「template method pattern」を含む例文一覧(103)
＜前へ 1 2 3 次へ＞- To provide a pattern transfer method which attains high throughput by suppressing the occurrence of pattern defect in a step for removing a template from a resist.
レジストからテンプレートを離す工程において、パターン欠陥の発生を抑制し高スループットを実現するパターン転写方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an imprinting method capable of filling a recessed portion of a template pattern with a transfer material in a short period of time.
転写材を短時間でテンプレートパターンの凹部に充填することができるインプリント方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide: a template achieving a highly accurate size by correcting sizes of depressions and projections, and allowing a plurality of duplicate templates of different sizes to be efficiently produced from a same mother template; a method of manufacturing the template; and a method of forming a pattern.
凹凸の寸法を補正して高精度の寸法を実現し、また、同一のマザーテンプレートから異なる寸法を有する複数の複製テンプレートを効率的に作製可能なテンプレート、テンプレートの製造方法、及び、パターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - This method of generating an uneven pattern is provided as a method of forming patterns in which uneven patterns in a template are filled with resist materials, and the depth of the uneven pattern formed in the template is adjusted or the uneven pattern is divided based on the relation between the size or shape of the uneven pattern and the charge time of the resist material.
テンプレートの凹凸パターンにレジスト材料を充填するパターン形成方法に用いられる凹凸パターンの生成方法であって、凹凸パターンの寸法又は形状とレジスト材料の充填時間の関係に基づいて、テンプレートに形成する凹凸パターンの深さを調整する、又は、凹凸パターンを分割する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a semiconductor device that avoids a defect of a transfer pattern caused by a defect in charging a mask material in a pattern formed on a template in an imprinting method.
インプリント法において、テンプレートに形成されたパターンへのマスク材料の充填不良に伴う転写パターンの不良を回避する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern formation method capable of improving a filling characteristic of a filling material to a template pattern in an imprint lithography method for use to manufacture a semiconductor device etc.
半導体装置等の製造に用いられるインプリントリソグラフィ方法において、テンプレートパターンへの充填材料の充填特性を向上することができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To register a template image to be used for an alignment in an optimum method to reduce a time required for error and evaluation in pattern matching.
アライメンに使用するテンプレート画像を最適な方法で登録し、パターンマッチングのエラー、及び評価に要する時間を低減する。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method with high productivity that suppresses breakage of a template by particles and the like during a process.
工程中のパーティクルなどによってテンプレートが破壊されることを抑制した高生産性のパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The pattern forming method can include selectively providing a curing agent to a pattern in a template having the pattern, contacting the template provided the curing agent to a substrate, irradiating the curing agent with light where the template and the substrate are contacted each other to harden the curing agent, demolding the template from the substrate to form a curing agent pattern on the substrate after the curing agent is hardened, and processing the substrate on a basis of the curing agent pattern.
パターンを有するテンプレートのパターンに選択的に硬化剤を供給し、硬化剤が供給されたテンプレートと被処理基板を接触させ、テンプレートと被処理基板を接触させた状態で光を硬化剤に照射することにより硬化剤を硬化し、硬化剤を硬化後、テンプレートを被処理基板から離して硬化剤パターンを被処理基板上に形成し、硬化剤パターンに基づき、被処理基板を加工することを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁 - To provide a template with which a protrusion pattern of large area can be formed efficiently by NIL with high precision, and to provide a manufacturing method, a patterning method and a processing method.
ＮＩＬにより効率良く且つ精度の良く大面積の凸部パターンの形成を可能とするテンプレートおよび製造方法、パターン形成方法、加工方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an image processing method and a device which can accurately perform template matching to a multilayer pattern in a short time.
多層パターンに対してテンプレート・マッチングを短時間で且つ正確に行うことができる画像処理方法及び装置を提供する。 - 特許庁 - In this processing method for surface, a guide member 3 or a template 4 is placed along the surface of the ALC panel 1, a cutting tool 5 is moved along the guide member 3 or template 4 and a pattern is formed.
表面加工方法は、ＡＬＣパネル１の表面に案内部材３又はテンプレート４を沿わせ、該案内部材３又はテンプレート４に沿って切削工具５を移動させて模様を形成する。 - 特許庁 - In this processing method for surface, a guide member 3 or a template 4 is placed along the surface of the ALC panel 1, a hammer tool 5 is moved along the guide member 3 or template 4 and a pattern is formed.
