「surface steps」を含む例文一覧(1742)
＜前へ 1 2 .... 23 24 25 26 27 28 29 30 31 .... 34 35 次へ＞- A method of manufacturing a semiconductor device comprises the steps of: forming, above a semiconductor substrate 102, a porous insulating layer 114 having a SiH group on its surface; and oxidizing the SiH group to a SiOH group and contacting liquid, which brings a modification material that does not form a conjunction with Si atoms in the porous insulating layer 114, into contact with a surface of the porous insulating layer 114.
半導体装置の製造方法は、半導体基板１０２上に、表面にＳｉＨ基を有する多孔質絶縁層１１４を形成する工程と、ＳｉＨ基をＳｉＯＨ基に酸化させ、かつ多孔質絶縁層１１４のＳｉ原子と結合を形成しない改質物質を含む液体を多孔質絶縁層１１４の表面に接触させる工程と、を含む - 特許庁 - The method includes steps of: implanting dopant atoms of a first conductivity type into a first surface of a conductive silicon carbide wafer having the same conductivity type as implanting ions at one or more predetermined dopant concentrations and implant energies to form a dopant profile; annealing the implanted wafer; and growing an epitaxial layer on the implanted first surface of the wafer.
１つ以上の所定のドーパント濃度及び注入エネルギーで、注入イオンと同じ導電型を有する導電性炭化珪素ウェーハの第一表面中に第一導電型のドーパント原子を注入して、ドーパントプロファイルを形成する工程、その注入されたウェーハをアニールする工程、及びそのウェーハの注入第一表面上にエピタキシャル層を成長させる工程を含む。 - 特許庁 - The method for manufacturing the mouthpiece for extrusion molding the ceramic honeycomb comprises the steps of forming a molding groove of a mouthpiece member having the groove and a ceramic body supply hole for communicating with the groove by grinding the groove by a grinding stone, forming an electroless plating layer on a surface of the groove, and adhering a wear resistant material to a surface of the layer at 300 to 600°C.
成形溝とこの成形溝へ連通するセラミック坏土供給孔を有する口金部材の成形溝を砥石による研削加工で形成し、前記成形溝の表面に無電解メッキ層を形成し、該無電解メッキ層の表面に前記耐摩耗材を３００℃乃至６００℃の温度で付着させたことを特徴とするセラミックハニカム押出成形用口金の製造方法。 - 特許庁 - The method for manufacturing the semiconductor device comprises the steps of forming a recess 5 or a protrusion on the upper surface of a semiconductor substrate 1, then performing a homoepitaxy on the upper surface of the substrate 1 to form a homoepitaxial film 4 and a defect layer 6, and measuring the thickness of the film 4 based on the measurement of the length dimension of the layer 6 in the off direction.
本発明の半導体装置の製造方法は、半導体基板１の上面に凹部５または凸部を形成した後、半導体基板１の上面にホモエピタキシーを実行してホモエピタキシャル膜４と欠陥層６とを形成し、そして、欠陥層６のオフ方向の長さ寸法を測定することに基づいてホモエピタキシャル膜４の膜厚を測定するように構成したものである。 - 特許庁 - The designed coating formation method comprises the steps of (1) forming a top coat by applying a coating material of a top coat with different color tone from that of a coating material of an undercoat on the substrate surface previously coated with the undercoat and (2) forming scraping patterns by scraping a portion of the top coat surface by a coating roller having roughened surface before the top coat is dried.
（１）予め下塗り塗料を塗装した基材表面に該下塗り塗料とは、異なる色調の上塗り塗料を塗装することによって、上塗り塗膜を形成する工程、（２）該上塗り塗膜が乾燥する前に、該上塗り塗膜の表面の一部分、または、該上塗り塗膜の表面の一部分及び該上塗り塗膜の一部分を、表面に凹凸を有する塗装ローラーで掻き取ることによって、掻き取り模様を形成する工程、を有することを特徴とする意匠性塗膜の形成方法。 - 特許庁 - A method for repairing a workpiece includes the steps providing an unstripped, coated workpiece comprising a surface having a localized damage site; masking the workpiece about the localized damage site; generating a microplasma stream and applying a first powdered material to the localized damage site using the microplasma stream; and applying a second powdered material to the workpiece surface using the microplasma stream.
