「template method pattern」を含む例文一覧(103)
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インプリント用テンプレート、その製造方法及びパターン形成方法 - 特許庁 - TEMPLATE AND PATTERN FORMING METHOD
テンプレート及びパターン形成方法 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING PATTERN, AND TEMPLATE
パターン形成方法及びテンプレート - 特許庁 - TEMPLATE, ITS PRODUCING METHOD TEMPLATE, AND PATTERN FORMING METHOD
テンプレート、テンプレートの製造方法およびパターンの形成方法 - 特許庁 - TEMPLATE CHECKING METHOD AND PATTERN FORMING METHOD
テンプレート検査方法及びパターン形成方法 - 特許庁 - TEMPLATE, SURFACE TREATMENT METHOD FOR TEMPLATE, SURFACE TREATMENT APPARATUS FOR TEMPLATE AND PATTERN FORMING METHOD
テンプレート、テンプレートの表面処理方法、テンプレート表面処理装置及びパターン形成方法 - 特許庁 - TEMPLATE CLEANING METHOD AND PATTERN FORMING METHOD
テンプレートの洗浄方法及びパターン形成方法 - 特許庁 - PATTERN FORMATION METHOD, PATTERN FORMATION DEVICE, AND TEMPLATE MANUFACTURING METHOD
パターン形成方法、パターン形成装置、及びテンプレート作製方法 - 特許庁 - IMPRINT TEMPLATE AND PATTERN FORMING METHOD
インプリント用のテンプレート及びパターン形成方法 - 特許庁 - IMPRINTING TEMPLATE, MANUFACTURING METHOD OF IMPRINTING TEMPLATE, AND PATTERN FORMATION METHOD
インプリント用テンプレート、インプリント用テンプレートの製造方法及びパターン形成方法 - 特許庁 - METHOD FOR DESIGN OF TEMPLATE PATTERN, METHOD OF MANUFACTURING TEMPLATE, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
テンプレートパターンの設計方法、テンプレートの製造方法及び半導体装置の製造方法。 - 特許庁 - PATTERN FORMING TEMPLATE, PATTERN FORMING METHOD AND NANO-IMPRINTER
パターン形成用テンプレート、パターン形成方法、及びナノインプリント装置 - 特許庁 - TEMPLATE CHUCK, IMPRINT DEVICE, AND PATTERN FORMATION METHOD
テンプレートチャック、インプリント装置、及びパターン形成方法 - 特許庁 - TEMPLATE, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND METHOD OF FORMING PATTERN
テンプレート及びその製造方法、並びにパターン形成方法 - 特許庁 - TEMPLATE HISTOGRAM FORMING METHOD AND PATTERN INSPECTION DEVICE
テンプレートヒストグラム生成方法およびパターン検査装置 - 特許庁 - DEVICE FOR FORMING PATTERN, METHOD OF FORMING THE SAME AND TEMPLATE THEREFOR
パターン形成装置、パターン形成方法及びテンプレート - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD OF MATERIAL PATTERN, TEMPLATE, AND MANUFACTURING METHOD OF MICROMACHINE
材料パターンの製造方法、テンプレート及びマイクロマシンの製造方法 - 特許庁 - OPTIMUM TEMPLATE PATTERN DECIDING METHOD, DECIDING DEVICE, EVALUATING METHOD USING OPTIMUM TEMPLATE PATTERN, EVALUATING DEVICE AND RECORDING MEDIUM
最適テンプレートパターン決定方法，決定装置，最適テンプレートパターンを用いた評価方法，評価装置および記録媒体 - 特許庁 - PATTERN FORMING METHOD, SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD AND TEMPLATE MANUFACTURING METHOD
パターン形成方法、半導体装置の製造方法およびテンプレートの製造方法 - 特許庁 - To provide a template which realizes a pattern forming method with high productivity; a surface treatment method for the template; a surface treatment apparatus for the template; and the pattern forming method.
生産性の高いパターン形成方法を実現するテンプレート、テンプレートの表面処理方法、テンプレートの表面処理装置及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - OPTIMUM TEMPLATE PATTERN SEARCHING METHOD, SEARCHING DEVICE AND RECORDING MEDIUM
最適テンプレートパターン探索方法，探索装置および記録媒体 - 特許庁 - To provide a pattern formation method capable of easily forming a fine pattern, and a pattern formation device and a template manufacturing method.
