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A method for manufacturing the semiconductor integrated circuit device comprises the steps of detecting a vibration generated from the wafer 7 during polishing by a vibration monitor 9 installed in a polishing head 3 and detecting the scratch damage to the polishing surface of the wafer 7 by the polishing.例文帳に追加
研磨中にウエハ７から発生する振動を、研磨ヘッド３内に設置された振動モニタ９によって検出することにより、研磨処理によってウエハ７の研磨面に引っ掻き傷が発生したことを検出するようにした。 - 特許庁
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