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The semiconductor device includes a structure comprising laminating a nitrogen-containing composition comprising azotizing an insulating composition, a fluorine-containing composition and a conductor, in this order, in a groove, a hole or both of the groove and the hole on the insulating composition.例文帳に追加
本半導体装置は、絶縁性組成物上の溝、穴または溝と穴の両方に、当該絶縁性組成物を窒化してなる窒素含有組成物とフッ素含有組成物と導体とがこの順に積層されてなる構造体を含む。 - 特許庁
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