「underlayer」を含む例文一覧(828)
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土壌の下層 - Weblio英語基本例文集 - ROOF UNDERLAYER MATERIAL
屋根下葺材 - 特許庁 - ROOF UNDERLAYER SHEET MATERIAL
屋根下葺シート材 - 特許庁 - UNDERLAYER COATING METHOD FOR LABELER
ラベラー下地塗布方法 - 特許庁 - UNDERLAYER MATERIAL PROCESSING APPARATUS
下地材加工装置 - 特許庁 - HEAT-INSULATION ROOF UNDERLAYER STRUCTURE
断熱屋根下地構造 - 特許庁 - UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION
下層膜形成組成物 - 特許庁 - ARTIFICIAL TURF UNDERLAYER STRUCTURE
人工芝の下地構造 - 特許庁 - CEILING UNDERLAYER STRUCTURE
天井下地構造 - 特許庁 - UNDERLAYER COMPOSITION AND METHOD OF IMAGING UNDERLAYER COMPOSITION
下層組成物および下層を像形成する方法 - 特許庁 - RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION AND RESIST UNDERLAYER FILM
レジスト下層膜形成用組成物およびレジスト下層膜 - 特許庁 - ROOF UNDERLAYER PANEL AND ROOF UNDERLAYER STRUCTURE
屋根下地用パネル及び屋根下地構造 - 特許庁 - UNDERLAYER SHEET FOR WATERPROOFING BUILDING ROOF
建物屋根の防水用下地シート - 特許庁 - To carry out appropriate underlayer removal in accordance with a tint of the underlayer by correcting from color information quantities of underlayer removal in accordance with a detected underlayer level.
検出下地レベルに応じた下地除去量を色情報から補正することにより、下地の色みに応じた適切な下地除去を行う。 - 特許庁 - COMPOSITION FOR UNDERLAYER FILM OF RESIST
レジスト下層膜用組成物 - 特許庁 - FLOOR STRUCTURE AND FLOOR UNDERLAYER PANEL
床構造体および床下地パネル - 特許庁 - WALL STRUCTURE AND WALL UNDERLAYER SHEET
壁構造及び壁下地シート - 特許庁 - COMPOUND UNDERLAYER PANEL FOR DOUBLE FLOOR
二重床用複合下地パネル - 特許庁 - UNDERLAYER STRUCTURE FOR ROOF GREENING
屋上緑化用下地構造 - 特許庁 - REINFORCING MATERIAL FOR OUTLET PART OF CLOTH UNDERLAYER
クロス下地コンセント部補強材 - 特許庁 - UNDERLAYER MEMBER FOR FIXING FUNCTIONAL MEMBER
機能部材固着用下地部材 - 特許庁 - WALL UNDERLAYER MATERIAL AND ITS MANUFACTURING PROCESS
壁下地材及びその製造方法 - 特許庁 - RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION
レジスト下層膜形成用組成物 - 特許庁 - COMPOSITION FOR RESIST UNDERLAYER FILM
レジスト下層膜用組成物 - 特許庁 - POLYMER FOR UNDERLAYER FILM, COMPOSITION FOR UNDERLAYER FILM, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR
下層膜用重合体、下層膜用組成物及び半導体の製造方法 - 特許庁 - COMPOSITION FOR RESIST UNDERLAYER FILM AND RESIST UNDERLAYER FILM USING THE SAME
レジスト下層膜用組成物及びこれを用いたレジスト下層膜 - 特許庁 - COMPOSITION FOR RESIST UNDERLAYER FILM FORMATION AND RESIST UNDERLAYER FILM USING THE SAME
レジスト下層膜形成用組成物、及びこれを用いたレジスト下層膜 - 特許庁 - COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM, RESIST UNDERLAYER FILM, AND FORMATION METHOD THEREOF
レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜及びその形成方法 - 特許庁 - The underlayer decision portion 44 corrects, based on the decision made by itself, the quantities of underlayer removal corresponding to the underlayer level detected from the luminance data.