表面加工方法は、ＡＬＣパネル１の表面に案内部材３又はテンプレート４を沿わせ、該案内部材３又はテンプレート４に沿って打撃工具５を移動させて模様を形成する。 - 特許庁 - In addition, the imprint template 20 is used in order to imprint a pattern on a board 34, and the variation of the size and/or shape of the imprint template 20 are measured while the pattern is imprinted on the board 34 by this lithography method.
さらに、パターンを基板３４上にインプリントするためにインプリントテンプレート２０を使用することと、パターンを基板３４上にインプリントする間、インプリントテンプレート２０のサイズおよび／または形状の変化を測定することとを含む、リソグラフィ方法。 - 特許庁 - The template with an identification mark used in an optical imprinting method has a main pattern region 12 wherein a desired pattern is formed in an irregular form on a front surface of a light transmissive substrate 11 and includes the pattern forming template 10 used for optical imprinting, and the identification mark 15 formed on a rear surface of the substrate 11 to partially overlap the main pattern region 12 for individual identification of each template.
光インプリント法に使用する識別マーク付きテンプレートであって、光透過性の基板１１の表面に所望のパターンが凹凸形状で形成されたメインパターン領域１２を有し、光インプリントに用いられるパターン形成用テンプレート１０と、基板１１の裏面に、メインパターン領域１２と一部重なるように設けられた、テンプレートの個別識別を可能にするための識別マーク１５と、を具備してなる。 - 特許庁 - To provide a reference pattern determination method that evaluates processing performance as well when doing position measurement, and prepares a template to be used for matching.
位置計測処理を行う際の処理性能をも評価してマッチングに使用するテンプレートを作成する基準パターン決定方法を提供する。 - 特許庁 - The nano-imprint method includes: forming a pattern on a first transferred substrate by imprint using a template; measuring misalignment with respect to the first transferred substrate of the pattern; preparing a template for production based on the used template by correcting the misalignment based on the measured misalignment; and forming a pattern on a second transferred substrate by imprint using the template for production.
実施の形態に係るナノインプリント法は、テンプレートを用いてインプリントし、第１の被転写基板上にパターンを形成する工程と、前記パターンの前記第１の被転写基板に対する合わせずれを計測する工程と、計測した前記合わせずれに基づいて合わせずれの補正を行ない、前記テンプレートから本番用テンプレートを作製する工程と、前記本番用テンプレートを用いてインプリントし、第２の被転写基板上にパターンを形成する工程とを有する。 - 特許庁 - The pattern transfer method for filling a concave-convex pattern on a template with a resist material includes steps of: contacting the template with the resist material applied on a substrate, curing the resist while contacting the template with the resist, electrically charging the template and the cured resist with an identical polarity, and removing the template from the resist material while eclectically charging the template and the resist with an identical polarity.
テンプレートの凹凸パターンにレジスト材料を充填するパターン転写方法であって、前記テンプレートを基板上に塗布された前記レジスト材料に接触させる工程と、前記レジストに前記テンプレートを接触させた状態で前記レジストを硬化させる工程と、前記テンプレート及び硬化した前記レジスト材料を同じ極性に帯電させる工程と、前記テンプレート及び前記レジスト材料を同じ極性に帯電させた状態で、前記レジスト材料から前記テンプレートを離すことを特徴とするパターン転写方法。 - 特許庁 - The imprint method performs multiple times: a step of transferring an indented pattern on an imprint material by bringing the indented pattern formed on the template into contact with the imprinted material on a substrate; and a step of imaging the indented pattern formed on the template after the transferring step, or the imprint material.
実施の形態のインプリント方法によれば、テンプレートに形成された凹凸パターンを基板上のインプリント材料に接触させて凹凸パターンをインプリント材料に転写する工程と、転写する工程の後にテンプレート又はインプリント材料に形成された凹凸パターンを撮像する工程とを複数回行う。 - 特許庁 - To provide a unified template matching method for obtaining accurate matching position even in an image which has distortion in pattern shape and the variation in edge intensity.
パターン形状に歪みがあり、エッジ強度にバラつきがある画像においても、的確なマッチング位置が得られる統一的なテンプレート・マッチング手法を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method in which a template is prevented from being damaged due to unevenness or a foreign substance present on a substrate to be treated when forming a pattern on the substrate to be treated using a nano-imprint.
ナノインプリントを用いた被処理基板へのパターン形成時に、被処理基板に存在する凹凸や異物によってテンプレートが破損することを防止するパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a pattern matching method for realizing high-speed pattern matching processing by using potential space data where a score value is set in accordance with a relative position relation from a figure template.
