「type pattern」を含む例文一覧(2287)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 45 46 次へ＞- NEGATIVE TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PRODUCTION OF PATTERN AND ELECTRONIC PARTS
ネガ型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品 - 特許庁 - POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING SAME
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁 - FILM IN-MOLD TYPE MANUFACTURING METHOD OF PLASTIC MOLDED BODY WITH EMBOSSED PATTERN
シボ模様付きプラスチック成形体のフィルムインモールド式製造方法 - 特許庁 - INTERNAL COMBUSTION ENGINE WITH INJECTION PATTERN CHANGE-OVER TYPE FUEL INJECTION DEVICE
噴射パターン切換式燃料噴射装置を備えた内燃機関 - 特許庁 - ALKALINE DEVELOPMENT TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN
アルカリ現像型感光性樹脂組成物及びパターン形成方法 - 特許庁 - FORMING METHOD AND DEVICE OF EMBROIDERY PATTERN IN MULTIHEAD TYPE EMBROIDERING MACHINE
多頭式刺繍機における刺繍模様の形成方法と装置 - 特許庁 - POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERN AND ELECTRONIC PARTS
ポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品 - 特許庁 - NEGATIVE TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN AND ELECTRONIC PARTS
ネガ型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品 - 特許庁 - POSITIVE TYPE ACTIVE ENERGY BEAM-SENSITIVE DRY FILM AND PATTERN FORMING METHOD
ポジ型感活性エネルギー線性ドライフィルム及びパターン形成方法 - 特許庁 - POLYMER, CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING PATTERN
重合体、化学増幅型レジスト組成物、および、パターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION
ポジ型レジスト組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁 - PATTERN FORMATION METHOD, CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RESIST COMPOSITION, AND RESIST FILM
パターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜 - 特許庁 - To provide an antenna of a colinear type having an omni-directional radiation pattern.
全方向性放射パターンを持つコリニアタイプのアンテナを提供する。 - 特許庁 - ELECTRON BEAM TYPE PATTERN INSPECTING APPARATUS AND INSPECTION METHOD USING ELECTRON BEAM
電子線式パターン検査装置及び、電子線を用いた検査方法 - 特許庁 - SELECTIVE PATTERN FORMING METHOD OF INORGANIC SUBSTANCE AND GRID TYPE POLARIZATION ELEMENT
無機物の選択的パターン形成方法及びグリッド型偏光素子 - 特許庁 - A device is also provided for forming the pattern type photoresist layer.
パターン状フォトレジスト層を形成するための装置も提供する。 - 特許庁 - Pattern arrangement type data are previously stored in a data storage device 3, and by selecting an arrangement type by an arrangement type selection button 22, pattern arrangement is executed.
データ記憶装置３に模様の配置タイプデータを予め格納しておき、配置タイプ選択釦２２により配置タイプを選択することにより、模様の配置を実行する。 - 特許庁 - To make a flat pattern three-dimensionally visually confirmable in a reel type pattern display device for a game machine.
遊技機のリール式図柄表示装置において、平面図柄を立体的に視認可能にすることである。 - 特許庁 - The pattern inductor 7 is constituted of meander-type metallic thin film pattern whose self- inductance quantity is 20 nH, for example.
パターンインダクタ７は、たとえば自己インダクタンス量２０ｎＨのミアンダ型金属薄膜パターンで構成される。 - 特許庁 - The machine comprises a first roller 10 capable of transferring one type of a first pattern A for constituting the pattern to the material T, a second roller 11 capable of transferring another type of a second pattern B for constituting a pattern to the material T, and a third roller 12 capable of transferring the other type of a third pattern C for constituting a pattern to the material T.
模様を構成する一種の第１パターンＡをタイル素地Ｔに転写可能な第１ローラ１０と、模様を構成する他の一種の第２パターンＢをタイル素地Ｔに転写可能な第２ローラ１１と、模様を構成する他の一種の第３パターンＣをタイル素地Ｔに転写可能な第３ローラ１２とを有する。 - 特許庁 - A second semiconductor pattern having the first conduction type is laminated on the first semiconductor pattern.
前記第１半導体パターン上に前記第１導電型を有する第２半導体パターンが積層される。 - 特許庁 - A pulse pattern generator generates a pulse pattern of the switching signal given to the self-excitation voltage type converter.
パルスパターン発生器は、自励式電圧形変換器に与えられるスイッチング信号のパルスパターンを発生する。 - 特許庁 - An N-type impurity is injected selectively into a region in which an N-type transistor has been formed, and then a first insulating film 120 is deposited on the surfaces of the N-type gate pattern, the P-type gate pattern, and the substrate.
