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急速熱化学蒸着の部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1件
半導体デバイスの製造プロセスにおいて、基板の表面を、窒化膜を形成する急速熱化学蒸着（ＲＴＣＶＤ）プロセスに暴露する段階を含む方法を示す。例文帳に追加
In the manufacturing process of a semiconductor device, a method is indicated, where the method includes a step for exposing the surface of the substrate to a rapid thermochemical vapor deposition(RTCVD). - 特許庁
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