図形テンプレートからの相対的な位置関係に応じてスコア値を設定したポテンシャル空間データを利用することにより、高速なパターンマッチング処理を実現したパターンマッチング方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a photocatalyst lithography method using a template provided with a predetermined pattern made of a photocatalyst on a light-transmissive substrate, the photocatalyst lithography method being characterized in that a high-precision fine pattern with a high contrast can be formed on a work surface in a short time; and to provide the template used therefor.
光透過性基板上に光触媒よりなる所定のパターンを設けたテンプレートを用いた光触媒リソグラフィ法において、被加工物表面にコントラストが高く高精度の微細パターンを短時間に形成することができる光触媒リソグラフィ法およびそれに用いるテンプレートを提供する。 - 特許庁 - A pattern formation method includes the steps of: placing a target object on the substrate; bringing the uneven pattern 21 into contact with the target object using the imprinting template 110 made of a resin having the uneven pattern formed on the pedestal base 10; and releasing the imprinting template 110 from the target object and imprinting the pattern shape of the uneven pattern 21 onto the object after the object is cured.
基板上に被転写物を設ける工程と、台座基板１０に形成された樹脂による凹凸パターンを有するインプリント用テンプレート１１０を用い、凹凸パターン２１を被転写物に接触させる工程と、被転写物を硬化させた後、インプリント用テンプレート１１０を被転写物から離型し、被転写物に凹凸パターン２１の形状を転写する工程と、を備えたパターン形成方法である。 - 特許庁 - To provide a method for efficiently manufacturing a template which is almost free from warpage or torsion, at a low cost, with regard to the template to be used when a housing cladding material of a ceramics system bearing an uneven pattern as a design on the surface is manufactured.
表面に意匠としての凹凸模様が形成された窯業系の住宅外装材を生産する際に使用される型板において反りやねじれの少ない型板を効率よく低コストで生産する方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a template in which the gap region of a substrate to be processed can be covered with an imprint resist uniformly with good reproducibility, a method of manufacturing the same, and to provide a method of forming a pattern.
被加工基板の隙間領域を、均一に且つ再現性良く、インプリントレジストで覆うことが可能なテンプレート及びその製造方法、並びにパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The pattern forming method includes the step of heat-expanding the template by irradiating the optical absorption part with irradiating light before or during the step of transcribing the element pattern to the nanoimprint material layer, to displace the position of the element pattern.
ナノインプリント材料層に素子パターンを転写する工程の前又は最中に、前記光吸収部に照射光を照射して前記テンプレートを熱膨張させることで前記素子パターンの位置を変位させることを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a template having a fine pattern for forming a photo-curing resin, equipped with light transmittance, mold release characteristics, durability, mechanical strength and shape stability and also including dimensional precision of the fine pattern.
光透過性、離型性、耐久性、機械的強度、形状安定性を備え、かつ微細パターンの寸法精度を備える、光硬化性樹脂を成形するための微細パターンを有するテンプレートの製造方法の提供。 - 特許庁 - To provide an imprint pattern forming method which determines the replacing frequency of a template efficiently, and suppresses the deterioration of throughput associated with the increase of the replacing frequency, and the deterioration of yield of pattern formation associated the decrease of the replacing frequency.
テンプレートの交換頻度を効率的に決定し、交換頻度の増大に伴うスループットの低下や、交換頻度の減少に伴うパターン形成の歩留まり低下を抑制するインプリントパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a template, which has light transmittance, mold releasability, durability, mechanical strength, shape stability and the dimensional precision of a fine pattern and also has the fine pattern for molding a photosetting resin.
光透過性、離型性、耐久性、機械的強度、形状安定性を備え、かつ微細パターンの寸法精度を備える、光硬化性樹脂を成形するための微細パターンを有するテンプレートの製造方法の提供。 - 特許庁 - A template surface treatment method includes hydroxylating the surface of a template having an uneven pattern or absorbing water on the surface to distribute OH radicals on the surface, and coupling a coupling agent on the template surface on which the OH radicals are distributed.
本実施形態によれば、テンプレートの表面処理方法は、凹凸を有するパターン面を備えたテンプレートの表面を水酸化するか又は前記表面に水を吸着させて、前記表面にＯＨ基を分布させる工程と、前記ＯＨ基が分布したテンプレート表面にカップリング剤を結合させる工程と、を備える。 - 特許庁 - To provide a template adjustment method for adjusting a template described with the features of a defect distribution pattern as the reference of classification for classifying defect distribution on the surface of a substrate, and for automatically adjusting a template set by a person so that it can be more accurately fitted for the actual defect distribution.