局部的な損傷部位を有する表面を含む剥離のない被覆されたワークピースを供給すること、局部的な損傷部位についてワークピースをマスキングすること、マイクロプラズマ流を発生すること、マイクロプラズマ流を用いて局部的な損傷部位に第１の粉末材料を適用すること及びマイクロプラズマ流を用いてワークピース表面に第２の粉末材料を適用することを含む、ワークピースを修復する方法。 - 特許庁 - A method of inspecting the defect of a filter includes the steps of : generating a gas flow containing a liquid particle group; eliminating the particles relatively large in diameter among the liquid particle group; supplying the gas flow containing the liquid particle group whose large particles are eliminated to one end surface of the filter; and detecting a concentration distribution of the liquid particles in the gas discharged from the other end surface of the filter.
フィルタの欠陥の検査方法は、液体粒子群を含むガス流を発生させる工程と、液体粒子群中の相対的に粒径が大きな粒子を除去する工程と、大きな粒子が除去された液体粒子群を含むガス流をフィルタの一端面に供給する工程と、フィルタの他端面から排出されるガス中の液体粒子の濃度分布を検出する工程と、を備える。 - 特許庁 - Furthermore, in another embodiment of the present invention, a manufacturing method of the electronic device includes the steps of: forming the antenna element on at least one of a first side, second side and inner side surface of the support member by any one of printing, MID molding, insert molding and sheet metal lamination; and fixing the support member, the lid member and the bottom surface member.
また、本発明の他の一態様によれば、支持体部材の前記第１の面、前記第２の面及び前記内側面のうち少なくともいずれかに、印刷、ＭＩＤ成型、インサート成形、板金貼り合わせのうちのいずれかによりアンテナエレメントを形成する工程と、前記支持体部材と蓋部材と底面部材とを固定する工程と、を備えたことを特徴とする電子機器の製造方法が提供される。 - 特許庁 - The siliceous film forming method includes the steps of: forming a coating film by coating an irregular substrate surface with a polysilazane composition; hardening only a part of the coating film that is adjacent to the substrate surface, of the coating film, to thereby form a coating thin film running along the shape of the irregular substrate; and removing a polysilazane composition remaining unhardened during the coating thin film forming step, of the coating film.
凹凸を有する基板表面にポリシラザン組成物を塗布して塗膜を形成させ、前記塗膜のうち、基板表面に隣接した部分のみを硬化させて、前記凹凸を有する基板の形状に沿った被覆薄膜を形成させ、前記塗膜のうち、前記被覆薄膜形成工程において未硬化のまま残ったポリシラザン組成物を除去することを含んでなるシリカ質膜の形成方法。 - 特許庁 - A light-accumulating guidance sheet is provided, produced in steps of: preparing a plastic sheet with a hard coat having an adhesive applied on one surface of the sheet; preparing another plastic sheet having an adhesive and a release sheet on one surface; forming an image by inkjet printing on the second plastic sheet; forming a light-accumulating mark by screen printing; and bonding the two sheets.
かかる課題を解決するため本発明は、一面に粘着剤が付いているハードコート付きプラスチックシートを準備する工程と、別に、一面に粘着剤と剥離シートが付いているプラスチックシートを準備する工程と、その上にインクジェット印刷にて画像を形成する工程と、スクリーン印刷にて蓄光マークを形成する工程と、２つのシートを貼り合わせる工程と、からなる蓄光式誘導シートを提供する。 - 特許庁 - A method of manufacturing an SiC semiconductor element includes steps of: doping a surface layer of an SiC substrate 1 with an impurity; depositing a carbon film 2 on a surface of the SiC substrate doped with the impurity in an inert gas atmosphere; annealing the SiC substrate having the carbon film deposited; and removing the carbon film deposited on the annealed SiC substrate.
ＳｉＣ基板１の表面層に不純物のドーピングを行なう工程と、不純物がドーピングされたＳｉＣ基板の表面に、不活性ガス雰囲気中でカーボン膜２を堆積する工程と、カーボン膜が堆積されたＳｉＣ基板をアニール処理する工程と、アニール処理されたＳｉＣ基板に堆積されているカーボン膜を除去する工程とを含むことを特徴とするＳｉＣ半導体素子の製造方法。 - 特許庁 - A step of removably attaching a tool-carrying rail includes steps of: sealing a perimeter of the vacuum cup 10 to the rail-side surface of an aircraft against vacuum loss; attaching the rail to standoff pins of the vacuum cup 10; coupling a vacuum source to all of a space between the vacuum cup 10 and the rail-side surface of the aircraft; and slidably positioning the tool along the longitudinal axis of the tool-carrying rail.
