「temperature processing」を含む例文一覧(2994)
＜前へ 1 2 .... 46 47 48 49 50 51 52 53 54 .... 59 60 次へ＞- To achieve reduction in energy cost for substrate processing and simplification in apparatus configuration by making it possible to process a substrate even in no heating at a low temperature of 100°C or lower and to process the substrate without narrowing a range of material selection.
１００℃以下の低温で無加熱でも基板を処理できるようにして、基板処理する際のエネルギーコストの低減と装置構成の単純化を実現させると共に基板の材料選択の幅を狭めることなく、基板の処理を行う。 - 特許庁 - The processing part 5 calculates a surface temperature of the thin metal film 71 based on the intensity of the reflected light 85 by a thermo-reflectance method, and receives separately an input about a film thickness of the thin metal film 71 from an input part 6 to calculate the thermal diffusivity of the thin metal film.
処理部５は、サーモリフレクタンス法により反射光８５の強度から金属薄膜７１の表面温度を算出し、別途、入力部６から金属薄膜７１の膜厚の入力を受け、金属薄膜の熱拡散率を算出する。 - 特許庁 - The body section 5 connected to the operation section 3 by the universal cable 4 includes a system control section 15, an LED driving section 16, a CCD driving section 17, an image processing section 18, a power supply section 19, a temperature sensor conversion section 20 and a speaker 22.
操作部３とユニバーサルケーブル４によって接続される本体部５は、システム制御部１５と、LED駆動部１６と、CCD駆動部１７と、画像処理部１８と、電源供給部１９と、温度センサ変換部２０と、スピーカ２２と、を含んで構成される。 - 特許庁 - By irradiating the reverse surface of the substrate W with flash light, regardless of the kind of the resist film RF formed on the front surface, flash-light absorption rate of the substrate W becomes constant so that the resist film RF can be heated to a fixed processing temperature.
基板Ｗの裏面にフラッシュ光を照射しているため、表面に形成されたレジスト膜ＲＦの種類にかかわらず、基板Ｗのフラッシュ光吸収率は一定となり、レジスト膜ＲＦを一定の処理温度に加熱することができる。 - 特許庁 - Thus, as an element of the group III is restricted to diffuse during a heat processing between the well layer 12 and the barrier layer 11, it is possible to heat-process under a temperature ambience of 700°C to 800°C, and to obtain a high quality semiconductor laser.
こうして井戸層１２と障壁層１１の間で、熱処理中にＩＩＩ族元素が拡散が抑制されるため、７００℃〜８００℃の温度雰囲気下で熱処理することが可能になり、高品質な半導体レーザを得ることができる。 - 特許庁 - When different protected developers or a mixture comprising at least two protected developers is contained in different color layers, the image discrimination of each layer is controlled at a processing temperature to balance density formation or color between the different color layers.
異なるカラー層に、異なる保護されたディベロッパー又は少なくとも２種の保護されたディベロッパーからなる混合物を含有することによって、処理温度で各層の画像ディスクリミネーションを操作し、異なるカラー層の濃度生成又は色をバランスさせる。 - 特許庁 - In the end face processing method of the optical fiber, the end face of an optical fiber 1 made of inorganic material is pressed onto a flat member 3 which is heated up to the temperature range of the glass transition point to the melting point of the inorganic material so as to obtain a flat end face.
無機材料からなる光ファイバ１の端面を、該無機材料のガラス転移点〜融点の範囲の温度に加熱した平坦部材３上に押し付けて平坦な端面を得ることを特徴とする光ファイバの端面処理方法。 - 特許庁 - With the method for fixing a component temporarily, a component is adhered using the composition to fix it temporarily, and after processing the temporarily fixed component, the processed component is soaked in hot water whose temperature is 90°C or lower and the cured material of the compsition is removed.