基板の表面上の欠陥分布を分類するために、分類の基準となる欠陥分布パターンの特徴が記述されたテンプレートを調整するテンプレート調整方法であって、人が設定したテンプレートを、実際の欠陥分布により正確に適合するように自動的に調整できるものを提供すること。 - 特許庁 - To provide a method and an apparatus for the purpose of appropriately setting the acquisition condition of a search area when performing pattern recognition by a template.
本発明は、テンプレートによってパターン認識を行う際の探索領域の取得条件を適正に設定することを目的とした方法、及び装置の提供を目的とする。 - 特許庁 - In the method of manufacturing template, an equivocally characteristic image pattern existing in an area which is certainly contained in an image picking-up visual field is adopted as a template in all areas which may be contained in the image picking-up visual field when picking up the image of an object (steps 121-129).
物体の撮像の際に撮像視野に入る可能性がある全領域において、一義的に特徴的であって、撮像視野に必ず入る領域に存在する画像パターンをテンプレートとして採用する（ステップ１２１〜１２９）。 - 特許庁 - To provide a system or method that aids a nonnative speaker in preparing a document without collocation errors, and a method that constructs a collocation error pattern or template database.
文書の準備をコロケーション誤りなしに行う場合に母国語でない話者を支援するシステムまたは方法、およびコロケーション誤りパターンまたはテンプレートデータベースを構築する方法を提供すること。 - 特許庁 - In order to achieve the objective, the method and the device are proposed to carry out a first pattern-matching on an image information in which a plurality of layers are expressed by using a first template in which shapes of the upper part of the pattern are selectively expressed.
上記目的を達成するために、パターン上部の形状が選択的に表現された第１のテンプレートを用いて、複数層が表現された画像情報上で第１のパターンマッチングを行う方法、及び装置を提案する。 - 特許庁 - A method includes forming an imprint on a medium to be imprinted, having a pattern feature and a decreased thickness area, making a template contact the medium to be imprinted on a substrate, separating the template from an imprinted medium, and after the template has been separated from the imprinted medium, providing a layer of an etching resistance material in a pattern feature.
インプリント方法が開示され、一実施例において、パターン・フィーチャと低減された厚みのエリアとを備えるンプリント可能な媒体にインプリントを形成するために、基板上のインプリント可能な媒体にテンプレートを接触させることと、テンプレートをインプリントされた媒体から分離することと、テンプレートをインプリントされた媒体から分離した後に、パターン・フィーチャにエッチ抵抗材料の層を備えることとを含む。 - 特許庁 - A pattern forming method comprises the steps of applying silver nano paste 3 containing conductive particles on a front surface of a template 1 made of resin to which a pattern 1c including an unevenness is applied, and forming a pattern 5 of a conductive material on a substrate 4 by pushing the front surface on the substrate 4 (that is, by carrying out a contact print).
凹凸を含むパターン１ｃが施された樹脂製テンプレート１の表面に、導電性粒子を含む銀ナノペースト３を塗布し、当該表面を基板４上に押し当てる（すなわちコンタクトプリントを行う）ことにより基板４上に導電材のパターン５を形成する。 - 特許庁 - To provide a device and method for acquiring a vein pattern, and a vein template, for improving the security of a vein authentication system while reducing a false rejection rate.
本人拒否率を低下させ、静脈認証システムのセキュリティ性を向上させることが可能な静脈パターン取得装置、静脈パターン取得方法および静脈テンプレートを提供する。 - 特許庁 - Further in this reforming method, the hammer tool 5 is moved along the guide member 3 or template 4 which is placed along the conventional external wall made of the ALC panels 1, thereby, a pattern is formed and the reforming is performed.
リフォーム方法は、ＡＬＣパネル１からなる既存の外壁面に沿わせた案内部材３又はテンプレート４に沿って打撃工具５を移動させて模様を形成してリフォームする。 - 特許庁 - To provide a high-quality pattern transfer method and an apparatus which can have excellent positioning accuracy between a transfer target substrate and a transfer template and have extremely small positional displacement distribution.
被転写基板と転写原版とのとの位置合わせ精度に優れた、位置ずれ分布の極めて小さい高品質のパターン転写方法およびパターン転写装置を提供すること。 - 特許庁 - There is provided: a method comprising conducting lithography to form a first pattern on a substrate, and conducting block-copolymer self-assembly to form a second pattern on the substrate; a patterned substrate template; and a method comprising a combination of lithography and self-assembly techniques.