工具を支持するレールを着脱可能に取り付けるステップは、真空漏れがないように真空カップ１０の周縁を航空機のレール側表面にシールするステップと、レールを真空カップ１０のスタンドオフピンに取り付けるステップと、真空カップ１０と航空機のレール側表面の間の空間全体を真空源に接続するステップと、工具をレールの長軸に沿ってスライド可能に配置するステップと、を含んでいる。 - 特許庁 - The method of manufacturing the coated particles is a method of manufacturing a coated particle whose surface is coated with a polyamine series compound, which comprises the steps of preparing a dispersion containing the particle and the polyamine series compound, and thereafter heating the dispersion by supplying the dispersion as a droplet into a heated atmosphere to coat the surface of the particle with the polyamine series compound.
本発明の被覆粒子の製造方法は、粒子の表面がポリアミン系化合物で被覆されている被覆粒子を製造するものであり、前記粒子と前記ポリアミン系化合物とを含有する分散液を調製した後、該分散液を、液滴として加熱雰囲気中に供給することにより加熱して、前記粒子の表面に前記ポリアミン系化合物を被覆することを特徴とする。 - 特許庁 - The method of manufacturing the semiconductor device includes the steps of: preparing a wiring substrate; mounting a semiconductor chip 8 on one surface of the wiring substrate; preparing a liquid sealing resin in a cavity 15 and scattering a filler 20 over the liquid sealing resin; dipping the side of the one surface of the wiring substrate in the liquid sealing resin; and forming a sealing body 22 by curing the sealing resin.
配線基板を準備する工程と、前記配線基板の一面上に、半導体チップ８を搭載する工程と、キャビティ１５に液状の封止樹脂を備えて、前記液状の封止樹脂の上部にフィラー材２０を散布する工程と、前記封止樹脂に前記配線基板の一面側を浸漬する工程と、前記封止樹脂を硬化して封止体２２を形成する工程と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁 - The method of manufacturing circuit board utilizes an adhesive tape and comprises steps of (A) forming a circuit pattern on an adhesive agent layer of the adhesive tape by a conductor, (B) forming an insulated layer by coating the circuit forming surface of the adhesive tape with an insulation material, and then (C) exposing the circuit at the surface of insulation layer by peeling the adhesive tape.
本発明の回路基板の製造方法は、粘着テープを用いた回路基板の製造方法であって、（Ａ）粘着テープの粘着剤層上に導体により回路パターンを形成する工程の後、（Ｂ）前記粘着テープの回路形成面に絶縁性材料を塗布して絶縁層を形成する工程、次いで（Ｃ）前記粘着テープを剥離して絶縁層表面に回路を露出させる工程を設けることを特徴とする。 - 特許庁 - This method comprises steps of forming film forming material layer by applying a paste phase composition containing glass powder, acrylic acid eater resin and solvent on a support film, transcribing the film forming material layer forming on the support film onto an outer surface of a glass substrate to which electrodes are fixed, and forming a dielectric layer in the outer surface of the glass substrate by sintering the transcribed film forming material layer.
ガラス粉末、アクリル酸エステル系樹脂及び溶剤を含有するペースト状組成物を支持フィルム上に塗布して膜形成材料層を形成し、支持フィルム上に形成された膜形成材料層を、電極が固定されたガラス基板の表面に転写し、転写された膜形成材料層を焼成することにより、前記ガラス基板の表面に誘電体層を形成する工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁 - The pattern formation method includes the steps of: laminating a self-assembled monolayer and a polymer film on a substrate; chemically bonding the polymer film to the self-assembled monolayer with an irradiation of an energy ray, thereby forming a polymer surface layer on the self-assembled monolayer; and forming a polymer alloy having a pattern of a phase-separated structure on the polymer surface layer.
基板上に自己組織化単分子膜とポリマー膜を積層する工程と、エネルギー線を照射することにより前記ポリマー膜と前記自己組織化単分子膜を化学結合させ、ポリマー表面層を前記自己組織化単分子膜上に形成する工程と、相分離構造のパターンを有するポリマーアロイを前記ポリマー表面層上に形成する工程と、を含むパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - In the method for manufacturing an antireflection film, two layers having different refractive indices are formed through steps of applying a specific coating material composition containing at least two kinds of inorganic particles on one surface of a supporting material once, and drying and curing the applied composition, wherein at least one kind of inorganic particles are surface-treated with a 4-7C branched fluorine compound.