また、下地判定部４４は、その判断結果に基づいて輝度データから検出された下地レベルに対する下地除去量を補正する。 - 特許庁 - A third underlayer 3 and a second underlayer 4 are successively formed and then a Ru layer is formed as a first underlayer 5.
続いて第３下地層３および第２下地層４を形成した後、第１下地層５としてＲu層を形成する。 - 特許庁 - RESIST UNDERLAYER FILM MATERIAL, METHOD FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM, PATTERNING METHOD, AND FULLERENE DERIVATIVE
レジスト下層膜材料、レジスト下層膜形成方法、パターン形成方法、フラーレン誘導体 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM, PATTERNING PROCESS USING THE SAME, AND RESIST UNDERLAYER FILM MATERIAL
レジスト下層膜形成方法、これを用いたパターン形成方法、及びレジスト下層膜材料 - 特許庁 - RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION FOR FORMING OPTICAL CROSSLINKING/CURING RESIST UNDERLAYER FILM
光架橋硬化のレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜形成組成物 - 特許庁 - NAPHTHALENE DERIVATIVE, RESIST UNDERLAYER FILM MATERIAL, RESIST UNDERLAYER FILM FORMING METHOD, AND PATTERN FORMING METHOD
ナフタレン誘導体、レジスト下層膜材料、レジスト下層膜形成方法及びパターン形成方法 - 特許庁 - COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM, RESIST UNDERLAYER FILM, AND PATTERN FORMATION METHOD
レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜及びパターン形成方法 - 特許庁 - RESIST UNDERLAYER FILM MATERIAL, RESIST UNDERLAYER FILM FORMING METHOD AND PATTERN FORMING METHOD
レジスト下層膜材料、レジスト下層膜形成方法、パターン形成方法 - 特許庁 - PRODUCTION OF COMPOSITION FOR UNDERLAYER FILM OF RESIST AND COMPOSITION FOR UNDERLAYER FILM OF RESIST
レジスト下層膜用組成物の製造方法およびレジスト下層膜用組成物 - 特許庁 - Neighboring underlayer impermeable liners 16 are stuck to each other through an underlayer impermeable liner-joining sheet 20.
隣接する下層遮水シート１６同士は、遮水下層連結シート２０を介して接合されている。 - 特許庁 - The method can further include a step of forming a first underlayer of titanium and a second underlayer of gold.
チタンからなる第１下地層と金からなる第２下地層をさらに備えることが好ましい。 - 特許庁 - The underlayer 8 has surface roughness in which ratio of the superficial area of the underlayer 8 to unit area is 1.25 or less.
下地層８は、単位面積に対する表面積の比が１．２５以下の表面粗さを備える。 - 特許庁 - Then, density of the first underlayer 6 and that of the second underlayer 7 are different with each other.
そして、第１の下地層６と第２の下地層７は、密度が互いに異なる。 - 特許庁 - SURFACE MATERIAL FOR UNDERLAYER SHEET FOR WATERPROOFING URETHANE COATING
ウレタン塗膜防水用下張りシート用表面材 - 特許庁 - UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION FOR MULTILAYER RESIST PROCESS
多層レジストプロセス用下層膜形成組成物 - 特許庁 - RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION CONTAINING POLYNUCLEAR PHENOL
多核フェノールを含むレジスト下層膜形成組成物 - 特許庁 - COMPOSITION FOR RESIST UNDERLAYER FILM, AND ITS MANUFACTURING METHOD
レジスト下層膜用組成物及びその製造方法 - 特許庁 - ELECTRON BEAM CURABLE RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION
電子線硬化のレジスト下層膜形成組成物 - 特許庁 - COMPOSITION FOR UNDERLAYER FILM OF RESIST AND ITS PRODUCTION
レジスト下層膜用組成物およびその製造方法 - 特許庁 - WATERPROOFING METHOD FOR NONWOVEN FABRIC SHEET UNDERLAYER PAINT FILM
不織布シート下張り塗膜防水工法 - 特許庁 - RESIST UNDERLAYER FILM MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD
レジスト下層膜材料およびパターン形成方法 - 特許庁 - RESIST UNDERLAYER FILM MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD
レジスト下層膜材料ならびにパターン形成方法 - 特許庁
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