リソグラフィを行ない、基板上に第１のパターンを形成する工程と、ブロック共重合体自己組織化を行ない、基板上に第２のパターンを形成する工程とを含む方法、パターン化基板テンプレート、およびリソグラフィ技術と自己組織化技術との組合せを含む方法が提供される。 - 特許庁 - In this detection method, the even-numbered or odd-numbered field images are stored as template images for one route number of a route bus and the pattern matching of the successive even-numbered and odd-numbered field images of the route number photographed by a television camera and the template images is performed.
一方、フィールド画像を処理する場合には実際に取り込んだ路線番号の画像が奇数フィールド画像か偶数フィールド画像かで相関値にバラツキが生じて検知漏れを引き起こすといった問題が生じると共に適切なしきい値の設定が困難であるとといった問題があった。 - 特許庁 - Further in this reforming method, the cutting tool 5 is moved along the guide member 3 or template 4 which is placed along the conventional external wall made of the ALC panels, thereby, a pattern is formed and the reforming is performed.
またリフォーム方法は、ＡＬＣパネルからなる既存の外壁面に沿わせた案内部材３或いはテンプレート４に沿って切削工具５を移動させることで、模様を形成してリフォームする。 - 特許庁 - The method for forming a film pattern includes the steps of (a) positioning an energy-cure material for film formation on a substrate, and (b) applying energy to the film forming material with the pattern and the film-forming material being contacted with each other, with the use of a template having a pattern having raised and recessed portions.
本発明の膜パターンの形成方法は、（ａ）エネルギー硬化型の膜形成用材料を基体上に配置する工程と、（ｂ）凸部および凹部を含むパターンを有するテンプレートを使用して、前記パターンと前記膜形成用材料とを接触させた状態で、該膜形成用材料にエネルギーを付与する工程と、を含む。 - 特許庁 - To provide a method that can precisely track an object to be tracked even if an image pattern of a template including the object to be tracked includes a strong background feature and if the object to be tracked has no motion.
追跡対象物体を含むテンプレートの画像パターンに背景の強い特徴が含まれている場合や追跡対象物体に動きが無い場合でも、追跡対象物体を精度良く追跡できる方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an ultrasonograph, a medical image analysis instrument and method that have improved the measurement precision by optimizing a template size when a pattern patching is performed by using a mutual correlation process to medical image data.
医用画像データに対して相互相関処理を用いてパターンパッチングを行う際のテンプレートサイズの最適化により、計測精度を向上させた超音波診断装置、医用画像解析装置及び医用画像解析方法を提供する。 - 特許庁 - The inspection method of an element mounted to a substrate includes a stage of generating a shape template corresponding to the element, a stage of irradiating the substrate with the lattice pattern light of an illumination part to acquire height information at each pixel, a stage of generating a contrast map corresponding to the height information at each pixel, and a stage of comparing the contrast map with the shape template.
基板に装着された素子の検査方法において、素子に対応する形状テンプレートを生成する段階と、照明部の格子パターン光を基板に照射してピクセル別高さ情報を獲得する段階と、ピクセル別高さ情報に対応してコントラストマップを生成する段階と、コントラストマップと形状テンプレートとを比較する段階と、を含む。 - 特許庁 - A method of forming a nanostructure aggregate includes steps for transferring a nano-pattern from a porous anodized aluminum template to a mask material layer, and growing a nanostructure on an unreformed growth surface of a substrate in regions exposed through the nano-pattern formed in the mask material layer by a bottom-up growth method where the nanostructure is composed of nano-rings or nano-doughnuts.
多孔質陽極酸化アルミニウムテンプレートからマスク材層にナノパターンを転写し、マスク材層のナノパターンを介して露出された領域において基板上にボトムアップ成長法によって基板の未改質成長面上に形成されたナノ構造体を成長させ、前記ナノ構造体が、ナノリング又はナノドーナツからなることを特徴とするナノ構造体集合体を製造する方法。 - 特許庁 - The method includes: a step of bringing a main pattern part 20 formed on a template 2 into contact with a resist material 5 arranged on a film 4 to be processed; and a step of adjusting a distance so that the distance between a surface of the film 4 and the surface opposed to the film 4 of the main pattern part 20 becomes a predetermined distance while the main pattern part 20 is brought into contact with the resist material 5.
半導体装置の製造方法は、テンプレート２に形成された主要パターン部２０と被加工膜４上に配置されたレジスト材５とを接触させる工程と、主要パターン部２０とレジスト材５との接触状態において、被加工膜４の表面と主要パターン部２０の被加工膜４に対向する表面との距離が所望の距離となるように距離を調整する工程と、を含む。 - 特許庁
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