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ambient‐pressure organicの英語
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The method for forming the thin film comprises supplying a thin-film-forming gas including an organometallic compound having an organic group containing a fluorine atom, onto a body to be treated; and, introducing a discharge gas into a discharge space under ambient pressure or a pressure around ambient pressure, exciting it, and supplying the exited discharge gas onto the body to be treated.例文帳に追加
フッ素原子を有する有機基を有する有機金属化合物を含有する薄膜形成ガスを被処理体に供給しながら、大気圧もしくは大気圧近傍の圧力下で、放電ガスを放電空間に導入して励起した励起放電ガスを、該被処理体に供給することを特徴とする薄膜形成方法。 - 特許庁
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