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「tem characterization」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 1件
The method for photoresist characterization includes a step 102 of forming a photoresist on a supportive structure, a step 104 of baking the photoresist, a step 106 of staining the photoresist with a staining agent, and a step 108 of characterizing the photoresist using at least one of TEM, SEM and AFM.例文帳に追加
フォトレジストの特性化方法は、支持構造上にフォトレジストを形成する工程１０２と、フォトレジストをベーキングする工程１０４と、フォトレジストを染色剤により染色する工程１０６と、ＴＥＭ、ＳＥＭおよびＡＦＭのうちの少なくとも１つを利用し、フォトレジストを特性化する工程１０８と、を含む。 - 特許庁
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