又、前記組成物を用いて部材を接着仮固定し、該仮固定された部材を加工後、該加工された部材を９０℃以下の温水に浸漬して、前記組成物の硬化体を取り外すことを特徴とする部材の仮固定方法。 - 特許庁 - To provide an elastic fixture capable of miniaturizing and price-reducing compared with parallel plate spring mechanism, in which, in addition to small constraints of magnitude and processing accuracy, manufacturing is easy and responses to use in relatively severe temperature conditions for manual machine tools and the like are possible.
大きさや加工精度の制約が小さい上に、製造が容易で、マニュアル工作機械等の比較的厳しい温度環境での使用にも対応でき、平行板ばね機構に比べ小型化、低価格化が可能な弾性固定具を提供する。 - 特許庁 - To provide an excellent speaker component that needs no primer processing in the case of adhesion because of excellent in the adhesive performance and hardly causes secondary contraction even when subjected to a high temperature environment at a low cost with a lightweight, a high bending strength and excellent size stability.
安価、軽量で、接着性に優れているために接着に際しプライマー処理が不要で、曲げ剛性が高く、寸法安定性に優れ、高温環境に曝されても２次収縮が生じにくい優れたスピーカの構成部材を提供する。 - 特許庁 - To provide an image forming device capable of deciding whether or not an ADC preparation processing should be performed when a power is supplied, without using a timer, and without being influenced by the type of a fixing device and an environmental temperature, etc.
電源が投入されたときにＡＤＣの準備処理を行うか否かを、タイマーを用いることなく、また定着器の種類や、環境温度に左右されることなく判定することができる画像形成装置を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a control device for setting the optimal heater control value, which is corresponding to fluctuation caused by head, temperature and a radial position and is improved in characteristic deterioration caused by thermal expansion due to a writing current just after starting the writing, by a correction processing.
ヘッド、温度、半径位置によるばらつきに対応し、且つ書込み開始直後の書込電流による熱膨張に起因した特性劣化を改善した最適なヒータ制御値を校正処理により設定する制御装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a tool for manufacturing an ultrasonic vibrator and a method for manufacturing thereof for manufacturing the vibrator with stable in shape without stress corrosion cracking, with long term reliability and excellent productivity under low temperature processing.
低温熱処理下で、形状が安定し応力腐食割れを無くし、長期信頼性と優れた生産性でもって超音波振動子を製造することができる、超音波振動子用製造冶具及び超音波振動子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - A control device 91, when a temperature difference between the first heat radiation part 14 and the second heat radiation part 24 reaches a predetermined value or more, performs either one of a process for prohibiting warm-up facilitation processing and a process for limiting operation of the second pump 23.
制御装置９１は、第１の放熱部１４と第２の放熱部２４の温度差が所定値以上となった場合に、暖機促進処理を禁止する処理又は第２のポンプ２３の運転を制限する処理のいずれか一方を実行する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method and manufacturing device of a separator for a battery, capable of processing stably at lower temperature, lower anhydrous sulfate concentration and shorter time than a conventional one, with time and effort for handling or danger reduced, with easy installation and excellent in homogeneity of sulfonation treatment.
従来よりも低温度、低無水硫酸濃度、短時間で安定に処理でき、取り扱いの手間や危険性が低減され、設備が簡易で、スルホン化処理の均質性に優れた電池用セパレータの製造方法および製造装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a vulcanized rubber material being excellent in extrusion property in the unvulcanized state, vulcanization processing and handling property when assembling work of a product using the rubber material is performed while ensuring rigidity at a high temperature (for example, 125°C).
高温（例えば１２５℃）における剛性を確保しつつ、未加硫状態での押出性及び加硫加工性並びにこのゴム材を用いた製品の組付作業等を行うときのハンドリング性に優れた加硫ゴム材を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus that prevent control malfunction due to noise by performing communication between a thyristor driving unit for phase control and a temperature controller through serial transmission, so that both of the units are separately installed.