２種類以上の無機粒子を含む特定の塗料組成物を、支持基材の片面上に１回塗布乾燥硬化する工程により、屈折率の異なる２層を構成する反射防止フィルムの製造方法であって、少なくとも一種類の無機粒子は炭素数４〜７の分岐状フッ素化合物による表面処理がされていることを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。 - 特許庁 - Segment tracking in motion capture comprises the steps of: applying marking material having a known pattern to a surface; acquiring a sequence of image frames in which each image frame comprises a plurality of images of the known pattern covering the surface; deriving position and direction information regarding the known pattern for each image frame of the sequence; and generating animation data incorporating the position and direction information.
モーションキャプチャにおけるセグメント追跡は、既知のパターンを有するマーキング材料を表面に付すステップと、表面を覆う既知のパターンの複数の画像をそれぞれが含む画像フレームのシーケンスを取得するステップと、シーケンスの各画像フレームについて、既知のパターンに関する位置及び向き情報を導出するステップと、位置及び向き情報を組み込んだアニメーションデータを生成するステップとを有する。 - 特許庁 - This method includes steps of providing a semiconductor substrate 11 having a metallic pattern 12 having different pattern densities thereon, depositing a porous oxide film 14 on the entire surface of the substrate so as to cover the metallic pattern 12, subjecting the surface of the porous oxide film to a plasma process, and polishing the film 14 subjected to the plasma process in a CMP process.
本発明は、異なるパターン密度に金属パターン１２が形成された半導体基板１１を提供する段階、前記金属パターン１２を覆うように、前記半導体基板の全面上に多孔性の酸化膜１４を蒸着する段階、前記多孔性の酸化膜の表面をプラズマ処理する段階、及び前記プラズマ処理した多孔性の酸化膜１４をＣＭＰ工程にて研磨する段階を含む。 - 特許庁 - This method comprises the steps of forming a dielectric film partially on a substrate, forming a first semiconductor film having a lattice constant different from that of the substrate to sandwich the dielectric film, making the first semiconductor film porous, cleaning the surface of the porous semiconductor film, and forming a second semiconductor film having the same composition as that of the first semiconductor film on the cleaned surface.
本発明は、基板上に部分的に誘電体膜を形成する工程と、該誘電体膜を挟んで基板とは格子定数の異なる第一の半導体膜を形成する工程と該第一の半導体膜を多孔質化する工程と、該多孔質化した半導体膜の表面をクリーニングする工程と、該クリーニングした表面上に該第一の半導体膜と同じ組成の第二の半導体膜を形成することを特徴とする。 - 特許庁 - The method of manufacturing a silicon wafer having a strained silicon layer 10 includes steps of at least forming the surface layer of the silicon wafer as an ion injection layer 11 by injecting ion into a silicon wafer 12, and growing the strained silicon layer by vapor phase epitaxy of the silicon on the ion-injected surface of the silicon wafer after distorting lattices in the in-plane direction.
歪みシリコン層を有するシリコンウェーハの製造方法であって、少なくとも、シリコンウェーハにイオンを注入することによって該シリコンウェーハの表面層をイオン注入層とし面内方向の格子を歪ませた後、前記シリコンウェーハのイオン注入された面上にシリコンを気相成長させることにより歪みシリコン層を成長させることを特徴とする歪みシリコン層を有するシリコンウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁 - The manufacturing method includes steps of forming an SiOF film 102 on a substrate 101, forming an opening for wiring formation in the SiOF film, removing fluorine contained in the SiOF film from a surface of the opening, subjecting the fluorine-removed surface of the opening to an oxygen plasma process, and providing wiring metals 104 and 105 to the opening.
基板１０１上にＳｉＯＦ膜１０２を形成するステップと、前記ＳｉＯＦ膜に配線形成用の開口部を形成するステップと、前記ＳｉＯＦ膜に形成された前記開口部の表面から該ＳｉＯＦ膜に含まれるフッ素を除去するステップと、前記フッ素が除去された前記開口部の表面に酸素プラズマ処理を行うステップと、前記開口部に配線用の金属１０４，１０５を設けるステップとを備えている。 - 特許庁 - The method includes the steps of: (i) characterizing at least one corneal surface as a mathematical model; (ii) calculating the resulting aberrations of the corneal surfaces by employing the mathematical model; (iii) modelling the multifocal ophthalmic lens such that a wavefront arriving from an optical system comprising the lens and the at least one corneal surface obtains reduced aberrations for at least one of the foci.
