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痕跡量レベルの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1件
痕跡レベルの四塩化ジルコニウム又は四塩化ハフニウム不純物を含有している四塩化チタン供給原料を、四塩化ジルコニウムまたは四塩化ハフニウムをより低揮発性の化合物に変えるのに十分な量の水素化チタンと接触させるようにする。例文帳に追加
A titanium tetrachloride feedstock containing the trace of impurities of zirconium tetrachloride or hafnium tetrachloride is contacted with a sufficient amount of titanium hydride for converting zirconium tetrachloride or hafnium tetrachloride to a low volatility compound. - 特許庁
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