位相制御用サイリスタ駆動ユニットと温度調節器の分離設置ができるように、両ユニット間をシリアル伝送による通信を行うことで、ノイズの影響による制御誤動作を防止することができる基板処理装置を提供することにある。 - 特許庁 - To provide an automatic phase adjustment apparatus in an image processing system such as a digital video camera and a digital still camera that can cope with variations in sampling timing at a high temperature or the like and highly accurate phase adjustment desired at low illuminance or the like.
デジタルビデオカメラやデジタルスチルカメラ等の画像処理システムにおける自動位相調整装置に関し、高温時等においてサンプリングタイミングに変動が発生したり、低照度時等における高精度な位相調整が望まれる際に対応できる。 - 特許庁 - Further, the on-vehicle device 10 and the portable machine 20 transmit/receive the signals subjected to the spectrum diffuse modulation by executing the processing of the spectrum diffuse modulation of the response signal San by the diffusion signal when transmitting/receiving the temperature signal San.
また、車載装置１０及び携帯機２０は、応答信号Ｓａｎを送受信するにあたり、応答信号Ｓａｎを拡散符号によりスペクトラム拡散変調する処理を行ってそのスペクトラム拡散変調された信号を送受信する。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus which can prolong the life of a heating apparatus while downsizing, and can improve the throughput by lowering the temperature in a furnace quickly, and to provide a method of manufacturing a semiconductor device and a heating apparatus.
本発明の目的は、装置の小型化を図りつつ加熱装置の寿命を長くし、炉内温度を迅速に低下させてスループットを向上させることができる基板処理装置、半導体装置の製造方法及び加熱装置を提供することにある。 - 特許庁 - To provide a rewrite recording medium processing apparatus erasing displaying information of a rewrite recording medium which can repeatedly print/erase the displaying information by reversibly changing the color in accordance with temperature in a short time with no frost sticking to the medium surface.
温度に応じて可逆的に変色して表示情報の印刷・消去の繰返しが可能なリライト記録媒体の表示情報を、媒体表面に霜が付着することなく短時間で消去可能なリライト記録媒体処理装置を提供する - 特許庁 - In the resist film ashing process for lower electrode processing in the MIM capacitor, the proportion of the oxygen gas for ashing at the predetermined temperature without a bias is set to the proportion of the oxygen at which the oxidation amount of a first metal film is independent of the ashing time.
ＭＩＭキャパシタの下部電極加工のレジスト膜アッシング工程において、バイアス無しで所定の温度で行う際の酸素ガスの割合が、第１の金属膜の酸化量がアッシングする時間に依存しない酸素の割合以下に設定する。 - 特許庁 - To provide a metal roll and rubber rolls for an embossment apparatus for a thermoplastic resin film which can stably perform embossing processing with the surface temperature of the rolls kept within a predetermined constant range by sufficient heat exchange with a heating medium.
熱媒体との熱交換を十分に行なって、表面の温度が予め定めた一定の範囲に止まっており、かくして、安定して、エンボス加工することができる熱可塑性樹脂フィルムのエンボス装置用金属ロールとゴムロールを提供する。 - 特許庁 - To provide a method of forming film which can eliminate a TiN film forming process by thermal CVD method conventionally used for obtaining enough thickness as a barrier layer by using low-temperature processing tungsten film formation process.
低温のプロセス温度によるタングステン膜の形成工程を用いることで、バリヤ層として十分な膜厚を得るために従来行われた熱ＣＶＤによるＴｉＮ膜の形成工程を省略することが可能な成膜方法を提供する。 - 特許庁 - A correction operation circuit 14 calculates a pressure quantity detection value according to the detection signal Sd while temperature is compensated for by an operation processing based on digital data from the A/D conversion circuit 9 and a correction coefficient from an EPROM 13.
