE ROUGHNESS MEASURING METHOD BY LASER REFLECTED LIGHT AND ITS DEVICE
レーザ反射光による表面粗さ測定方法及びその装置 - 特許庁 - The parts have a surface composed of a rugged rough surface, and the surface of a recessed part and the surface of a projected part of this rugged rough surface have practically identical roughness (Ra).
凹凸粗面の表面を有し且つ凹部の表面と凸部の表面とが実質的に同一の粗度（Ｒａ）を有している。 - 特許庁 - Average surface roughness on the substrate surface, in which the texture streak is formed, is in a range of ≥1 Å but ≤6 Å, and ratio for the maximum surface roughness to the average surface roughness on this surface is in the range of less than 10.
テクスチャ条痕を形成した基板表面における平均表面粗さが１Å以上、６Å以下の範囲にあり、この表面における平均表面粗さに対する最大表面粗さの比が１０未満の範囲にある。 - 特許庁 - The surface roughness value Rz obtained by ten-point average roughness is preferably within a predetermined range.
また、十点平均粗さにより求めた表面粗さ値Ｒｚが所定の範囲内であることが好適である。 - 特許庁 - This member consists of glassy carbon and has surface roughness values of at least its glassy carbon surface being in contact with a metal melt, such that the arithmetic mean surface roughness value Ra is ≤0.8 μm and the maximum surface roughness value Rmax is ≤10 μm.
少なくとも金属融液と接する部材面の表面粗度が、表面粗さの平均値Ｒａが０．８μm 以下、最大値Ｒmax が１０μm 以下の性状を備えたガラス状カーボンからなる液相エピタキシャル成長用部材。 - 特許庁 - Furthermore, it can be said that the rare earth sintered magnet body has anisotropy in surface roughness when following relation is satisfied between the surface roughness Ra1 (arithmetic mean surface roughness) of the rare earth sintered magnet body in the predetermined direction and the surface roughness Ra2 in the direction intersecting the predetermined direction perpendicularly; Ra2≥1.1×Ra1.
また、希土類焼結磁石本体の表面の所定方向の表面粗さＲａ（算術平均粗さ）をＲａ１、所定方向と直交する方向の表面粗さＲａをＲａ２とすると、Ｒａ２≧１．１×Ｒａ１であれば、表面粗さに異方性を有するということができる。 - 特許庁 - The surface roughness of the surface 44 is 0.3 to 6 μmRa, and the surface roughness of the surface 42a is smaller than that of the roughed part and is 1.2 μmRa or less.
粗面４４の面粗さは０．３〜６μｍＲａであり、入り口側内面４２ａの面粗さは前記粗面化された部分の面粗さよりも小さくかつ１．２μｍＲａ以下である。 - 特許庁 - Surface roughness (Ry) of the substrate having been ground is preliminarily measured, and the thickness which is 10 times as large as the measured surface roughness is determined as a thickness Th1 by which the substrate is to be removed.
研削後の基板の表面粗さ（Ｒｙ）を予め測定しておき、その１０倍をエッチングにより除去すべき厚さＴh1とする。 - 特許庁 - Surface roughness information about the surface roughness of the same transfer material (the value of a current flowing in a pair of registration rollers, which are metal rollers) is detected.
同じ転写材に対して表面凹凸に関する表面凹凸情報（金属ローラであるレジストローラ対に流れる電流値）を検知する。 - 特許庁 - By this method, a surface roughness of the upper layer 4 can be suppressed.
この方法により、上層４の表面粗さを抑えることができる。 - 特許庁 - The surface roughness Ra of the DLC coating 24 is 0.5 μm or less.
ＤＬＣコーティング２４の表面粗さＲａが０．５μｍ以下である。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method for a substrate excelling in flatness and average roughness and surface roughness measured on a maximum scale of 10 points and having a smooth surface.
基板の平坦度、十点平均粗さおよび表面粗さに優れ、基板表面を平滑にする基板の製造方法等を提供する。 - 特許庁 - The surface roughness of the vent hole inner wall is set to Ra 1.0 or smaller.
さらに、通気孔内壁の表面粗さをＲａ１．０以下とする。 - 特許庁 - The surface roughness of the innermost layer is preferable about 0.3-0.8 μm.
最内層の表面粗度は、０．３〜０．８μｍ程度のものが好ましい。 - 特許庁 - To provide a method of evaluating surface roughness and its evaluation device capable of performing in-process evaluation of surface roughness having surface roughness of the order of a few μm to a few hundreds of μm by using ultrasonic scattering.
数μm〜数百μm程度の表面粗さを有する表面の粗さを、超音波散乱を利用してインプロセスで評価可能な表面粗さ評価方法および評価装置を提供することを課題とする。 - 特許庁 - To shorten a processing time period without degrading a surface roughness of a processing face.
加工面の表面粗さを悪化させずに加工時間を短縮する。 - 特許庁 - To provide a surface shape detector which is movable and easily usable by anybody, unlike the conventional pickup type surface roughness meter using a stylus or the roughness meter using a laser beam for detecting the surface roughness, either hard to handle.
表面の粗さを検出する従来の扱いにくい、針を使用したピックアップ式の表面粗さ計やレーザー光を用いた粗さ計に誓って、移動可能で、かつ誰もが簡単に使用できるものを提供する。 - 特許庁 - The surface roughness measurer 140 operates when the lay-on roll 135 is positioned at the retreated position, and measures the surface roughness of the lay-on roll 135.
表面粗さ測定器１４０は、レイオンロール１３５が退避位置に位置している間に作動し、レイオンロール１３５の表面粗さを測定する。 - 特許庁 - A surface roughness Rz of the sintered magnet 1 is 3.5 μm or less.
焼結磁石１の表面粗さＲｚは、３．５μｍ以下である。 - 特許庁 - To inspect a substrate such as a semiconductor substrate for surface roughness at high precision.
半導体基板などの基板の表面あれを高精度に検査する。 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR MEASURING SURFACE ROUGHNESS AND PROCESSING DEVICE
表面粗さの測定方法、表面粗さ測定装置及び加工装置 - 特許庁 - APPARATUS AND METHOD FOR MEASURING SURFACE ROUGHNESS AND SHAPE
表面粗さ／形状測定装置及び表面粗さ／形状測定方法 - 特許庁 - Surface roughness of the optical component polished by using the finishing method but is not etched yet is less than 0.5 nm, the surface roughness after polishing and etching is less than 0.6 nm, and step height of the surface roughness is less than 6 nm.
本方法を用いて得られた光学素子の、研磨されたがエッチングされない表面の粗さが０．５ｎｍ未満、研磨およびエッチング後の表面の粗さが０．６ｎｍ未満、およびステップ高が６ｎｍ未満である。 - 特許庁 - Surface roughness of the inner wall 33 of the lower mold 31 is transferred to the newly generated face 25 and the positioning reference part 23 having satisfactory surface roughness is formed.
新生面２５は下型３１の内壁部３３の面粗さを転写しており、面粗さの良い位置決め基準部２３が形成される。 - 特許庁 - Moreover, the surface roughness of the wire rod after the descaling is 10 to 30 μm Rz.
又、前記脱スケール後の線材表面粗さがRz10〜30μmであるもの。 - 特許庁 - DEVICE HAVING SPECIFIC SURFACE ROUGHNESS AND METHOD USING IT
特定の表面粗さを備えた装置およびその装置を用いた方法 - 特許庁