微細パターンを簡便に形成できるパターン形成方法、パターン形成装置、及びテンプレート作製方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an imprinting template which can reduce the frequency of original template re-production, a method of manufacturing the imprinting template, and a pattern formation method.
原版の再作成頻度を低減できるインプリント用テンプレート、インプリント用テンプレートの製造方法及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD OF TEMPLATE AND TREATED BASE MATERIAL HAVING TRANSFER FINE PATTERN
テンプレートおよび転写微細パターンを有する処理基材の製造方法 - 特許庁 - The carbon structure production method comprises molding a carbon-containing material into a pattern, covering the obtained pattern with a template, and carbonizing the pattern by firing.
含炭素材料をパターンに成形した後、得られたパターンを原形型で被覆し、焼成して炭素化させる。 - 特許庁 - To provide an evaluation method of template images that evaluate template images in the determination of a template image used in pattern matching.
本発明は、パターンマッチングに用いるテンプレート画像を決定する際に、テンプレート画像を評価する方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - GENERATION OF TEMPLATE USED FOR MATCHING IN PATTERN IDENTIFICATION, AND METHOD, APPARATUS, AND PROGRAM FOR PATTERN IDENTIFICATION USING THE TEMPLATE
パターン識別における照合に用いられるテンプレートの生成ならびに同テンプレートを用いたパターン識別のための方法、装置、およびプログラム - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND METHOD FOR FORMING TEMPLATE AND PATTERN INSPECTION DATA
半導体装置の製造方法およびテンプレート、並びにパターン検査データの作成方法 - 特許庁 - To provide a template for preventing defects in a pattern form, a method for manufacturing the template, and a method for manufacturing a semiconductor device.
パターン形状の欠陥を抑制するテンプレートとその製造方法、及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an imprint template and an imprinting method capable of preventing damage to a pattern in a step of parting a template from the pattern.
テンプレートをパターンから離型する工程において、パターンが破壊することを防止するインプリント用テンプレート及びインプリント方法を提供する。 - 特許庁 - DEVICE AND METHOD FOR ACQUIRING VEIN PATTERN, AND VEIN TEMPLATE
静脈パターン取得装置、静脈パターン取得方法および静脈テンプレート - 特許庁 - To provide a method for forming a pattern for imprinting having a high-accuracy fine pattern and to provide a template producing method.
高精度の微細パターンを有するインプリント用のパターンの形成方法およびテンプレートの製造方法を提供する。 - 特許庁 - The method of manufacturing the template includes a process for preparing a first template 10 that has a device pattern and two or more identification patterns, and a process for transcribing the device pattern and at least one desired identification pattern on a template substrate 30 to form a second template.
デバイスパターン及び複数の識別パターンを有する第１のテンプレート１０を用意する工程と、デバイスパターン及び少なくとも１つの所望の識別パターンをテンプレート基板３０に転写して第２のテンプレートを形成する工程とを備える。 - 特許庁 - To provide a template matching method by which erroneous determination is prevented even when a ground pattern appears in extracting a pattern matched with a template from the images using a design pattern as the template, and to provide a scanning electron microscope.
設計パターンをテンプレートとし、画像からテンプレートと一致するパターンを抽出するときに、画像に下地パターンが現れていても誤判断のないテンプレートマッチング方法、および走査電子顕微鏡を提供する。 - 特許庁 - To provide a template suppressing defect of a transfer layer, and a pattern forming method.
転写層の欠陥を抑制するテンプレート及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for producing an imprint template having a high-accuracy fine pattern.
高精度の微細パターンを有するインプリント用テンプレートの製造方法を提供する。 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR PATTERN RECOGNITION AND RECORD MEDIUM WHERE TEMPLATE GENERATING PROGRAM IS RECORDED
パターン認識方法及び装置並びにテンプレート作成プログラムを記録した記録媒体 - 特許庁 - An image of a region including the line string pattern is obtained by template matching using a correlative method.