補正演算回路１４は、Ａ／Ｄ変換回路９からのデジタルデータ及びＥＰＲＯＭ１３からの補正係数に基づいた演算処理により、検出信号Ｓｄに応じた圧力量検出値を温度補償した状態で算出する。 - 特許庁 - To provide an acrylic rubber composition which is excellent in scorching stability during processing and contains a crosslinking agent nonselectively crosslinkable regardless of the type of crosslinking points, and in which crosslinking can be controlled in a stable state even under high temperature crosslinking conditions.
加工時のスコーチ安定性に優れ、架橋点の種類によらず非選択的に架橋可能な架橋剤を含むとともに、高温の架橋条件下であっても安定した状態で架橋が制御され得るアクリルゴム組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a food processing system containing a plurality of massage devices for carrying out massage treatment to raw material meat and one chiller unit for feeding cooling water and surely preventing temperature rise of cooling water associated with washing operation in a tank.
原料肉に対してマッサージ処理を行う複数台のマッサージ装置と、冷却水を供給する一台のチラーユニットとを含み、タンク内の洗浄作業に伴う冷却水の温度上昇を確実に防ぐ食品加工システムの提供。 - 特許庁 - In the final stage of the multistage processing, the external additive including the particles of the long chain fatty acid or its salt can be added at a higher share than that in the other stages and at the higher addition temperature than that in the other stages.
さらに、前記多段処理の最終段階において、長鎖脂肪酸またはその塩でなる粒子を含む外添剤が他の段階における外添剤の添加温度よりも高い温度で添加され、かつ他の段階よりも高いシェアで添加されてもよい。 - 特許庁 - The method for drying the substrate after cleaning comprises at least the steps of processing the substrate by a warmed pure water, then lowering the temperature of the surface of the substrate, and drying it after that.
洗浄後の基板の乾燥方法であって、少なくとも、基板を加温した純水で処理する工程を行った後に、該基板の表面温度を下げる工程を行い、その後乾燥工程を行うことを特徴とする基板の乾燥方法。 - 特許庁 - The image processing apparatus is provided with a determination means for determining a color temperature from a white balance control state and a correction means for correcting a quantization step calculated based on a target code amount of the whole image on the basis of a determined result of the determination means.
画像処理装置は、ホワイトバランス制御状態から色温度を判定する判定手段と、判定手段の判定結果に基づき画像全体の目標符号量を元に算出された量子化ステップを補正する補正手段とを備える。 - 特許庁 - To provide a picture processor and a picture processing method capable of generating an excellent picture even at the time of photographing a picture with the shutter of seconds or in a high temperature in response to user needs for the use of a high speed shutter in spite of the low luminance by changing ISO sensitivity.
ISO感度を変えて、低輝度でも高速のシャッターを使用したいというユーザーニーズに応え、長秒時や高温での撮影でも優れた画像を生成することができる画像処理装置及びその方法の提供を課題とする。 - 特許庁 - To provide a thermochromic composition excellent in lightfastness which can develop a clear allochroic effect, and to provide thermochromic fibers which can maintain high lightfastness even when applied to fibers to be manufactured by high temperature processing.
鮮明な変色効果を発現できる耐光性に優れた感温変色性組成物を提供すると共に、高温加工により製造される繊維に応用した場合であっても、高い耐光性を維持できる感温変色性繊維を提供する。 - 特許庁 - Components including a gas distribution plate 22, a chamber liner 30 and a focus ring 14 that constitute a plasma processing chamber 10 are subjected to surface plasma-splaying of ceramics or high temperature polymers having surface roughness properties to improve polymer adhesion for coating 32 thereof.
プラズマ処理チャンバ１０を構成する、ガス供給板２２、チャンバライナ３０、フォーカスリング１４などの部品の表面を、ポリマーの付着を促進する表面粗さ特性を持つ、セラミック又は高温ポリマー等の材料をプラズマ溶射し、被覆３２する。 - 特許庁 - To provide a method for processing a polymeric positive temperature coefficient (PPTC) conductive material having uniformly dispersed conductive particles, capable of decreasing contact resistance between an electrode and the conductive material and capable of increasing a lifetime and reliability of the material.