本方法は、（ｉ）少なくとも１つの角膜表面を数学的モデルとして特徴付けるステップと、（ｉｉ）前記数学的モデルを用いて、得られる前記角膜表面の収差を計算するステップと、（ｉｉｉ）前記レンズと前記少なくとも１つの角膜表面とを含む光学系から到来する波面が、少なくとも１つの焦点について低減した収差を得るように、多焦点眼科レンズをモデル化するステップと、を備える。 - 特許庁 - A method of manufacturing an electrode foil for an electrolytic capacitor comprises the steps of: applying a laser beam to the peripheral surface of the roll 11 of an electrode foil 8 at predetermined intervals to form trenches 5 on the peripheral surface 11 of the electrode foil 8; and cutting the electrode foil 8 along the trenches and rolling it at the same time to form electrode foil rolls each of which has a predetermined width.
電極箔８のロール11を所定幅で複数に切断しながら巻回して所定幅の電極箔のロールを形成する電解コンデンサ用電極箔の製造方法において、電極箔８のロール11の周面に所定間隔でレーザ光を照射して、前記電極箔８のロール11の周面に溝５、15を形成し、この溝５、15内に沿って切断することにより所定幅の電極箔のロールを形成する。 - 特許庁 - The method for manufacturing a shaped substrate with curved surface includes the steps of providing a textured substrate with planar surface with one or more of first textured buffer layers, subjecting the substrate covered with the first buffer layers to a shaping step, and providing a second textured buffer layer onto the first buffer layers by epitaxial growth.
曲がった面を備えた、形状を変化させた基板を作成する方法であって、一つまたは複数のバッファ層を備え、平面を備えたテクスチャ化された基板を供給するステップと、最初のバッファ層で被覆された該基板の形状を変化させるステップと、エピタキシャル成長によって、最初のバッファ上に、テクスチャ化された第２のバッファ層を供給するステップとを含む、形状を変化させた基板を作成する方法。 - 特許庁 - The surface treatment method of the nickel nanoparticles includes steps of; dispersing the nickel nanoparticles into a reducing organic solvent to obtain a dispersion liquid; heating the dispersion liquid to increase the surface homogeneity of the nickel nanoparticles; heating the dispersion liquid; separating the nickel nanoparticles from the heated dispersion liquid; and washing and drying the separated nickel nanoparticles.
分散液を得るためにニッケルナノ粒子を還元性有機溶媒に分散させる段階と、前記ニッケルナノ粒子の表面均質性を増加させるために、前記分散液を加熱する段階と、前記加熱された分散液から前記ニッケルナノ粒子を分離する段階と、前記分離されたニッケルナノ粒子を洗浄および乾燥させる段階とを含むニッケルナノ粒子を表面処理する方法により、上記課題は解決される。 - 特許庁 - This dynamic shape measuring method includes steps of superimposing carriers by two light sources with different wavelengths orthogonally on the image of an object surface, obtaining an interference image by one time imaging, demodulating the interference image along each direction of the carriers, determining phases for each wavelength at each point in the interference image, and determining the shape of the object surface according to the principle of the two-wavelength method.
本発明は、波長の異なる２つの光源によるキャリアを直交して対象表面の像に重畳し、１回の撮像で干渉像を得、それぞれのキャリア方向に沿って干渉画像を復調して、干渉画像中の各点におけるそれぞれの波長に対する位相を求め、２波長法の原理にしたがって物体表面の形状を求めることを特徴とする動的形状計測方法に関する。 - 特許庁 - A manufacturing method of a semiconductor device in the present invention comprises the steps of: forming an Si layer 20 on an upper surface of a nitride semiconductor layer 11 including a channel layer of an FET; performing heat treatment during or after the step of forming the Si layer 20; and forming an SiN layer 22 on an upper surface of the Si layer after the step of forming the Si layer 20.
