ion etching technologyとは 意味・読み方・使い方

Subsequently, by using an Ar ion etching technology, in addition to normal lithographic technology, the Ni thin film 3 is formed into an Ni thin-film pattern 4 of a diffraction grating pattern by a two-dimensional photonic crystal, having a basic unit of a triangle of one piece of 230 nm with a column diameter of 100 nm (Fig.1(b)).例文帳に追加

続いて、通常のリソグラフィ技術にＡｒイオンエッチング技術を用いて、Ｎｉ薄膜３を、直径１００ｎｍの柱径で、一片が２３０ｎｍの三角形を基本単位とする２次元フォトニック結晶による回折格子パターン状のＮｉ薄膜パターン４に形成する（図１（ｂ））。 - 特許庁