電極と伝導性物質との間の接触抵抗を減少させ、ならびに寿命および信頼性を増加させるような、均一に分配された伝導性粒子を有するポリマー性で正の温度係数の（ＰＰＴＣ）伝導性物質をプロセスすること。 - 特許庁 - A value obtained by adding a correction value based on temperature, humidity and a printing rate or the like to a developer concentration adjustment value is set as a controlling voltage value Vc to be input in a toner concentration sensor, and an output value of the toner concentration sensor is detected for every speed of a plurality of processing speeds.
デベ調整値に温度、湿度、印字率などに基づく補正値を加えた値を、トナー濃度センサへ入力する制御用電圧値Ｖｃとして設定し、複数のプロセス速度ごとにトナー濃度センサの出力値を検出する。 - 特許庁 - This method for producing a composite false-twist textured yarn comprises excessively directly feeding a filament composed of polyester to twisting area of a filament comprising polytrimethylene terephthalate at a ratio of 1.4 to 2.5 and carrying out false twisting of filaments at processing temperature of ≥130°C and ≤190°C.
ポリトリメチレンテレフタレートを含んでなるフィラメントの加撚域に直接、ポリエステルからなるフィラメントを１．４〜２．５倍の比率で過供給し、１３０℃以上１９０℃以下の加工温度で仮撚加工をする、複合仮撚加工糸の製造方法。 - 特許庁 - A base station device 11 is provided with an information acquisition unit 25 to acquire base station vicinity information on, for example, temperature, humidity, and altitude near the base station device 11, and reports it to respective terminal devices 12 by a base station-side radio processing unit 21.
基地局装置１１に情報取得部２５を設けて、基地局装置１１の近傍の基地局近傍情報たとえば温度、湿度および高度を取得し、基地局側無線処理部２１によって各端末装置１２に報知する。 - 特許庁 - To provide a processing composition for a silver halide photosensitive material which achieves reduction of stain caused by a sensitizing dye remained in a photosensitive material after treatment and does not generate a deposit or precipitate when stored at a low temperature.
処理後において感光材料の残留増感色素に起因するステインの低減が達成され、かつ処理組成物の低温保存時においても析出沈殿物の生じないハロゲン化銀カラー写真感光材料用処理組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a semiconductor device, which includes a process for forming a silicon oxide film that can be formed at low temperature, and has superior surface flatness, recessed part burying properties, and step coverage, and also has a superior film forming speed; and to provide a substrate processing apparatus.
低温での成膜が可能であり、表面平坦性、凹部埋めこみ性、ステップカバレッジに優れ、成膜速度にも優れるシリコン酸化膜の形成工程を有する半導体デバイスの製造方法および基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of cleaning a reaction tube, improved in sealing, preventing the leakage of a cleaning gas from a reaction furnace, and enabling use of HCl gas as a cleaning gas in a vertical furnace for high temperature processing of a semiconductor manufacturing apparatus.
半導体製造装置の高温処理用縦型炉に於いてシール性を向上させ、クリーニングガスが反応炉より漏出することを防止し、クリーニングガスとしてＨＣｌガスの使用を可能とした反応管のクリーニング方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a blower housing of a hydrogen recycle device in which a fluid separation point on an external surface is retreated to an rear end portion of the housing body in a fuel processing system (FPS) and a cooling effect is increased and a uniform temperature difference can be obtained.
水素供給モジュール（ＦＰＳ）において、外部表面の流動剥離点をハウジング体の後端部に後退させ、冷却効果を増大させ、均一な温度偏差を得ることができる水素再循環装置のブロワーハウジングを提供する。 - 特許庁 - When the card is erroneously inserted, in spite of the device before the heating and coloring processing enable temperature, the card insertion is recognized by an optical sensor 1, the operation of the conveyer belt 4 and heating roller 3 is stopped, and the erroneous insertion of the card is prevented.