本発明は、ＦＥＴのチャネル層を含む窒化物半導体層１１の上面にＳｉ層２０を形成する工程と、Ｓｉ層２０を形成する工程において、又はＳｉ層２０を形成する工程の後に、熱処理を行う工程と、Ｓｉ層２０を形成する工程の後にＳｉ層の上面にＳｉＮ層２２を形成する工程と、を有する半導体装置の製造方法である。 - 特許庁 - This method for producing a titanium oxide sheet comprises the steps of kneading titanium oxide microparticles 1 into paste with a solvent having high eroding capability against polyvinylchloride, and coating it onto a polyvinylchloride sheet 3 to dissolve the surface of the polyvinylchloride sheet 3 to adhere the titanium oxide microparticles 1 and evaporate the solvent to obtain the titanium oxide sheet.
酸化チタンの微粉末１を、塩化ビニールに対して浸食性の高い溶剤でペースト状に混練し、これを塩化ビニールのシート３上に塗布して、溶剤で塩化ビニールのシート３の表面を溶かして酸化チタンの微粉末１を接着し、溶剤を揮発させて塩化ビニールのシート３を酸化チタンシートとする。 - 特許庁 - The method further comprises thereafter the steps of heat treating the films 4, 3 in an oxygen-containing atmosphere, and forming a second electrode film 8 on an oxide diffused layer 6 formed on a surface of the film 3, by diffusing the film 3 component and oxidizing the film 4 by heat treating.
その後、無機保護膜４と強誘電体薄膜３とを酸素含有雰囲気下で熱処理し、熱処理により強誘電体薄膜３成分の拡散と無機保護膜４の酸化により強誘電体薄膜３表面に形成された酸化拡散層６上に第２の電極膜８を形成する方法からなる。 - 特許庁 - The method comprises the steps of conducting the NH_3 plasma processing to a substrate 20 by generating the NH_3 plasma to the surface of the substrate 20 within a chamber, removing a reactive byproduct including nitrogen remaining within the chamber, and forming an SiC film 34 with the PECVD method on the substrate 20 within the chamber.
チャンバー内において基板２０表面にＮＨ_３プラズマを発生させ、基板２０に対してＮＨ_３プラズマ処理を行う工程と、チャンバー内に残留する窒素を含む反応生成物を除去する工程と、チャンバー内において、基板２０上に、ＰＥＣＶＤ法によりＳｉＣ膜３４を成膜する工程とを有する。 - 特許庁 - Also disclosed is a method for preparing an antibody, comprising the steps of (i) generating an antibody to at least one antigen presented on the surface of a CLL cell line according to claim 1; and (ii) determining that the antibody binds with an antigen related to CLL cells.
抗体を調製するための方法であって、該方法は、以下の工程：（ｉ）請求項１に記載のＣＬＬ細胞株の表面上に提示される少なくとも１つの抗原に対する抗体を作製する工程；および（ｉｉ）該抗体が、ＣＬＬ細胞関連抗原に結合することを決定する工程、を包含する、方法。 - 特許庁 - The method for detecting the wrinkle of the separator sheet 1 for the battery comprises the steps of illuminating a laser beam 4 to the surface of the separator sheet for the battery, while moving the sheet in a direction for crossing the sheet while conveying the sheet 1, and detecting the wrinkle from a reflected light intensity.
電池用セパレータシート１のしわを検出する方法であって、前記電池用セパレータシート１を搬送させながら前記電池用セパレータシート面に対してレーザー光４を前記電池用セパレータシートを横断する方向に移動させながら照射して、反射光強度から前記しわを検出することを特徴とする。 - 特許庁 - A method for manufacturing the electrode for a nonaqueous electrolyte battery comprises the steps of preparing active material slurry containing an active material and a solid filler, applying the active material slurry to the surface of a collector to form a coating, and changing the solid filler in the coating into a liquid or a gas.
あるいは、非水電解質電池用電極を作製する際に、活物質と、固体状フィラーと、を含む活物質スラリーを調製し、この活物質スラリーを集電体の表面に塗布することにより、塗膜を形成し、さらに、塗膜中の前記固体状フィラーを液体状または気体状とする工程を行う。 - 特許庁 - The electroluminescent lamp (40) is formed on the sign by using the sign as a substrate for the lamp and carrying out steps of screen printing a rear electrode (104) on a front surface (30) of the sign, and screen printing at least one dielectric layer (102) over the rear electrode (104).
エレクトロルミネセントランプ（４０）は、ランプのための基板としてサインを利用し、かつ、後部電極（１０４）をサインの前部表面（３０）にスクリーン印刷し、かつ、後部電極（１０４）を覆って少なくとも１つの誘電体層（１０２）をスクリーン印刷するステップを実行することによって、サイン上に形成される。 - 特許庁 - To prevent generation of rattling sound by suppressing slide resistance of a rack and a rack guide without generating increase of an excessive movable amount of the rack guide while reducing the number of parts and reducing the number of steps in a rack and pinion type steering device provided with a slide type rack guide for pressing a back surface of the rack and slide-engaged with a housing.