Ｎ型トランジスタ形成領域に選択的にＮ型不純物を注入し、その後、前記Ｎ型ゲートパターン、Ｐ型ゲートパターン及び基板表面上に第１絶縁膜１２０を蒸着する。 - 特許庁 - In the case that an edge pattern detected by pattern detection processing is not matched with the ideal pattern while the line type of the white line 30 has been settled, the edge pattern is verified with a deteriorated pattern (S18), and the white line 30 is recognized as a line type of the settled pattern when the edge lines match the deteriorated pattern.
そして、白線３０の線種が確定している状態において、パターン検出処理により検出されたエッジパターンが理想パターンと一致しないときに、そのエッジパターンを劣化パターンと照合し（Ｓ１８）、そのエッジ線が劣化パターンと一致したときに白線３０が確定済みパターンの線種として認識する（Ｓ２４）。 - 特許庁 - POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME
ポジ型感光性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁 - METHOD FOR SUPPORTING HOT-WIRE PATTERN DESIGNING OF PRINTED HOT-WIRE TYPE ANTIFOGGING GLASS
プリント熱線式防曇ガラスにおける熱線パターン設計支援方法 - 特許庁 - This pattern is detected by the CCD type detector, and memorized in a memory.
このパターンをＣＣＤ形検出器で検出しメモリに記憶する。 - 特許庁 - POLYMER COMPOUND, POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - POLYMER COMPOUND, POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
高分子化合物、ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁 - IMAGE ENCODING METHOD USING EMBEDDING TYPE ZERO TREE PATTERN AND BIT PLANE
埋込み型ゼロトリーパターン及びビットプレーンを使用する画像符号化方法 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE AND RESIST PATTERN
液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁 - POLYMER COMPOUND, POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD
高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME
化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE TYPE RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
ポジ型感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN-FORMING METHOD, AND HIGH-MOLECULAR COMPOUND
ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法および高分子化合物 - 特許庁 - As a result, the vehicular lamp can irradiate effectively and efficiently the light distribution pattern of condensing type and the light distribution pattern of diffusion type.
この結果、この発明は、集光タイプの配光パターンと拡散タイプの配光パターンとを有効にかつ効率良く照射することができる。 - 特許庁 - To provide a chemical amplification type positive type photoresist composition which ensures improved edge roughness of a pattern, gives an excellent resist pattern profile and has high sensitivity.
パターンのエッジラフネスが改良され、優れたレジストパターンプロファイルが得られる高感度の化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁 - ORGANIC SOLVENT TYPE PHOTOSENSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
有機溶剤型感光性レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION, HIGH MOLECULAR COMPOUND AND RESIST PATTERN FORMING METHOD
ポジ型レジスト組成物、高分子化合物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - The same operation is carried out by using a specimen cell or a cell group, and the obtained gene type pattern is compared with the mutated gene type pattern.
検体細胞または細胞集団において同様の操作を行い、得られた遺伝子型パターンを変異遺伝子型パターンと比較する。 - 特許庁 - CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME
化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - PATTERN FORMATION USING CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE NEW LOW MOLECULAR RESIST MATERIAL
化学増幅型新規低分子系レジスト材料を用いるパターン形成 - 特許庁 - POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN AND ELECTRONIC PARTS
ポジ型感光性樹脂組成物、パタ−ンの製造法および電子部品 - 特許庁 - POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY AND RESIST PATTERN-FORMING METHOD
液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - EMBOSSING MACHINE FOR PRODUCING TWO-PLY PAPER PRODUCT EQUIPPED WITH NESTING TYPE OR BUTTING TYPE EMBOSSED PATTERN
巣籠もり形又は突き合わせ形型押し模様を備えた２プライ紙製品を製作するエンボシング機械 - 特許庁 - BLANK FOR HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK AND HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD BY USING SAME
ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク及びそれを用いたハーフトーン型位相シフトマスク、並びにパターン転写法 - 特許庁 - To provide a binary-coding pattern creating method that can automatically create a centralized type of binary-coding pattern and simply create a minimum-sized binary-coding pattern.
集中型の二値化用パターンを自動的に作成できるほか、最小の二値化用パターンを簡便に作成することができるようにする。 - 特許庁 - THERMOSENSITIVE TYPE POLARITY CHANGING MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
感熱型極性変換材料およびそれを用いたパターンの形成方法 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