相関法を用いたテンプレートマッチングにより、線列パターンを含む領域の画像を得る。 - 特許庁 - By this method, the possibility that a template patterns which includes important words more numerously is selected as the optimum template pattern becomes high.
この方法により、重要単語をより多く含むテンプレートパターンが、最適テンプレートパターンとして選択される可能性が高くなる。 - 特許庁 - The method of forming a pattern includes: acquiring information on a template pattern formed on a template based on template pattern data; setting a resist coating distribution based on the information on the template pattern; applying resist onto a substrate based on the resist coating distribution; bringing the template into contact with the resist applied onto the substrate; filling the resist into the template pattern; curing the filled resist; and separating the template from the resist.
テンプレートパターンデータに基づいてテンプレートに形成されたテンプレートパターンの情報を取得し、前記テンプレートパターンの情報に基づき、レジスト塗布分布を設定し、前記レジスト塗布分布に基づいて、基板上にレジストを塗布し、前記基板上に塗布したレジストに前記テンプレートを接触させ、前記テンプレートパターン内に前記レジストを充填させ、前記充填したレジストを硬化し、前記テンプレートを前記レジストから離すことを備えたパターン形成方法。 - 特許庁 - To provide a template for an imprint which radiates light having uniform light intensity to a photocurable resin in a template region, and to provide a manufacturing method and a pattern formation method of the template.
テンプレート領域内において光硬化樹脂に均一な光強度の光を照射することができるインプリント用テンプレート、その製造方法及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method with which damage hardly occurs when releasing the template, and a method of manufacturing a semiconductor device using the pattern forming method.
テンプレートを剥離する際に破壊されにくいパターン形成方法及びこのパターン形成方法を用いた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - An imprinting method includes dropping a resist as a transfer material to a transfer object substrate on which a template pattern formed on a template is transferred.
実施形態のインプリント方法では、テンプレートに形成されたテンプレートパターンが転写される被転写基板に、転写材としてのレジストを滴下する。 - 特許庁 - To provide a template repair method, along with a pattern forming method and template repair apparatus, capable of repairing a defective part of a base material with a release layer formed on the surface thereof.
表面に離型層が形成された母材の欠損部分を補修することができるテンプレート補修方法、パターン形成方法及びテンプレート補修装置を提供する。 - 特許庁 - To prepare a second template from a first template by an imprinting method and to accurately form an alignment mark without degrading an error in relative positional accuracy between a main pattern and a peripheral pattern of the second template.
第１のテンプレートからインプリント法により第２のテンプレートを作製することができ、且つ第２のテンプレートにおけるメインパターンと周辺パターンとの間の相対的な位置精度誤差を劣化させることなく、アライメントマークを精度良く形成する。 - 特許庁 - To provide a template-matching method capable of efficiently making success of template-matching, even if works of different pattern data are provided.
パタンデータの異なるワークが供給された場合でも効率的にテンプレートマッチングを成功させることができるテンプレートマッチング方法の提供を目的とする。 - 特許庁 - The method for forming an imprint pattern includes: contacting a template having a pattern with a resist on a substrate to be treated; releasing the template from the resist after curing the resist to form a resist pattern such that the resist pattern is transferred to the substrate to be treated.
パターンを有するテンプレートを被処理基板上のレジストに対して接触させ、前記レジストを硬化したのち前記テンプレートを前記レジストから離型してレジストパターンを形成し、前記レジストパターンを前記被処理基板に転写形成する。 - 特許庁 - To provide a template which can increase the location accuracy of a pattern transcribed to a nanoimprint material layer, and a pattern forming method.
ナノインプリント材料層に転写されたパターンの位置精度を高めることが可能なテンプレート及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an automatic generation of a template used for multistage which matches pattern identification, and to provide a method, an apparatus, and a program for realizing pattern identification which uses the template.
パターン識別における多段階の照合（マッチング）に用いられるテンプレートの自動生成ならびに同テンプレートを用いたパターン識別を実現するための方法、装置、およびプログラムを提供すること - 特許庁 - Thus, it is possible to realize highly precise pattern recognition which is hardly affected by a background pattern by using the sub-divided template images configured by this method.
これらの方法で構成した細分化テンプレート画像を用いて、背景パターンに影響されにくい高精度パターン認識を実現する。 - 特許庁
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