ラック背面を押圧し、ハウジングに滑合している滑り式ラックガイドを備えるラックアンドピニオン式ステアリング装置において、部品点数を少なくして、工程数を削減しつつ、ラックとラックガイドの摺動抵抗を抑えて、余分なラックガイド可動量の増加を起こさずに、ラトル音の発生を防止する。 - 特許庁 - A method for efficiently drying materials comprises such steps as making a filter cake 2 on the surface of a filter medium 1 from a slurry containing liquid and solid, arranging the filter cake 2 and an oscillator 6 in opposed positions and generating a sound field between the filter cake 2 and the oscillator 6 through mechanical contact between the filter cake 2 and the oscillator 6 or a constitutive element 7 connected to the oscillator 6.
濾過媒体(1,11,21) の面上の濾過ケーキ(2,12,22) を液体および固体を含むスラリから作り、濾過ケーキ(2,12,22) および発振器(6,15,25)を互いに対して配置して、濾過ケーキ(2,12,22) と発振器(6,15,25) または発振器に接続された構成要素(7,16,26) との間の機械的接触により、濾過ケーキ(2,12,22) と発振器(6,15,25) との間に音場を生成する。 - 特許庁 - In the image forming method having at least steps of electrification, image exposure, development, transfer, fixing, and cleaning, the image forming device is characterized in that it develops an electrostatic latent image by using developer containing a lubricating substance and attaches the lubricating substance to the surface of the photoreceptor by heating the photoreceptor.
少なくとも、帯電−画像露光−現像−転写−定着−クリーニング工程を有する画像形成方法において、潤滑性物質を含む現像剤を用いて静電潜像を現像すると共に、感光体を加熱して潤滑性物質を感光体表面に付着させることを特徴とする画像形成装置。 - 特許庁 - To provide a plate making method of a lithographic printing plate by which, in plate making from a lithographic printing forme original plate having a back coat layer containing an organic polymer compound, peeling of a plate surface protective layer from the rear face of a plate is suppressed and steps such as conveyance, folding, piercing, accumulation and printing are not contaminated.
有機高分子化合物を含有するバックコート層を有する平版印刷版原版から製版するに当たって、版の裏面から版面保護層が剥離することを抑制し、搬送、折り、孔穿、集積、印刷等の工程を汚染することのない、平版印刷版の製版方法を提供する。 - 特許庁 - The disclosed method includes the steps of: forming a pattern-like groove portion (c) which reaches a surface of an internal wiring pattern 23-2 and corresponds to the internal wiring pattern 23-2, in an insulating layer constituted of a resin layer 104 formed in the internal wiring pattern 23-2; and filling the groove portion (c) with metal materials 24.
内部配線パターン２３−２上に形成した樹脂層１０４から成る絶縁層に、内部配線パターン２３−２の表面に達すると共に内部配線パターン２３−２に対応したパターン状の溝部ｃを形成する工程と、溝部ｃに金属材２４を充填する工程とを有している。 - 特許庁 - The method for manufacturing the foamed resin extrusion molding with the coating sheet comprises the steps of introducing the foamed resin material 12 extruded from an extrusion mold 11 in a heated plasticized state into the cooling sizing mold 14, cooling to solidify the resin material, and simultaneously coating a coating sheet 13 on at least part of the surface of the material 12 in the mold 14.
加熱可塑化状態で押出金型１１から押出した発泡樹脂材料１２を、冷却サイジング金型１４に導入して冷却固化させると同時に、冷却サイジング金型１４の内部において、発泡樹脂材料１２の表面の少なくとも一部に被覆シート１３を被覆する。 - 特許庁 - The method for manufacturing the woody decorative molding comprises the steps of preparing the sliced veneer 3 impregnated wit the nonvolatile bulking agent, setting the veneer 3 in a mold, disposing the resin at the rear surface side of the veneer 3 in the mold, pressure molding the resin in the mold to integrate the veneer 3 with the resin as the base 5.