また装置が加熱発色処理可能な温度になる前にも関わらず、カードを誤って挿入した場合には、光学式センサ１でカード挿入を認識し、搬送ベルト４と加熱ローラ３の動作を停止して、カードの誤挿入防止を行う。 - 特許庁 - To provide a hot blast heating type heat treatment system which can improve the temperature distribution property within a heating chamber, and shorten the processing time, and prevent the breakdown of plate-shaped substance to be processed, and reduce cost, and improve clearness, without complicating the operation or the structure.
運転操作や構造を複雑化することなく、加熱室内の温度分布特性を向上し、処理時間を短縮し、板状被処理物の破損を防止し、コストを低減し、クリーン度を向上できる熱風加熱式熱処理システムを提供する。 - 特許庁 - To provide a protective film having a polylactic acid type base material which has no melting and deformation of the base material even at high temperature higher than 100°C, and does not generate breakage and tearing when it is wound into a rolled shape or the like in manufacturing and processing of the protective film.
１００℃を超える高温においても、基材の融解や変形が無く、しかも、保護フィルムの製造時や加工時、ロール状に巻回する際等に破断や裂けが生じないポリ乳酸系基材を有する保護フィルムを提供する。 - 特許庁 - To provide a protective film having a polylactic acid type base material which has no melting and deformation of the base material even at high temperature higher than 100°C, and does not generate breakage and tearing when it is wound into a rolled shape or the like in manufacturing and processing of the protective film.
１００℃を超える高温においても、基材の融解や変形が無く、しかも、保護フィルムの製造時や加工時、ロール状に巻回する際等に破断や裂けが生じない、ポリ乳酸系基材を有する保護フィルムを提供する。 - 特許庁 - To provide a thermoplastic resin composition capable of providing a molded product having impact resistance and rigidity hardly reduced even if the kneading and molding processing is carried out at high temperature; and to provide the molded product having the excellent impact resistance and rigidity even if the composition is formed into an alloy with an engineering plastic.
高温で混練、成形加工を行っても、耐衝撃性、剛性の低下が少ない成形品を得ることができる熱可塑性樹脂組成物、およびエンジニアリングプラスチックとアロイ化しても耐衝撃性、剛性に優れた成形品を提供する。 - 特許庁 - To provide a mask for artificial respiration capable of providing soft adhesion to the face of a sick person and reducing air leakage at the time of mounting the mask on the face of the sick person and executing a high temperature sterilization processing at the time of repeatedly using it further.
傷病人の顔面に対してマスクを装着する際、傷病人の顔面に対するソフトな密着性と空気漏れを少なくし、更に繰返し使用する際の高温減菌処理を可能とした人工呼吸用マスクを提供する。 - 特許庁 - To provide an easy low-cost method for producing a food by electric conductive processing, capable of evenly and sufficiently raising the temperature of the surface part and the central part of a food material soaked in water or a dilute solution.
本発明の課題は、水又は希薄溶液に浸漬した食品材料の表層部と中央部とを均一にかつ十分に昇温することが出来る、簡便かつ低コストな通電加熱食品の製造方法を提供することである。 - 特許庁 - To further efficiently perform filter regenerating processing, by restraining an excessive temperature rise in a filter, in an internal combustion engine having the filter in an exhaust passage for collecting PM in exhaust gas.
本発明は、排気中のＰＭを捕集するフィルタを排気通路に備えた内燃機関において、フィルタが過昇温するのを抑制すると共に、フィルタ再生処理をより効率的に行うことが可能な技術を提供することを課題とする。 - 特許庁 - To provide a method and apparatus for a heat treatment, capable of efficiently and continuously processing a plurality of substrates by preventing a damage on the substrates or deflection of them which is caused by an abrupt temperature changes or local heating.
急激な温度変化や局部的な加熱等による被処理基板へのダメージや被処理基板の反りを防止し、複数の被処理基板を連続的に効率よく処理することができる熱処理装置および熱処理方法を提供すること。 - 特許庁
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