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pulsed reaction methodとは 意味・読み方・使い方
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「pulsed reaction method」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 1件
The objective etching method comprises alternately introducing a reactive gas and an inert gas into a reaction chamber 1 in a pulsed way, and applying a high-frequency power to a stage 4, only when introducing the inert gas into the reaction chamber 1.例文帳に追加
本発明のエッチング方法は、反応性ガスと希ガスとを交互にパルスで反応室1内に導入し、希ガスを反応室1内に導入するときにのみステージ4に高周波電力を印加することを特徴とするものである。 - 特許庁
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1
パルス反応法
日英・英日専門用語
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