また、本発明の木質化粧成形品の製造方法は、不揮発性バルキング剤を含浸した突板３を準備し、この突板３を金型内にセットし、この金型内の突板３の裏面側に合成樹脂を配置して圧力成形することによって、突板３に合成樹脂を基材５として一体化する。 - 特許庁 - In the synthetic resin bottle-shaped container having a waist to divide a barrel portion into at least two portions in the vertical direction while a demarcated recess for handling is formed in the waist, a stepped part with steps formed in a stair shape from a bottom wall of the demarcated recess to an outer surface of the barrel portion is provided between the demarcated recess and the barrel portion.
胴体部分を上下で少なくとも２つに区分するウエストを有し、該ウエストにハンドリング用の区画凹所を設けた合成樹脂製ボトル型容器において、前記区画凹所と胴体部分の相互間に該区画凹所の底壁から胴体部分の外表面に向かって段部を階段状に連ねた段差部を設ける。 - 特許庁 - The cavity 5 of a die 2 is formed by successively reducing the diameter forming a plurality of steps around from a base part 5a opened to a parting surface 2a to the backmost part 5e, the backmost part is a recessed part 5e in a conical shape, and an area I including the cavity is heat-insulated at or above the glass transition point of a material.
金型２のキャビティ５は、パーティング面２ａに開口する基部５ａから最奥部５ｅまで複数の一周する段差をなして順次縮径されて形成され、最奥部が円錐形状をなす凹部５ｅとされ、かつキャビティを含む領域Ｉを材料のガラス転移点以上に保温する。 - 特許庁 - A method for manufacturing a terminal structure of an electric cell or a capacitor comprises the steps of inserting a terminal 2 into a resin cover 3, and making a hole 4 in an inner face of a terminal 2 by using a punch 8 to press the terminal outwardly in a radial direction, thereby increasing the facing pressure between flange 5 and surface seal, and thus the contact force.
ターミナル２を樹脂カバー３にインサート成形した後、ターミナル２の内面の穴４からポンチ８を打ち込むことにより、径方向外側に向かって加圧するようにして、フランジ部５と界面シール部７の面圧を高め、密着力を向上させた電池、キャパシタの端子構造の製造方法である。 - 特許庁 - The method for manufacturing the circuit device comprises steps (b) to (d) for adhering to an insertion mounting conductor 22 provided in a through-hole 20 of the substrate 16, blocking the hole 20, protruding from one end of the hole 20, and mounting a cream solder 68 on the substrate 16, so as to cover the surface of the substrate of a peripheral edge of the hole.
まず第一段階（ｂ）〜（ｄ）において、基板１６のスルーホール２０内に設けられた挿入実装用導体２２に付着しスルーホール２０を閉塞するとともにスルーホール２０の一端から突出しその周縁の基板表面を被覆するようにクリームはんだ６８を基板１６にのせる。 - 特許庁 - The method of preparing the toner composition includes the steps of mixing a colorant dispersion and a latex solution and coagulating to form the core of the toner particle; adding a polymerization initiator to the core; and adding a monomer to the core to form a shell of the toner particle through polymerization of the monomer on the core surface.
着色剤分散液とラテックス溶液とを混合し，凝集させ，トナー粒子のコアを形成する段階と，コアに重合開始剤を添加した後にモノマーを添加し，コアの表面でモノマーを重合させ，トナー粒子のシェルを形成させる段階とを含むトナー組成物の製造方法に関する。 - 特許庁 - The method for manufacturing a biochip substrate which is used to immobilize a material having affinity with a bioactive material to detect the bioactive material, comprises steps of applying a polymer material onto the substrate surface; and dipping the resulting substrate in a good solvent for the polymer material.
生理活性物質と親和性を有する物質を固定化し、生理活性物質を検出する際に用いられるバイオチップ用基板の製造法であって、基板表面に高分子物質を塗布する工程、及び前記高分子物質の良溶媒中に浸漬させる工程、を含むことを特徴とするバイオチップ用基板の製造方法。 - 特許庁 - The method for forming the recorded matter comprises the steps of printing on an ink jet recording material having a porous ink accepting layer containing an inorganic fine particles, a hydrophilic binder and a hydrazine derivative or a dicyandiamide resin on a water resistant support, and then providing a coating layer on the recorded surface.
耐水性支持体上に無機微粒子と親水性バインダー及びヒドラジン誘導体またはジシアンジアミド系樹脂を含有する多孔質のインク受容層を有するインクジェット記録材料に印字した後、記録した表面に被覆層を設けることを特徴とするインクジェット記録物の作成方法。 - 特許庁
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